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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106062542B
公开(公告)日：2019-06-07
申请号：CN201580011600.0
申请日：2015-02-02
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/201 , G21K1/06
CPC classification number: G01N23/201 , G01N2223/054 , G01N2223/056 , G01N2223/315 , G21K1/06 , G21K1/10
Abstract: 本发明提供以紧凑的结构及高信号背景比同时获得各向异性的像的微小射束生成单元以及小角度X射线散射装置。微小射束生成单元(110)生成向试样照射的束斑尺寸微小的X射线，以便利用一维检测器或者二维检测器检测衍射X射线，所述微小射束生成单元具备：狭缝(115)，其设置在X射线光路上，将X射线修整为平行射束；以及两个切槽晶体单色器(117、118)，它们配置为(+，‑，‑，+)，除去利用狭缝修整后的平行射束的寄生散射。由此，能够以紧凑的结构及高信号背景比同时获得各向异性的像。
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公开(公告)号：CN113049615B
公开(公告)日：2024-07-30
申请号：CN202011565438.6
申请日：2020-12-25
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/201
Abstract: 本发明提供一种通过抑制对系统大小的制约的方法来计算理论散射强度散射测量分析方法、散射测量装置、及信息存储介质。所述散射测量分析方法包括从多粒子系散射体的结构模型取得理论散射强度的理论散射强度取得步骤，在所述理论散射强度取得步骤中，通过第1计算、第2计算中与距离r对应的至少一者取得多个散射体中散射体m和与该散射体m距离r的散射体n的组合对所述理论散射强度的贡献，所述第1计算根据各自的散射因子fm(q)、fn*(q)及中心间距离rmn计算散射体m和散射体n的贡献，所述第2计算由第1代表值代替所述散射体n的散射因子fn*(q)并且由固定值代替距离r处存在的散射体数量的概率密度函数。
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公开(公告)号：CN113049615A
公开(公告)日：2021-06-29
申请号：CN202011565438.6
申请日：2020-12-25
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/201
Abstract: 本发明提供一种通过抑制对系统大小的制约的方法来计算理论散射强度散射测量分析方法、散射测量装置、及信息存储介质。所述散射测量分析方法包括从多粒子系散射体的结构模型取得理论散射强度的理论散射强度取得步骤，在所述理论散射强度取得步骤中，通过第1计算、第2计算中与距离r对应的至少一者取得多个散射体中散射体m和与该散射体m距离r的散射体n的组合对所述理论散射强度的贡献，所述第1计算根据各自的散射因子fm(q)、fn*(q)及中心间距离rmn计算散射体m和散射体n的贡献，所述第2计算由第1代表值代替所述散射体n的散射因子fn*(q)并且由固定值代替距离r处存在的散射体数量的概率密度函数。
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公开(公告)号：CN117807347A
公开(公告)日：2024-04-02
申请号：CN202311275932.2
申请日：2023-09-28
Applicant: 株式会社理学
IPC: G06F17/10 , G01N23/207
Abstract: 提供一种计算包含总散射数据和结构模型的数据的结构因子的处理装置、处理系统、处理方法以及记录介质。处理结构因子的处理装置(400)具备：结构因子取得部(410)，其取得基于实测到的总散射数据的第1结构因子；数据转换部(420)，其将所述第1结构因子分离为短距离相关和长距离相关；以及散射强度计算部(430)，其取得表示有限区域内的原子排列的结构模型，计算所述结构模型的短距离散射强度，根据所述短距离散射强度和所述长距离相关来计算第2结构因子。
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公开(公告)号：CN106062542A
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：CN201580011600.0
申请日：2015-02-02
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/201 , G21K1/06
CPC classification number: G01N23/201 , G01N2223/054 , G01N2223/056 , G01N2223/315 , G21K1/06 , G21K1/10
Abstract: 本发明提供以紧凑的结构及高信号背景比同时获得各向异性的像的微小射束生成单元以及小角度X射线散射装置。微小射束生成单元(110)生成向试样照射的束斑尺寸微小的X射线，以便利用一维检测器或者二维检测器检测衍射X射线，所述微小射束生成单元具备：狭缝(115)，其设置在X射线光路上，将X射线修整为平行射束；以及两个切槽晶体单色器(117、118)，它们配置为(+，‑，‑，+)，除去利用狭缝修整后的平行射束的寄生散射。由此，能够以紧凑的结构及高信号背景比同时获得各向异性的像。
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