REINIGUNGSVERFAHREN UND REINIGUNGSFLÜSSIGKEIT FÜR BELÜFTERKÖRPER
    1.
    发明公开
    REINIGUNGSVERFAHREN UND REINIGUNGSFLÜSSIGKEIT FÜR BELÜFTERKÖRPER 有权
    清洗工艺和清洗液BELÜFTERKÖRPER

    公开(公告)号:EP1472019A1

    公开(公告)日:2004-11-03

    申请号:EP03702182.1

    申请日:2003-01-16

    Applicant: Frey, Wilhelm

    Inventor: Frey, Wilhelm

    Abstract: Disclosed is a method for cleaning aeration elements (1) provided with pores or bores in aerated basins (2) of wastewater treatment plants or water treatment plants. The aeration field (4) formed by the aeration elements (1) and the pipes (3) connecting said aeration elements to each other is completely filled with a cleaning agent in a fluid form by applying pressure that is high enough to send said cleaning agent through the pores or bores of the aeration elements (1). After applying the cleaning fluid on the pores or bores of the aeration elements (1) for a variable amount of time, the aeration field (4) is emptied again. In a further optional cleaning step, the aeration field (4) is cleaned once again with a rinsing fluid, preferably water. Also disclosed are the use of an alkaline cleaning agent with a pH value of at least 10, preferably 12, and advantageous compositions of the cleaning fluid used for cleaning aeration elements.

    REINIGUNGSVERFAHREN UND REINIGUNGSFLÜSSIGKEIT FÜR BELÜFTERKÖRPER
    2.
    发明授权
    REINIGUNGSVERFAHREN UND REINIGUNGSFLÜSSIGKEIT FÜR BELÜFTERKÖRPER 有权
    清洗工艺和清洗液BELÜFTERKÖRPER

    公开(公告)号:EP1472019B1

    公开(公告)日:2006-03-15

    申请号:EP03702182.1

    申请日:2003-01-16

    Applicant: Frey, Wilhelm

    Inventor: Frey, Wilhelm

    Abstract: Disclosed is a method for cleaning aeration elements (1) provided with pores or bores in aerated basins (2) of wastewater treatment plants or water treatment plants. The aeration field (4) formed by the aeration elements (1) and the pipes (3) connecting said aeration elements to each other is completely filled with a cleaning agent in a fluid form by applying pressure that is high enough to send said cleaning agent through the pores or bores of the aeration elements (1). After applying the cleaning fluid on the pores or bores of the aeration elements (1) for a variable amount of time, the aeration field (4) is emptied again. In a further optional cleaning step, the aeration field (4) is cleaned once again with a rinsing fluid, preferably water. Also disclosed are the use of an alkaline cleaning agent with a pH value of at least 10, preferably 12, and advantageous compositions of the cleaning fluid used for cleaning aeration elements.

    HOCHDRUCKSENSOR
    3.
    发明申请
    HOCHDRUCKSENSOR 审中-公开
    高压传感器

    公开(公告)号:WO2010130478A1

    公开(公告)日:2010-11-18

    申请号:PCT/EP2010/053201

    申请日:2010-03-12

    CPC classification number: G01L19/147 G01L19/0672

    Abstract: Es wird ein Aufbaukonzept für Hochdrucksensoren vorgeschlagen, das eine einfache und kostengünstige Herstellung von zuverlässigen Hochdrucksensoren auch für Druckbereiche oberhalb 2200 bar ermöglicht. Ein derartiger Hochdrucksensor (10) umfasst ein Sensorelement (1) zur Druckerfassung und ein Anschlussstück (2) zur Ankopplung des Sensorelements (1) an ein Messsystem, wobei im Grundkörper (11) des Sensorelements (1) eine Membran (13) über einer Sacköffnung (12) ausgebildet ist, wobei im Grundkörper (21 ) des Anschlussstücks (2) ein Druckkanal (22) ausgebildet ist, und wobei das Sensorelement (1) so auf dem Anschlussstück (2) montiert ist, dass die Membran (13) über den in die Sacköffnung (12) mündenden Druckkanal (22) mit einem Messdruck beaufschlagbar ist. Erfindungsgemäß ist die Sacköffnung (12) im Grundkörper (11) des Sensorelements (1) zumindest in einem Abschnitt konisch auf die Membran (13) zulaufend ausgebildet und das dem Sensorelement (1) zugewandte Ende (23) des Druckkanals (22) ist rohrförmig ausgebildet. Dieses rohrförmige Ende (23) des Druckkanals (22) ist in die Sacköffnung (12) eingepresst, so dass die Rohrwandung zumindest in einem Umfangsbereich dichtend gegen die Seitenwandung der Sacköffnung (12) gepresst ist.

