Invention Publication
- Patent Title: 一种基于激光沉积的金刚石膜玻璃基板制备装置及方法
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Application No.: CN202411722915.3Application Date: 2024-11-28
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Publication No.: CN119753619APublication Date: 2025-04-04
- Inventor: 东芳 , 欧阳宇航 , 蒋顺勇 , 侯冬杨 , 刘胜 , 吕婷 , 雷振扬
- Applicant: 武汉大学
- Applicant Address: 湖北省武汉市武昌区八一路299号
- Assignee: 武汉大学
- Current Assignee: 武汉大学
- Current Assignee Address: 湖北省武汉市武昌区八一路299号
- Agency: 武汉红观专利代理事务所
- Agent 黄鑫
- Main IPC: C23C16/27
- IPC: C23C16/27 ; C23C16/48 ; C23C16/52 ; C23C16/56 ; G06N20/00 ; G06F18/27 ; G06F123/02 ; G06N3/0442 ; G06N3/084

Abstract:
本发明提出了一种基于激光沉积的金刚石膜玻璃基板制备装置及方法,属于激光沉积领域,选取玻璃材料制备基板,并配置金刚石膜前驱体气体混合物;将基板设置在真空环境中,向真空环境内输送配置好的金刚石膜前驱体气体混合物,在基板表面实施激光沉积,使基板上均匀覆盖金刚石膜;对基板上沉积获得的金刚石膜进行退火和表面特性检测。本发明采用精确配置的前驱体气体混合物辅助真空环境下的激光沉积,减少了杂质和缺陷的产生,并通过控制激光参数与环境条件,优化了金刚石膜的生长过程,提高了基板的热膨胀性与稳定性。
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IPC分类: