公开(公告)号：CN118401829A

公开(公告)日：2024-07-26

申请号：CN202280080026.4

申请日：2022-11-09

Applicant: 株式会社理学

Inventor： 片冈由行 ,  田中伸 ,  日下部宁

IPC: G01N23/223

Abstract: 本发明的荧光X射线分析装置包括通过FP法计算试样(13)中的元素含有率的计算机构(10)，为了考虑不测定荧光X射线的非测定元素的影响，对于该计算机构(10)，作为由检测机构(9)测定强度的散射线，使用波长为0.05nm以上0.075nm以下的短波长侧的一次X射线的散射线以及波长为0.11nm以上0.23nm以下的长波长侧的一次X射线的散射线，同时，对于非测定元素中除氢以外的元素，假定平均原子序数，对于氢，假定其含有率。

公开(公告)号：CN114787616B

公开(公告)日：2023-12-08

申请号：CN202080086958.0

申请日：2020-12-04

Applicant: 株式会社理学

Inventor： 片冈由行 ,  日下部宁

IPC: G01N23/223

Abstract: 本发明提供能考虑几何效应的影响进行高精度的定量分析的定量分析方法、定量分析程序和荧光X射线分析装置。一种定量分析方法包括：用于取得被设定为各分析成分含量的代表的代表组成的步骤、用于取得代表组成的分析成分的含量每个成分仅变更规定含量的多个比较组成的步骤、用于使用FP法计算表示具有预设的厚度并由代表组成和比较组成表示的虚拟样品在几何效应的影响下检测的荧光X射线的强度的检测强度的检测强度计算步骤以及用于基于检测强度而计算每个分析成分的基体校正系数的步骤，通过使用包含成分i的检测强度Ii、用于表示成分i的质量分率的Wi、用于表示共存成分j的质量分率的Wj、常数a、b和c以及用于表示成分i的共存成分j的基体校正系数的αj的校正曲线公式来计算αj。

公开(公告)号：CN114787616A

公开(公告)日：2022-07-22

申请号：CN202080086958.0

申请日：2020-12-04

Applicant: 株式会社理学

Inventor： 片冈由行 ,  日下部宁

IPC: G01N23/223

Abstract: 本发明提供能考虑几何效应的影响进行高精度的定量分析的定量分析方法、定量分析程序和荧光X射线分析装置。一种定量分析方法包括：用于取得被设定为各分析成分含量的代表的代表组成的步骤、用于取得代表组成的分析成分的含量每个成分仅变更规定含量的多个比较组成的步骤、用于使用FP法计算表示具有预设的厚度并由代表组成和比较组成表示的虚拟样品在几何效应的影响下检测的荧光X射线的强度的检测强度的检测强度计算步骤以及用于基于检测强度而计算每个分析成分的基体校正系数的步骤，通过使用包含成分i的检测强度Ii、用于表示成分i的质量分率的Wi、用于表示共存成分j的质量分率的Wj、常数a、b和c以及用于表示成分i的共存成分j的基体校正系数的αj的校正曲线公式来计算αj。