    Abstract translation: 提出了一种用于高压力传感器的结构的概念,其允许可靠的高的压力传感器的简单且成本有效地制造用于压力范围以上2200巴。 如此高的压力传感器(10)包括传感器元件(1),用于感测压力和用于将传感器元件(1)连接到一个测量系统的连接件(2),其特征在于通过盲孔传感器元件(1)的膜(13)的基体(11) (12)形成,其中所述连接件(2)的基体(21)形成的压力通路(22),并且其中,在所述连接件(2)的传感器元件(1)被安装成使得所述膜(13)在所述 到盲孔(12)打开所述压力通道(22)由一个测量压力作用。 根据本发明的传感器元件(1)至少形成在一个部分逐渐变细的圆锥形的隔膜(13)的在所述基体的袋开口(12)(11)和面对所述压力通道中的传感器元件(1)端部(23)(22)是管状的 , 压力通道(22)插入到盲孔(12)的该管状端部(23)被按下,从而使管壁在周缘部密封抵靠所述袋开口(12)的侧面推压至少。

    REINIGUNGSVERFAHREN UND REINIGUNGSFLÜSSIGKEIT FÜR BELÜFTERKÖRPER
    4.
    发明申请
    REINIGUNGSVERFAHREN UND REINIGUNGSFLÜSSIGKEIT FÜR BELÜFTERKÖRPER 审中-公开
    清洗工艺和清洗液BELÜFTERKÖRPER

    公开(公告)号:WO2003059537A1

    公开(公告)日:2003-07-24

    申请号:PCT/AT2003/000015

    申请日:2003-01-16

    Abstract: Verfahren zur Reinigung von mit Poren oder Bohrungen versehenen Belüfterelementen (1) in belüfteten Becken (2) von Abwasserreinigungs- oder Wasseraufbereitungsanlagen, wobei das von den Belüfterelementen (1) und den sie verbindenden Rohrleitungen (3) gebildete Belüfterfeld (4) mit einem Reinigungsmittel in flüssiger Form und unter Druckverhältnissen, die den Durchtritt der Reinigungsflüssigkeit durch die Poren oder Bohrungen der Belüfterelemente (1) bewirken, vollständig befüllt wird, in einem weiteren Reinigungsschritt nach einer variablen Einwirkzeit der Reinigungsflüssigkeit auf die Poren oder Bohrungen der Belüfterelemente (1) das Belüfterfeld (4) wieder entleert wird und wahlweise in einem weiteren Reinigungsschritt das Belüfterfeld (4) mit einer Spülflüssigkeit, vorzugsweise Wasser, nachgereinigt wird. Erfindungsgemäss wird die Verwendung eines alkalischen Reinigungsmittel mit einem pH-Wert von mindestens 10, vorzugsweise 12, beschrieben. Vorteilhafte Zusammensetzungen der Reinigungslösung zur Reinigung von Belüfterelementen werden vorgeschlagen.

