本申请公开了一种晶圆双面镀膜装置及双工位晶圆镀膜装置，晶圆双面镀膜装置包括工作腔、载具和靶材，载具包括接料件、磁吸件、翻转驱动件和移动机构，载具承接晶圆后能够固定并翻转晶圆；通过可翻转的载具、配合靶材能够实现对晶圆正反两面的依次镀膜，载具通过磁吸件磁性吸附接料件，能够固定晶圆、方便晶圆进行定位翻转、并避免因为压力不稳定而压损晶圆，保证了晶圆翻面运动的可靠性；双工位晶圆镀膜装置包括工作腔、两组载具和靶材，两组载具沿竖直方向间隔设置在工作腔内，靶材设于两组载具之间、并具有两个靶面；通过设置双面靶材，并面向靶材分别设置一组载具，在一个工作腔内能够同时进行两组晶圆的双面镀膜，进一步提高了镀膜效率。