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公开(公告)号：CN105070624B
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201510393832.9
申请日：2013-03-05
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01J27/24
CPC classification number: H01J27/24
Abstract: 提供无需解除下游侧设备的真空就能够更换靶材的离子源。靶材(13)配置在被排气成真空的真空容器(10)内，且通过激光的照射产生离子。具有输送管(17)、小孔(18)、中间电极(19)以及加速电极(20)的输送部将由靶材产生的离子朝与离子源连接的下游侧的设备输送。在更换配置于真空容器(10)内的靶材时，真空密封用盘(24)对输送部进行密封，以将真空容器(10)侧与下游侧的设备侧的真空分离。
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公开(公告)号：CN103295861B
公开(公告)日：2016-02-24
申请号：CN201310063330.0
申请日：2013-02-28
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01J27/24 , H01J49/161 , H01J49/162 , H01J49/164
Abstract: 本发明提供能不破坏真空条件地进行靶的补给的激光离子源。离子生成真空容器（110）被真空排气，被输送并配置通过激光的照射发生离子的靶（112）。阀（130）设置在离子生成真空容器（110）的侧面，在向离子生成真空容器110内输送靶（112）时打开，在输送时以外关闭。靶补给容器（120）通过阀（130）安装于离子生成真空容器（110），将靶（112）能移动地保持，能与离子生成真空容器（110）独立地真空排气。保持在靶补给容器（120）内的靶（112），在关闭了阀（130）的状态下将靶补给容器内真空排气之后，在打开了阀（130）的状态下被输送到离子生成真空容器（110）内。
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公开(公告)号：CN103313501A
公开(公告)日：2013-09-18
申请号：CN201310068783.2
申请日：2013-03-05
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H05H1/24
CPC classification number: H01J27/24
Abstract: 提供无需解除下游侧设备的真空就能够更换靶材的离子源。靶材（13）配置在被排气成真空的真空容器（10）内，且通过激光的照射产生离子。具有输送管（17）、小孔（18）、中间电极（19）以及加速电极（20）的输送部将由靶材产生的离子朝与离子源连接的下游侧的设备输送。在更换配置于真空容器（10）内的靶材时，真空密封用盘（24）对输送部进行密封，以将真空容器（10）侧与下游侧的设备侧的真空分离。
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公开(公告)号：CN103295861A
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN201310063330.0
申请日：2013-02-28
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01J27/24 , H01J49/161 , H01J49/162 , H01J49/164
Abstract: 本发明提供能不破坏真空条件地进行靶的补给的激光离子源。离子生成真空容器（110）被真空排气，被输送并配置通过激光的照射发生离子的靶（112）。阀（130）设置在离子生成真空容器（110）的侧面，在向离子生成真空容器110内输送靶（112）时打开，在输送时以外关闭。靶补给容器（120）通过阀（130）安装于离子生成真空容器（110），将靶（112）能移动地保持，能与离子生成真空容器（110）独立地真空排气。保持在靶补给容器（120）内的靶（112），在关闭了阀（130）的状态下将靶补给容器内真空排气之后，在打开了阀（130）的状态下被输送到离子生成真空容器（110）内。
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公开(公告)号：CN103313501B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201310068783.2
申请日：2013-03-05
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H05H1/24
CPC classification number: H01J27/24
Abstract: 提供无需解除下游侧设备的真空就能够更换靶材的离子源。靶材（13）配置在被排气成真空的真空容器（10）内，且通过激光的照射产生离子。具有输送管（17）、小孔（18）、中间电极（19）以及加速电极（20）的输送部将由靶材产生的离子朝与离子源连接的下游侧的设备输送。在更换配置于真空容器（10）内的靶材时，真空密封用盘（24）对输送部进行密封，以将真空容器（10）侧与下游侧的设备侧的真空分离。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103858202B
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201280042691.0
申请日：2012-08-28
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01J27/24 , H01J49/164
Abstract: 提供了一种离子源，所述离子源用于输出具有高纯度的多价正离子的离子束。所述离子源10包括：靶12，通过由激光照射形成的等离子体从所述靶12生成电子和正离子；第一电源(第一电压E1)，其将所述靶12的电势设置为高于正离子的目的地的电势；以及第二电源(第二电压E2)，其将从所述靶12到所述目的地18的路径的电势设置为高于靶12的电势。
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公开(公告)号：CN103069534B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201180039711.4
申请日：2011-10-25
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01J37/08 , H01J27/24 , H01J2237/022 , H01J2237/08 , H01J2237/186 , H01J2237/31701
Abstract: 离子源通过激光的照射而产生离子，其中，具备：容器(110)，被真空排气；照射箱(120)，配置在容器(110)内，收容有通过激光的照射而产生离子的靶(121)；离子束引出部(112)，从照射箱(120)静电地引出离子，并作为离子束向容器110的外部引导；阀(140)，设置在容器(110)的离子束的取出部，在离子束射出时打开，射出时以外关闭；以及闸门(150)，设置在阀(140)和照射箱(120)之间，离子束射出时间歇地打开，射出时以外关闭。由此，将激光照射时产生的微粒子关闭在容器(110)内，抑制微粒子向真空排气系统或与离子源连接的后级装置的流出。
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公开(公告)号：CN105070624A
公开(公告)日：2015-11-18
申请号：CN201510393832.9
申请日：2013-03-05
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01J27/24
CPC classification number: H01J27/24
Abstract: 提供无需解除下游侧设备的真空就能够更换靶材的离子源。靶材(13)配置在被排气成真空的真空容器(10)内，且通过激光的照射产生离子。具有输送管(17)、小孔(18)、中间电极(19)以及加速电极(20)的输送部将由靶材产生的离子朝与离子源连接的下游侧的设备输送。在更换配置于真空容器(10)内的靶材时，真空密封用盘(24)对输送部进行密封，以将真空容器(10)侧与下游侧的设备侧的真空分离。
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公开(公告)号：CN103858202A
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：CN201280042691.0
申请日：2012-08-28
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01J27/24 , H01J49/164
Abstract: 提供了一种离子源，所述离子源用于输出具有高纯度的多价正离子的离子束。所述离子源10包括：靶12，通过由激光照射形成的等离子体从所述靶12生成电子和正离子；第一电源(第一电压E1)，其将所述靶12的电势设置为高于正离子的目的地(对应于图1中的加速通道18)的电势；以及第二电源(第二电压E1)，其将从所述靶12到所述目的地18的路径(对应于图1中的滤波器电极15)的电势设置为高于靶12的电势。
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公开(公告)号：CN103069534A
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：CN201180039711.4
申请日：2011-10-25
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01J37/08 , H01J27/24 , H01J2237/022 , H01J2237/08 , H01J2237/186 , H01J2237/31701
Abstract: 激光/离子源通过激光的照射而产生离子，其中，具备：容器（110），被真空排气；照射箱（120），配置在容器（110）内，收容有通过激光的照射而产生离子的靶（121）；离子束引出部（112），从照射箱（120）静电地引出离子，并作为离子束向容器110的外部引导；阀（140），设置在容器（110）的离子束的取出部，在离子束射出时打开，射出时以外关闭；以及闸门（150），设置在阀（140）和照射箱（120）之间，离子束射出时间歇地打开，射出时以外关闭。由此，将激光照射时产生的微粒子关闭在容器（110）内，抑制微粒子向真空排气系统或与离子源连接的后级装置的流出。
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