Invention Publication
- Patent Title: 光电探测器和用于制造光电探测器的方法
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Application No.: CN202380068863.XApplication Date: 2023-09-26
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Publication No.: CN119908181APublication Date: 2025-04-29
- Inventor: S·利施克 , D·施特克勒 , F·戈茨
- Applicant: IHP有限责任公司-莱布尼茨高性能微电子研究所/莱布尼茨创新微电子研究所
- Applicant Address: 德国法兰克福
- Assignee: IHP有限责任公司-莱布尼茨高性能微电子研究所/莱布尼茨创新微电子研究所
- Current Assignee: IHP有限责任公司-莱布尼茨高性能微电子研究所/莱布尼茨创新微电子研究所
- Current Assignee Address: 德国法兰克福
- Agency: 北京市柳沈律师事务所
- Agent 刘蔚然
- Priority: 22199268.8 20220930 EP 22207291.0 20221114 EP
- International Application: PCT/EP2023/076561 2023.09.26
- International Announcement: WO2024/068643 EN 2024.04.04
- Date entered country: 2025-03-26
- Main IPC: H10F30/223
- IPC: H10F30/223 ; H10F77/40 ; H10F77/122 ; H10F77/14 ; H10F71/00 ; G02B6/12

Abstract:
本发明涉及一种用于探测电磁辐射的光电探测器。光电探测器包括横向光电二极管和SiN波导。横向光电二极管包括原位p掺杂接触区(112)、原位n掺杂接触区(114)以及沿横向堆叠方向(109)夹在p掺杂接触区和n掺杂接触区之间的本征掺杂光敏区(108)。SiN波导(102)包括SiN并且被配置为沿着传播方向(104)引导电磁辐射,SiN波导沿着垂直于横向堆叠方向(109)的垂直堆叠方向(107)布置在横向光电二极管的顶部。光敏区的至少一部分和SiN波导的至少一部分形成公共上界面(116),在该公共上界面处光敏区与SiN波导直接接触。此外,光敏区(108)沿着横向堆叠方向具有300nm或更小的横向宽度(110)。
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