公开(公告)号：CN108573843A

公开(公告)日：2018-09-25

申请号：CN201810187130.9

申请日：2018-03-07

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Inventor： 川口宏 ,  石田勇二

IPC: H01J37/08 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J37/32559 ,  C23C14/48 ,  H01J37/3171 ,  H01J37/32366 ,  H01J2237/038 ,  H01J37/08 ,  H01J2237/08 ,  H01J2237/31701

Abstract: 本发明提供一种能够抑制因污染粒子的堆积而引起的绝缘性能下降的绝缘结构。在将设置于离子注入装置的真空区域内部的电极与其他部件绝缘并支承该电极的绝缘结构中，第1绝缘部件(32)支承电极。第2绝缘部件(34)为了减少污染粒子(18)向第1绝缘部件(32)的附着而嵌合于第1绝缘部件(32)。第2绝缘部件(34)由硬度比第1绝缘部件(32)低的材料形成。第2绝缘部件(34)的外表面的维氏硬度为5GPa以下。第2绝缘部件(34)的弯曲强度为100MPa以下。第2绝缘部件(34)由包含氮化硼、多孔陶瓷及树脂中的至少一种的材料形成。

公开(公告)号：CN105453225B

公开(公告)日：2018-08-28

申请号：CN201480025344.6

申请日：2014-03-03

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： O·比尔 ,  J·D·斯威尼 ,  唐瀛 ,  R·S·雷

IPC: H01L21/265

CPC classification number: H01J37/3171 ,  C23C14/48 ,  H01J37/08 ,  H01J2237/006 ,  H01J2237/08 ,  H01L21/2225

Abstract: 描述了用于掺杂物的注入的离子注入组合物、系统和方法。描述了具体的硒掺杂源组合物，以及并流气体用以实现在注入系统特征方面的优势的用途，所述注入系统特征为例如方法转变、束稳定性、源寿命、束均匀性、束流和购置成本。

公开(公告)号：CN108020449A

公开(公告)日：2018-05-11

申请号：CN201710934117.0

申请日：2017-10-10

Applicant: FEI 公司

Inventor： G.德尔皮 ,  G.奥多伊特 ,  L.F.T.克瓦克曼 ,  C.鲁伊

IPC: G01N1/28

CPC classification number: G01N1/286 ,  G01N1/06 ,  G01N1/28 ,  H01J37/08 ,  H01J37/147 ,  H01J37/3056 ,  H01J2237/08 ,  H01J2237/3114 ,  H01J2237/31745 ,  G01N2001/2866

Abstract: 本申请涉及具有改进的速度、自动化和可靠性的断层摄影术样品制备系统和方法，具体公开了使用等离子体FIB上的创新研磨策略来创建用于x射线断层摄影术或其它断层摄影术扫描的样品柱。在方法、系统和可执行以执行本文中的策略的程序产品中提供该策略。研磨策略创建样品柱周围的不对称熔坑，并且提供单次切割切出过程。各种实施例可以包括根据像素坐标连同波束扫描和熔坑几何形状的优化来调谐离子剂量，从而大幅减少制备时间并且显著改进总体工作流效率。提供了具有新月形状和经优化的停留时间值的新颖切出研磨图案。

公开(公告)号：CN107078005A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201480082170.7

申请日：2014-09-25

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 绫淳

IPC: H01J27/08 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J37/3171 ,  H01J27/08 ,  H01J37/08 ,  H01J37/18 ,  H01J2237/006 ,  H01J2237/08

Abstract: 目的在于得到能够缩短固体材料的升华温度稳定化时间而提高工作效率的离子注入装置。离子注入装置具有：真空分隔壁(1)，其内部保持为真空；固体填充容器(3)，其整体配置于所述真空分隔壁(1)的内部，填充有固体材料(8)；加热器(7)，其使在所述固体填充容器(3)中填充的所述固体材料(8)升华而生成原料气体(9)；电弧室(6)，其将所述原料气体(9)离子化而作为离子束(11)射出；气体供给喷嘴(10)，其将所述原料气体(9)从所述固体填充容器(3)引导至所述电弧室(6)；以及支撑件(4)，其将所述固体填充容器(3)支撑固定于所述真空分隔壁(1)，所述支撑件(4)与所述真空分隔壁(1)及所述固体填充容器(3)相比导热性低。

公开(公告)号：CN105340050B

公开(公告)日：2017-06-06

申请号：CN201480035014.5

申请日：2014-07-11

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 上野敦史 ,  高须久幸 ,  武藤宏史

IPC: H01J37/16 ,  H01J37/18 ,  H01J37/20 ,  H01J37/30

CPC classification number: H01J37/08 ,  H01J37/16 ,  H01J37/18 ,  H01J37/20 ,  H01J37/3053 ,  H01J2237/006 ,  H01J2237/06 ,  H01J2237/08 ,  H01J2237/182 ,  H01J2237/1825 ,  H01J2237/184 ,  H01J2237/2001 ,  H01J2237/2002 ,  H01J2237/31749

Abstract: 本发明的离子铣削装置具备真空室(105)、进行该真空室内的真空排气的排气装置(101)、在上述真空室内支撑离子束所照射的试样(102)的试样台(103)、加热上述真空室内的加热装置(107)、向上述真空室内导入作为热介质的气体的气源(106)、控制该气源的控制装置(110)，该控制装置在由上述加热装置进行的加热时，以上述真空室内的压力为预定的状态的方式控制。由此，在冷却试样进行离子铣削后大气开放时，可在短时间内进行用于抑制产生的结露等的温度控制。

