Invention Publication
- Patent Title: 具有Ni电镀膜的镀敷结构体和包含该镀敷结构体的引线框架
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Application No.: CN202180065149.6Application Date: 2021-12-21
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Publication No.: CN116324002APublication Date: 2023-06-23
- Inventor: 野村薫 , 铃木岳彦 , 松冈贵文
- Applicant: 松田产业株式会社
- Applicant Address: 日本东京都
- Assignee: 松田产业株式会社
- Current Assignee: 松田产业株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京都
- Agency: 中原信达知识产权代理有限责任公司
- Agent 杨海荣; 曲盛
- Priority: 2020-218234 20201228 JP
- International Application: PCT/JP2021/047335 2021.12.21
- International Announcement: WO2022/145290 JA 2022.07.07
- Date entered country: 2023-03-23
- Main IPC: C22C13/00
- IPC: C22C13/00

Abstract:
一种镀敷结构体,所述镀敷结构体包含:由Cu或Cu合金构成的基板、形成在基板上的Ni电镀膜、形成在Ni电镀膜上的Pd镀膜和形成在Pd镀膜上的Au镀膜,其中,所述Ni电镀膜含有0.01重量%以上且1.0重量%以下的P,当P含量为0.01重量%以上且小于0.05重量%时,所述Ni电镀膜的膜厚为0.1μm以上且10μm以下,当P含量为0.05重量%以上且小于0.2重量%时,所述Ni电镀膜的膜厚为0.06μm以上且10μm以下,当P含量为0.2重量%以上且1.0重量%以下时,所述Ni电镀膜的膜厚为0.01μm以上且10μm以下。本发明的课题在于提供一种具有焊料润湿性优异的Ni镀膜的镀敷结构体。
Public/Granted literature
- CN116324002B 具有Ni电镀膜的镀敷结构体和包含该镀敷结构体的引线框架 Public/Granted day:2025-02-21
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