感光化射线性或感辐射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法

    公开(公告)号:CN113168099A

    公开(公告)日:2021-07-23

    申请号:CN202080006354.0

    申请日:2020-01-17

    Abstract: 本发明提供一种能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感辐射线性树脂组合物。并且,提供一种使用了上述感光化射线性或感辐射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及包括上述图案形成方法的电子器件的制造方法。感光化射线性或感辐射线性树脂组合物包含:树脂A,通过酸的作用而极性增大;树脂B,包含选自由含有氟原子且在酸的作用下极性增大的树脂B1、含有氟原子且在碱的作用下极性增大的树脂B2、及含有氟原子且在酸的作用和碱的作用中的任一作用下极性都增大的树脂B3组成的组中的1种以上;以及化合物,通过光化射线或辐射线的照射而产生酸,通过上述光化射线或辐射线的照射而产生酸的化合物包含选自由化合物(I)~化合物(III)组成的组中的1种以上,其中,上述树脂B1~上述树脂B3不包含含有离子键合性基团的重复单元。

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