激光/离子源
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103069534A

    公开(公告)日:2013-04-24

    申请号:CN201180039711.4

    申请日:2011-10-25

    Abstract: 激光/离子源通过激光的照射而产生离子,其中,具备:容器(110),被真空排气;照射箱(120),配置在容器(110)内,收容有通过激光的照射而产生离子的靶(121);离子束引出部(112),从照射箱(120)静电地引出离子,并作为离子束向容器110的外部引导;阀(140),设置在容器(110)的离子束的取出部,在离子束射出时打开,射出时以外关闭;以及闸门(150),设置在阀(140)和照射箱(120)之间,离子束射出时间歇地打开,射出时以外关闭。由此,将激光照射时产生的微粒子关闭在容器(110)内,抑制微粒子向真空排气系统或与离子源连接的后级装置的流出。

    离子源
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105070624B

    公开(公告)日:2017-09-26

    申请号:CN201510393832.9

    申请日:2013-03-05

    CPC classification number: H01J27/24

    Abstract: 提供无需解除下游侧设备的真空就能够更换靶材的离子源。靶材(13)配置在被排气成真空的真空容器(10)内,且通过激光的照射产生离子。具有输送管(17)、小孔(18)、中间电极(19)以及加速电极(20)的输送部将由靶材产生的离子朝与离子源连接的下游侧的设备输送。在更换配置于真空容器(10)内的靶材时,真空密封用盘(24)对输送部进行密封,以将真空容器(10)侧与下游侧的设备侧的真空分离。

    激光离子源
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103295861B

    公开(公告)日:2016-02-24

    申请号:CN201310063330.0

    申请日:2013-02-28

    CPC classification number: H01J27/24 H01J49/161 H01J49/162 H01J49/164

    Abstract: 本发明提供能不破坏真空条件地进行靶的补给的激光离子源。离子生成真空容器(110)被真空排气,被输送并配置通过激光的照射发生离子的靶(112)。阀(130)设置在离子生成真空容器(110)的侧面,在向离子生成真空容器110内输送靶(112)时打开,在输送时以外关闭。靶补给容器(120)通过阀(130)安装于离子生成真空容器(110),将靶(112)能移动地保持,能与离子生成真空容器(110)独立地真空排气。保持在靶补给容器(120)内的靶(112),在关闭了阀(130)的状态下将靶补给容器内真空排气之后,在打开了阀(130)的状态下被输送到离子生成真空容器(110)内。

    离子源
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103313501A

    公开(公告)日:2013-09-18

    申请号:CN201310068783.2

    申请日:2013-03-05

    CPC classification number: H01J27/24

    Abstract: 提供无需解除下游侧设备的真空就能够更换靶材的离子源。靶材(13)配置在被排气成真空的真空容器(10)内,且通过激光的照射产生离子。具有输送管(17)、小孔(18)、中间电极(19)以及加速电极(20)的输送部将由靶材产生的离子朝与离子源连接的下游侧的设备输送。在更换配置于真空容器(10)内的靶材时,真空密封用盘(24)对输送部进行密封,以将真空容器(10)侧与下游侧的设备侧的真空分离。

    激光离子源
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103295861A

    公开(公告)日:2013-09-11

    申请号:CN201310063330.0

    申请日:2013-02-28

    CPC classification number: H01J27/24 H01J49/161 H01J49/162 H01J49/164

    Abstract: 本发明提供能不破坏真空条件地进行靶的补给的激光离子源。离子生成真空容器(110)被真空排气,被输送并配置通过激光的照射发生离子的靶(112)。阀(130)设置在离子生成真空容器(110)的侧面,在向离子生成真空容器110内输送靶(112)时打开,在输送时以外关闭。靶补给容器(120)通过阀(130)安装于离子生成真空容器(110),将靶(112)能移动地保持,能与离子生成真空容器(110)独立地真空排气。保持在靶补给容器(120)内的靶(112),在关闭了阀(130)的状态下将靶补给容器内真空排气之后,在打开了阀(130)的状态下被输送到离子生成真空容器(110)内。

    离子源
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103313501B

    公开(公告)日:2016-08-17

    申请号:CN201310068783.2

    申请日:2013-03-05

    CPC classification number: H01J27/24

    Abstract: 提供无需解除下游侧设备的真空就能够更换靶材的离子源。靶材(13)配置在被排气成真空的真空容器(10)内,且通过激光的照射产生离子。具有输送管(17)、小孔(18)、中间电极(19)以及加速电极(20)的输送部将由靶材产生的离子朝与离子源连接的下游侧的设备输送。在更换配置于真空容器(10)内的靶材时,真空密封用盘(24)对输送部进行密封,以将真空容器(10)侧与下游侧的设备侧的真空分离。

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