    Abstract translation: 在曝气罐废水处理或水处理系统2设置有孔或孔充气器1用于纯化的方法,所述充气器1和连接管与液体形式和压力条件下该通道的清洗剂形成3曝气器4 造成清洁通过扩散器元件1的孔或孔的液体,被完全填充,充气器4以进一步清洗步骤中再次排空在进一步的纯化步骤在所述扩散器元件1和任选的孔或孔的清洗液的可变反应时间后,充气器4以 冲洗液,优选水,被清洁。 根据本发明,使用一种碱性清洗剂的pH为至少10,优选12描述 用于清洁曝气元件清洗液的有利的组合物,提出了。

    ANTI-STICTION TECHNIQUE FOR ELECTROMECHANICAL SYSTEMS AND ELECTROMECHANICAL DEVICE EMPLOYING SAME
    5.
    发明申请
    ANTI-STICTION TECHNIQUE FOR ELECTROMECHANICAL SYSTEMS AND ELECTROMECHANICAL DEVICE EMPLOYING SAME 审中-公开
    机电系统的防伪技术及其使用的电子设备

    公开(公告)号:WO2006115592A8

    公开(公告)日:2007-11-01

    申请号:PCT/US2006008600

    申请日:2006-03-10

    Abstract: A mechanical structure is disposed in a chamber, at least a portion of which is defined by the encapsulation structure. A first method provides a channel cap having at least one preform portion disposed over or in at least a portion of an anti-stiction channel to seal the anti-stiction channel, at least in part. A second method provides a channel cap having at least one portion disposed over or in at least a portion of an anti-stiction channel to seal the anti-stiction channel, at least in part. The at least one portion is fabricated apart from the electromechanical device and thereafter affixed to the electromechanical device. A third method provides a channel cap having at least one portion disposed over or in at least a portion of the anti-stiction channel to seal an anti-stiction channel, at least in part. The at least one portion may comprise a wire ball, a stud, metal foil or a solder preform. A device includes a substrate, an encapsulation structure and a mechanical structure. An anti-stiction layer is disposed on at least a portion of the mechanical structure. An anti-stiction channel is formed in at least one of the substrate and the encapsulation structure. A cap has at least one preform portion disposed over or in at least a portion of the anti-stiction channel to seal the anti-stiction channel, at least in part.

    Abstract translation: 机械结构设置在室中,其至少一部分由封装结构限定。 第一种方法提供了一种通道盖,其具有至少部分地设置在防静电通道上方或至少一部分中的至少一个预制件部分,以密封抗静电通道。 第二种方法提供了通道盖,其具有至少部分地设置在防静电通道上方或至少一部分中的至少一部分,以密封抗静脉通道。 该至少一个部分与机电装置分开制造,然后固定在机电装置上。 第三种方法提供了通道盖,其具有至少部分地设置在抗静电通道上方或至少一部分中的至少一个部分,以密封抗静脉通道。 所述至少一个部分可以包括线球,螺柱,金属箔或焊料预制件。 一种器件包括衬底,封装结构和机械结构。 抗静电层设置在机械结构的至少一部分上。 在基板和封装结构中的至少一个中形成抗静电通道。 至少部分地,盖具有至少一个预制件部分设置在防静电通道的上方或其至少一部分中,以密封抗静电通道。

    SENSOR FOR CAPACITIVELY RECORDING AN ACCELERATION
    6.
    发明申请
    SENSOR FOR CAPACITIVELY RECORDING AN ACCELERATION 审中-公开
    传感器电容录音加速

    公开(公告)号:WO1998011443A1

    公开(公告)日:1998-03-19

    申请号:PCT/DE1997001898

    申请日:1997-08-30

    CPC classification number: G01P15/125 G01P2015/0814

    Abstract: A sensor for capacitively recording an acceleration has at least two interdigital capacitors (3, 5), each pair of capacitors having electrodes (7, 9) with a plurality of elongated fingers (11) which at least partially mesh with each other. One of the electrodes (9) can be shifted and is coupled to a deflectable seismic mass (13). The invention is characterised in that the electrodes (7, 9) are arranged in such a way that when one electrode (9) is deflected the fingers (11) move in parallel towards each other, their spacing (d) transversely to the direction of deflection remaining substantially constant while their overlapping (1) changes. The two interdigital capacitors are arranged relative to each other in such a way that during acceleration the capacity value of one capacitor increases and that of the other decreases.

