公开(公告)号：CN112930478B

公开(公告)日：2022-02-22

申请号：CN202080005907.0

申请日：2020-07-10

Applicant: 株式会社理学

Inventor： 田中伸

IPC: G01N23/223

Abstract: 本发明提供了一种可高精度的定量分析的方法、定量分析程序以及荧光X射线分析装置。在通过荧光X射线分析装置进行的定量分析方法中，包括以下步骤：取得步骤(S202)，在不同的条件下，从包含多个元素的样品中取得至少在第1能量位置具有第1峰的多个光谱；指定步骤(S206)，在多个光谱中，指定主光谱、和在第2能量位置具有第2峰的副光谱；第1拟合步骤(S208、S210)，对副光谱所包含的所述第1峰进行拟合，计算在所述第1峰的所述第2能量位置处的背景强度；以及第2拟合步骤(S212)，对所述主光谱的所述第1峰进行拟合，并且在所计算出的所述背景强度被包含在所述第2能量位置的条件下，对副光谱的所述第2峰进行拟合。

公开(公告)号：CN118401829A

公开(公告)日：2024-07-26

申请号：CN202280080026.4

申请日：2022-11-09

Applicant: 株式会社理学

Inventor： 片冈由行 ,  田中伸 ,  日下部宁

IPC: G01N23/223

Abstract: 本发明的荧光X射线分析装置包括通过FP法计算试样(13)中的元素含有率的计算机构(10)，为了考虑不测定荧光X射线的非测定元素的影响，对于该计算机构(10)，作为由检测机构(9)测定强度的散射线，使用波长为0.05nm以上0.075nm以下的短波长侧的一次X射线的散射线以及波长为0.11nm以上0.23nm以下的长波长侧的一次X射线的散射线，同时，对于非测定元素中除氢以外的元素，假定平均原子序数，对于氢，假定其含有率。

公开(公告)号：CN112930478A

公开(公告)日：2021-06-08

申请号：CN202080005907.0

申请日：2020-07-10

Applicant: 株式会社理学

Inventor： 田中伸

IPC: G01N23/223

Abstract: 本发明提供了一种可高精度的定量分析的方法、定量分析程序以及荧光X射线分析装置。在通过荧光X射线分析装置进行的定量分析方法中，包括以下步骤：取得步骤(S202)，在不同的条件下，从包含多个元素的样品中取得至少在第1能量位置具有第1峰的多个光谱；指定步骤(S206)，在多个光谱中，指定主光谱、和在第2能量位置具有第2峰的副光谱；第1拟合步骤(S208、S210)，对副光谱所包含的所述第1峰进行拟合，计算在所述第1峰的所述第2能量位置处的背景强度；以及第2拟合步骤(S212)，对所述主光谱的所述第1峰进行拟合，并且在所计算出的所述背景强度被包含在所述第2能量位置的条件下，对副光谱的所述第2峰进行拟合。