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公开(公告)号：CN118451368A
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202280081178.6
申请日：2022-11-30
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种在形成极微细的图案时的LWR性能及分辨率优异的感光化射线性或感放射线性树脂组合物、使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含含有阴离子及具有特定取代基的阳离子的化合物(N)和通过酸的作用分解而极性增大的树脂(A)。
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公开(公告)号：CN113168098A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN202080006340.9
申请日：2020-01-08
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004
Abstract: 本发明提供一种能够形成缺陷被抑制的图案的感光化射线性或感辐射线性树脂组合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感辐射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。感光化射线性或感辐射线性树脂组合物包含酸分解性树脂以及通过光化射线或辐射线的照射而产生酸的化合物，上述通过光化射线或辐射线的照射而产生酸的化合物包含：选自由化合物(I)～化合物(III)组成的组中的1种以上；以及选自由以通式(1)表示的化合物及由通式(2)表示的化合物组成的组中的1种以上。
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公开(公告)号：CN112368640B
公开(公告)日：2025-02-07
申请号：CN201980039802.4
申请日：2019-07-01
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C07C309/07 , C07C309/09 , C07C381/12 , C09K3/00 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , C07D235/18 , C07D307/00 , C07D307/33 , C07D327/06
Abstract: 本发明提供一种可获得LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种涉及上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含：光产酸剂A，其产生通式(I)所表示且pKa为‑1.00以上的酸；选自由产生pKa比由光产酸剂A产生的酸大1.00以上的酸的光产酸剂B、及共轭酸的pKa比由光产酸剂A产生的酸大1.00以上的含氮化合物C组成的组中的1种以上；以及酸分解性树脂，在包含产生pKa小于‑1.00的酸的光产酸剂D情况下，光产酸剂A的含有摩尔数相对于光产酸剂D的含有摩尔数之比为1.0以上。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN113168100B
公开(公告)日：2024-12-17
申请号：CN202080006371.4
申请日：2020-01-14
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种即使在长期保存情况下也能得到LWR性能优异的图案的感光化射线性或感辐射线性树脂组合物。并且，提供一种与上述感光化射线性或感辐射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感辐射线性树脂组合物包含由通式(I)表示的化合物和酸分解性树脂。M1+A‑‑L‑B‑M2+ (I)
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公开(公告)号：CN113166312A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN202080006761.1
申请日：2020-01-16
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够形成分辨率优异且LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含树脂以及通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物，其中，由式(1)求出的A值为0.130以上，且通过上述光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物包含选自由化合物(I)～化合物(III)组成的组中的1种以上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103781755A
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201280043114.3
申请日：2012-09-05
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G02B1/14 , C09K19/3838 , C09K19/50 , C09K2019/0448 , C09K2019/2078 , C09K2219/03 , G02B1/10 , G02B1/105 , G02B1/11 , G02B5/208 , G02B5/3016 , G02B5/3083 , G03H2001/0264 , C09K19/2007 , C08F222/10 , C08F2222/102 , C08J5/18 , C08J2335/02 , C08F2222/1013
Abstract: 由通式(I)表示的聚合性液晶化合物可用作对于防止用聚合性液晶(II)或与其类似的聚合性液晶涂布后的晶体沉积有效的添加剂。在式中，P表示聚合性官能团；Sp表示间隔基团或单键；Z1和Z2各自表示-CO-O-；R0表示具有1～15个碳原子的直链烷基；R2、R3和R4各自独立地表示具有1～4个碳原子的烷基、具有1～4个碳原子的烷氧基、具有2～5个碳原子的烷氧基羰基、具有2～5个碳原子的酰氧基、具有2～4个碳原子的酰基、具有2～5个碳原子的酰胺基、氰基、氨基、羟基或卤素原子；r1、r2和r3表示0～4的整数，当r1、r2和r3各自为2以上时，则各R2部分、各R3部分和各R4部分能够分别相同或不同。在此情况中，当R0是甲基时，则r2不是1。
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公开(公告)号：CN113168098B
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202080006340.9
申请日：2020-01-08
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004
Abstract: 本发明提供一种能够形成缺陷被抑制的图案的感光化射线性或感辐射线性树脂组合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感辐射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。感光化射线性或感辐射线性树脂组合物包含酸分解性树脂以及通过光化射线或辐射线的照射而产生酸的化合物，上述通过光化射线或辐射线的照射而产生酸的化合物包含：选自由化合物(I)～化合物(III)组成的组中的1种以上；以及选自由以通式(1)表示的化合物及由通式(2)表示的化合物组成的组中的1种以上。
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公开(公告)号：CN113366081A
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202080011046.7
申请日：2020-01-10
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种长期保存时的保存稳定性优异的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种与上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含由通式(I)表示的化合物和酸分解性树脂。M1+A‑‑L‑B‑M2+ (I)。
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公开(公告)号：CN103781755B
公开(公告)日：2016-09-07
申请号：CN201280043114.3
申请日：2012-09-05
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G02B1/14 , C09K19/3838 , C09K19/50 , C09K2019/0448 , C09K2019/2078 , C09K2219/03 , G02B1/10 , G02B1/105 , G02B1/11 , G02B5/208 , G02B5/3016 , G02B5/3083 , G03H2001/0264
Abstract: 由通式(I)表示的聚合性液晶化合物可用作对于防止用聚合性液晶(II)或与其类似的聚合性液晶涂布后的晶体沉积有效的添加剂。在式中，P表示聚合性官能团；Sp表示间隔基团或单键；Z1和Z2各自表示‑CO‑O‑；R0表示具有1～15个碳原子的直链烷基；R2、R3和R4各自独立地表示具有1～4个碳原子的烷基、具有1～4个碳原子的烷氧基、具有2～5个碳原子的烷氧基羰基、具有2～5个碳原子的酰氧基、具有2～4个碳原子的酰基、具有2～5个碳原子的酰胺基、氰基、氨基、羟基或卤素原子；r1、r2和r3表示0～4的整数，当r1、r2和r3各自为2以上时，则各R2部分、各R3部分和各R4部分能够分别相同或不同。在此情况中，当R0是甲基时，则r2不是1。
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公开(公告)号：CN103702971B
公开(公告)日：2015-12-23
申请号：CN201280036066.5
申请日：2012-07-03
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C07C69/94 , C09K19/54 , G02F1/13363
CPC classification number: C09K19/54 , C07C69/92 , C09K19/2007 , C09K19/322 , C09K19/3475 , C09K19/588 , C09K2019/0429 , C09K2019/044 , C09K2019/2078
Abstract: 下式(1)表示的化合物具有足够的溶解性、广泛可用的浓度范围和优异的雾度降低性能。在该式中，L1～L6表示单键、-O-、-CO-、-COO-等；Sp1～Sp4表示单键或1～10个碳原子的亚烷基；A1和A2表示三价或四价芳香族烃基或杂环基；T表示下式等；Hb表示2～30个碳原子的全氟烷基；m和n为2或3；o和p为0以上的整数。(Hb-Sp1-L1-Sp2-L2)m-A1-L3-T-L4-A2-(L5-Sp3-L6-Sp4-Hb)n (1)
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