    Abstract translation: 本发明涉及一种传感器,其用于电容性地接收具有至少两个叉指式电容器(3,5),每两个的多个细长指(11),其具有电极(7,9),其中,所述指状物(11)至少部分地加速 目和所述电极中的一个(9)是可移动的,并与被连接到可动电极的可偏转地震质量(13)(9)。 本发明的特征在于,所述电极(7,9)被布置成使得手指(11)的移动彼此平行时的电极(9),其间距(d)的横向偏转恒定的偏转方向大致 保持和重叠(1)被改变,并且,这两个叉指式电容器被布置成彼此增加在电容器的电容值的加速度,并降低了其他。

    IN-PLANE MECHANICALLY COUPLED MICROELECTROMECHANICAL TUNING FORK RESONATORS
    7.
    发明申请
    IN-PLANE MECHANICALLY COUPLED MICROELECTROMECHANICAL TUNING FORK RESONATORS 审中-公开
    平面机械耦合微电子机械调谐器谐振器

    公开(公告)号:WO2007046869A2

    公开(公告)日:2007-04-26

    申请号:PCT/US2006/019531

    申请日:2006-05-19

    Abstract: There are many inventions described and illustrated herein, as well as many aspects and embodiments of those inventions. In one aspect, the present invention is directed to a resonator architecture including a plurality of in-plane vibration microelectromechanical resonators (for example, 2 or 4 resonators) that are mechanically coupled to provide, for example, a differential signal output. In one embodiment, the present invention includes four commonly shaped microelectromechanical tuning fork resonators (for example, tuning fork resonators having two or more rectangular-shaped or square-shaped tines). Each resonator is mechanically coupled to another resonator of the architecture. For example, each resonator of the architecture is mechanically coupled to another one of the resonators on one side or a corner of one of the sides. In this way, all of the resonators, when induced, vibrate at the same frequency.

    Abstract translation: 这里描述和示出了许多发明,以及这些发明的许多方面和实施例。 在一个方面,本发明涉及一种包括机械耦合以提供例如差分信号输出的多个平面内振动微机电谐振器(例如,2或4个谐振器)的谐振器结构。 在一个实施例中,本发明包括四个通常形状的微机电音叉谐振器(例如,具有两个或更多个矩形或正方形形状的叉的音叉谐振器)。 每个谐振器机械耦合到该架构的另一谐振器。 例如,该架构的每个谐振器在其中一个侧面的一侧或拐角上机械耦合到另一个谐振器。 以这种方式,所有谐振器在被感应时以相同的频率振动。

    METHOD FOR PRODUCING SURFACE MICROMECHANICAL STRUCTURES, AND SENSOR
    8.
    发明申请
    METHOD FOR PRODUCING SURFACE MICROMECHANICAL STRUCTURES, AND SENSOR 审中-公开
    方法:用于产生表面细观结构和SENSOR

    公开(公告)号:WO02062698A3

    公开(公告)日:2003-07-17

    申请号:PCT/DE0200397

    申请日:2002-02-04

    Abstract: The invention relates to a method for producing surface micromechanical structures having a high aspect ratio. At least one sacrificial layer (20) is provided between a substrate (30) and a functional layer (10). Trenches (60, 61) are provided in said functional layer (10) by means of a plasma etching process, said trenches uncovering at least some surface areas (21, 22) of the sacrificial layer (20). According to the invention, a further layer (70) is deposited at least partially on the lateral walls of the trenches, but not on the uncovered surface areas (21, 22) of the sacrificial layer (20), in order to increase the aspect ratio of said trenches. The invention also relates to a sensor, especially an acceleration or rotational rate sensor.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于制造表面微机械结构具有高的纵横比,其特征在于,在基板(30)和一个功能层(10)的至少一个牺牲层(20)之间设置,其特征在于,在所述功能层(10)(由Palsma蚀刻沟槽 60,61)被提供,其中至少所述牺牲层(20)的某些表面区域(21,22)暴露。 根据本发明,在为了扩大至少在沟槽的侧壁上的部分的沟槽的深宽比但没有在牺牲层(20)的暴露表面区域(21,22),另外的层(70)沉积。 此外,本发明涉及一种,特别是加速或旋转速率传感器。

