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公开(公告)号：CN114375421B
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202080060142.0
申请日：2020-07-29
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种用于能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的树脂以及作为其单体的化合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有树脂X，所述树脂X含有来源于下述化合物的重复单元。化合物：其含有2个以上由阴离子部位和阳离子部位构成的结构部位及聚合性基团，通过光化射线或放射线的照射产生含有来源于上述2个以上的结构部位中的上述阴离子部位的酸性部位的酸。
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公开(公告)号：CN112368640B
公开(公告)日：2025-02-07
申请号：CN201980039802.4
申请日：2019-07-01
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C07C309/07 , C07C309/09 , C07C381/12 , C09K3/00 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , C07D235/18 , C07D307/00 , C07D307/33 , C07D327/06
Abstract: 本发明提供一种可获得LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种涉及上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含：光产酸剂A，其产生通式(I)所表示且pKa为‑1.00以上的酸；选自由产生pKa比由光产酸剂A产生的酸大1.00以上的酸的光产酸剂B、及共轭酸的pKa比由光产酸剂A产生的酸大1.00以上的含氮化合物C组成的组中的1种以上；以及酸分解性树脂，在包含产生pKa小于‑1.00的酸的光产酸剂D情况下，光产酸剂A的含有摩尔数相对于光产酸剂D的含有摩尔数之比为1.0以上。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN113168100B
公开(公告)日：2024-12-17
申请号：CN202080006371.4
申请日：2020-01-14
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种即使在长期保存情况下也能得到LWR性能优异的图案的感光化射线性或感辐射线性树脂组合物。并且，提供一种与上述感光化射线性或感辐射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感辐射线性树脂组合物包含由通式(I)表示的化合物和酸分解性树脂。M1+A‑‑L‑B‑M2+ (I)
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公开(公告)号：CN117693716A
公开(公告)日：2024-03-12
申请号：CN202280049630.0
申请日：2022-07-11
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够形成分辨率优异、均匀性也优异的图案的图案形成方法及电子器件的制造方法。本发明的图案形成方法包括：抗蚀剂膜形成工序，使用相对于有机溶剂的溶解度通过曝光、酸、碱或加热的作用而增大的感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成抗蚀剂膜；曝光工序，对抗蚀剂膜进行曝光；以及显影工序，使用包含有机溶剂的显影液对曝光后的抗蚀剂膜进行显影，有机溶剂包含烃系溶剂和碳数6以下的酯系溶剂。
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公开(公告)号：CN115917431A
公开(公告)日：2023-04-04
申请号：CN202180039928.9
申请日：2021-05-19
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C08F220/28 , C08F220/12 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20
Abstract: 本发明的课题在于提供一种即使在长期保存后也能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，本发明的课题还在于提供一种与上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含通过酸的作用分解而极性增大的树脂及通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物，上述通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物包含选自化合物(I)及(III)中的1种以上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115769146A
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202180038836.9
申请日：2021-04-21
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , C07C303/22 , C07C309/06 , C07C309/17 , C07C381/12 , C09K3/00 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种可获得LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、电子器件的制造方法、化合物及化合物的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含具有含有通过酸的作用分解而极性增大的基团的重复单元的树脂，感光化射线性或感放射线性树脂组合物除树脂以外还包含具有至少一个由通式(1)表示的阳离子的化合物，或者树脂除重复单元以外还具有含有由通式(1)表示的阳离子的重复单元。(Rd1)m‑[Xd1]+‑(Ld1‑Ard1‑(S‑Xd2)p)n(1)
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公开(公告)号：CN109643064B
公开(公告)日：2022-07-26
申请号：CN201780052378.8
申请日：2017-07-14
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供即使将曝光的扫描速度设为超高速，也能够具有液浸液的高追随性并能够减少残渣和显影缺陷的感光化射线性或感放射线性树脂组合物等。感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有具有以通式(1)所表示的重复单元的树脂(C)。图案形成方法包含通过感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成膜的工序，电子器件的制造方法包含图案形成方法。通式(1)中，Z表示卤素原子、以R11OCH2－所表示的基团或以R12OC(＝O)CH2－所表示的基团。R11及R12表示一价取代基。X表示氧原子或硫原子。L表示(n+1)价的连结基团。R表示如下基团，该基团具有通过碱显影液的作用而分解并在碱显影液中的溶解度增大的基团。n表示正整数。
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公开(公告)号：CN113166327A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201980076001.5
申请日：2019-11-12
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C08F220/28 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20
Abstract: 本发明的课题在于提供一种所形成的图案的截面形状的矩形性优异，并且在制备后随着时间的经过，所形成的图案的线宽尺寸也不易发生变动的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，本发明的另一课题在于提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含：树脂，通过酸的作用分解而极性增大；化合物，通过光化射线或放射线的照射而产生酸；以及卤素系溶剂，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物中，相对于组合物的总质量，上述卤素系溶剂的含量为1质量ppb以上且50质量ppm以下。
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公开(公告)号：CN113166312A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN202080006761.1
申请日：2020-01-16
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够形成分辨率优异且LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含树脂以及通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物，其中，由式(1)求出的A值为0.130以上，且通过上述光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物包含选自由化合物(I)～化合物(III)组成的组中的1种以上。
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公开(公告)号：CN104395825B
公开(公告)日：2019-08-16
申请号：CN201380033027.4
申请日：2013-06-27
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/038 , C07C309/09 , C07C381/12 , C08F220/18 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/32
CPC classification number: G03F7/004 , C08F220/26 , C08F220/38 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/325
Abstract: 所提供的是一种形成图案的方法，所述方法包括：形成包含光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物的膜，所述光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物包含含有下列通式(I)的重复单元中的任一个的树脂(A)，所述树脂在酸的作用下降低其在包含有机溶剂的显影液中的溶解性，以及通过下列通式(B‑1)至(B‑3)中的任一个表示的化合物(B)，所述化合物当暴露于光化射线或辐射时产生酸；将所述膜暴露于光化射线或辐射；以及用包含有机溶剂的显影液将经曝光的膜显影从而获得负型图案。
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