公开(公告)号：CN103460339B

公开(公告)日：2017-05-31

申请号：CN201280017012.4

申请日：2012-01-30

Applicant: 须贺唯知 ,  邦德泰克株式会社 ,  网络技术服务株式会社

Inventor： 须贺唯知 ,  山内朗 ,  近藤龙一 ,  松本好家

IPC: H01L21/02 ,  B23K20/00 ,  B23K20/14 ,  B23K20/16 ,  B23K20/24 ,  H01L23/15

CPC classification number: B32B38/08 ,  B23K1/20 ,  B23K20/24 ,  B23K2101/36 ,  B32B7/04 ,  H01J37/317 ,  H01J2237/08 ,  H01J2237/202 ,  H01J2237/3165 ,  H01L21/02046 ,  H01L21/2007 ,  H01L21/302 ,  H01L21/67092 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/76251 ,  H01L23/147 ,  H01L23/5252 ,  H01L2924/0002 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/31678 ,  H01L2924/00

Abstract: 本发明提供一种应用范围较广的基板接合技术。在接合面内形成硅薄膜，并利用能量粒子、金属粒子对基板与基板之间的交界处进行表面处理。

公开(公告)号：CN104078299B

公开(公告)日：2017-05-17

申请号：CN201310684864.5

申请日：2013-12-13

Applicant: 斯伊恩股份有限公司

Inventor： 佐藤正辉 ,  松下浩

IPC: H01J37/317 ,  H01B17/64

CPC classification number: H01J37/3171 ,  H01J37/248 ,  H01J2237/032 ,  H01J2237/036 ,  H01J2237/038 ,  H01J2237/08

Abstract: 本发明提供一种用于离子注入装置的高电压电极的绝缘结构。该高电压电极的绝缘结构具备：绝缘体（126），具备露出表面（128）；及导体部（130），具备与绝缘体（126）相接的接合区域（138）、及以与绝缘体（126）的露出表面（128）相邻的方式沿接合区域（138）的边缘部（142）的至少一部分而设的耐热部（150）。耐热部（150）由熔点高于导体部（130）的导电材料形成。耐热部（150）可以以与绝缘体（126）的露出表面（128）之间留有间隙的方式配置。

公开(公告)号：CN103155088B

公开(公告)日：2016-08-10

申请号：CN201180050366.4

申请日：2011-10-17

Applicant: 威科仪器有限公司

Inventor： 丹尼斯·汉森 ,  詹姆斯·迪金斯 ,  柯蒂斯·卡穆西

IPC: H01J37/08

CPC classification number: H01J37/3053 ,  H01J37/24 ,  H01J2237/08 ,  H02H3/247

Abstract: 本公开技术提供了一种响应式离子束源电源系统（200、300、400），该系统无需依赖传统的保护电路（例如，保险丝和断路器），就能够处理故障事件，从而最小化用户由于普通的故障情况而对物理电源硬件的干预，并且在经历故障情况之后，离子束源电源系统（200、300、400）可自动恢复。本公开技术进一步公开了一种离子束源电源系统（200、300、400），该系统能够检测和诊断故障状态，自主执行命令决策来保持或保护其他离子源模块或子系统的功能，和/或从中断的故障事件中缓解或恢复，以及使离子束源系统（100）返回到所期望的用户设置。

公开(公告)号：CN105556641A

公开(公告)日：2016-05-04

申请号：CN201480052121.9

申请日：2014-07-21

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： J·D·斯威尼 ,  E·E·琼斯 ,  O·比尔 ,  唐瀛 ,  J·R·德普雷斯 ,  S·E·毕夏普

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01J37/32449 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/002 ,  H01J2237/006 ,  H01J2237/08 ,  H01J2237/24564 ,  H01J2237/3365

Abstract: 描述了用于流体的远程传送的流体存储和分配系统及方法，以用于将流体从处于较低电压的源容器提供至处于较高电压的一个或多个流体利用工具，使得流体跨越相关联的电压隙而无电弧、放电、过早离子化或其他异常行为，并且使得当由远程源容器供应多个流体利用工具时，在多个容器中的其他容器的独立操作期间，在合适的压力水平下将流体有效地供应至多个工具中的每个。

公开(公告)号：CN105448630A

公开(公告)日：2016-03-30

申请号：CN201510912748.3

申请日：2015-12-11

Applicant: 中国电子科技集团公司第四十八研究所

Inventor： 易文杰 ,  彭立波 ,  孙雪平 ,  罗臻 ,  袁卫华 ,  钟新华

IPC: H01J37/08 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J37/08 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/08 ,  H01J2237/31701

Abstract: 本发明公开了一种生成铝离子束的离子源，包括：弧室，用于在内部生成等离子体的容器兼作为阳极；所述弧室内导入含氟可电离气体；阴极结构件，设置在弧室内的一侧，与弧室实现电绝缘并且向弧室内放出热电子；反射极结构件，设置在弧室内与阴极结构件相对的一侧，用来反射弧室内的电子；磁铁，用来在弧室内产生磁场。本发明具有结构简单紧凑、提高电离效率、延长热阴极灯丝使用寿命等优点。