    VERFAHREN ZUM ERZEUGEN VON OBERFLÄCHENMIKROMECHANIKSTRUKTUREN UND SENSOR
    9.
    发明申请
    VERFAHREN ZUM ERZEUGEN VON OBERFLÄCHENMIKROMECHANIKSTRUKTUREN UND SENSOR 审中-公开
    方法:用于产生表面细观结构和SENSOR

    公开(公告)号:WO2002062698A2

    公开(公告)日:2002-08-15

    申请号:PCT/DE2002/000397

    申请日:2002-02-04

    Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Erzeugen von Oberflächenmikromechanikstrukturen mit hohem Aspektverhältnis, bei dem zwischen einem Substrat (30) und einer Funktionsschicht (10) zumindest eine Opferschicht (20) vorgesehen wird, wobei in der Funktionsschicht (10) durch einen Palsma-Ätzprozess Gräben (60, 61) vorgesehen werden, von denen zumindest einige Oberflächenbereiche (21, 22) der Opferschicht (20) freilegen. Erfindungsgemäss ist vorgesehen, dass zur Vergrösserung des Aspektverhältnisses der Gräben zumindest abschnittsweise auf den Seitenwände der Gräben, nicht jedoch auf den freigelegten Oberflächenbereichen (21, 22) der Opferschicht (20), eine weitere Schicht (70) abgeschieden wird. Weiterhin betrifft die Erfindung einen, insbesondere eine Beschleunigungs- oder Drehratensensor.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于制造表面微机械结构具有高的纵横比,其特征在于,在基板(30)和一个功能层(10)的至少一个牺牲层(20)之间设置,其特征在于,在所述功能层(10)(由Palsma蚀刻沟槽 60,61)被提供,其中至少所述牺牲层(20)的某些表面区域(21,22)暴露。 根据本发明,在为了扩大至少在沟槽的侧壁上的部分的沟槽的深宽比但没有在牺牲层(20)的暴露表面区域(21,22),另外的层(70)沉积。 此外,本发明涉及一种,特别是加速或旋转速率传感器。

    THERMAL MEMBRANE SENSOR AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF
    10.
    发明申请
    THERMAL MEMBRANE SENSOR AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF 审中-公开
    热膜传感器及其生产方法

    公开(公告)号:WO9927325A2

    公开(公告)日:1999-06-03

    申请号:PCT/DE9803444

    申请日:1998-11-23

    CPC classification number: G01F1/6845 G01K7/028

    Abstract: The invention relates to a method for producing a membrane sensor, especially a thermal membrane sensor, over a silicon substrate (1). A thin layer (4) comprised of silicon carbide or silicon nitride is deposited over an area (2) made of porous silicon which is configured in the surface of the substrate (1). Openings (5, 7) are then formed in said silicon carbide or silicon nitride layer (4), said layer extending to the porous silicon layer (2), by means of a dry etching method. Afterwards, semiconductor and circuit-board structures (6) are implanted in the upper surface of the membrane layer (4) by means of lithographic steps and the sacrificial layer (2) comprised of porous silicon is then removed by a suitable solvent, for example ammoniac. As a result, a cavity (8) is produced underneath the membrane layer (4) which thermally decouples the sensor membrane from the substrate (1).

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于在硅衬底(1)上,特别是热膜传感器上制造膜传感器的方法。 在基板(1)区域的表面上形成碳化硅或氮化硅的薄层(4)(2)多孔硅的沉积,然后通过干法蚀刻开口(5,7)(在该碳化硅或氮化硅层4 ),其延伸到多孔氮化硅层(2)。 随后,通过平版印刷步骤的半导体和导体轨道结构(6)注入到薄膜层的(4),然后该牺牲层(2)用合适的溶剂多孔硅的,例如上表面 氨,删除。 这在膜层(4)的下面形成将传感器膜与基板(1)热分离的空腔(8)。

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