半导体装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN105593986B

    公开(公告)日:2018-10-19

    申请号:CN201380079870.6

    申请日:2013-09-27

    Abstract: 一种实施方式的半导体装置(SP1),在配线基板2的基材层(2CR)与半导体芯片(3)之间层叠有与基材层紧贴的阻焊膜(第1绝缘层、SR1)以及与阻焊膜和半导体芯片紧贴的树脂体(第2绝缘层、4)。另外,阻焊膜的线膨胀系数在基材层的线膨胀系数以上,阻焊膜的线膨胀系数在树脂体的线膨胀系数以下,并且基材层的线膨胀系数小于树脂体的线膨胀系数。通过上述结构,能够抑制由温度循环负荷引起的半导体装置的损伤,提高可靠性。

Patent Agency Ranking