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公开(公告)号：KR1020060080487A
公开(公告)日：2006-07-10
申请号：KR1020050000970
申请日：2005-01-05
Applicant: 고등기술연구원연구조합
CPC classification number: C02F3/325 , C02F1/78 , C02F3/302 , C02F3/308 , C02F2201/46175
Abstract: 적조나 녹조로 인한 피해를 줄이는 데 이용되는 플라즈마 충격파를 이용한 적조 처리방법 및 그 장치가 개시된다. 상기 방법 및 장치는 적조가 있는 물속에 간격을 두고 전극들을 배치하고 상기 전극들에 직류 고전압 펄스파워를 인가하여 상기 전극들 사이에서 아아크 방전시켜 플라즈마 충격파가 발생되도록 하여 상기 플라즈마 충격파에 의해 상기 적조의 원인물질이 파괴되도록 하는 것을 특징으로 한다. 물속 방전 시 발생하는 충격파는 웨이브형태로 주변에 전달이 되며 이때 발생하는 압력은 수천 기압 이상이기 때문에 조류 체내의 기포 주머니에 충격을 주어 기포가 체내에서 빠져나가게 되어 더 이상 활동을 할 수 없게 하고, 포낭을 형성한 조류라 하더라도 충격파의 매질전달 특성으로 포낭 내부에 있는 조류도 충분히 처리 할 수 있다.
적조, 녹조, 펄스파워, 방전, 아크-
公开(公告)号：KR1020050013745A
公开(公告)日：2005-02-05
申请号：KR1020030052297
申请日：2003-07-29
Applicant: 고등기술연구원연구조합
IPC: B01J19/08
CPC classification number: B01J19/088 , B01J2219/0809 , B01J2219/0894
Abstract: PURPOSE: To provide an apparatus for uniformly treating the surface of powder using atmospheric pressure plasma by generating plasma along with a powder transfer process, mechanically transferring powder to control quantity and transfer speed of powder and uniformly contacting plasma with powder accordingly. CONSTITUTION: The apparatus(200) for treating the surface of powder using atmospheric pressure plasma comprises: a dielectric pipe(204); a first electrode(202) installed adjacently to an outer part of the dielectric pipe; a reactant gas injection port(214) for injecting a reactant gas into the dielectric pipe; a powder inflow port(212) through which powder is injected into the dielectric pipe; a discharge port for discharging treated powder together with reactant gas; a second electrode(206) installed inside the dielectric pipe to generate plasma and transfer powder flown in through the powder inflow port to the discharge port through a plasma region at a fixed transfer speed when a power supply is impressed between the first electrode and the second electrode, and the reactant gas is injected into the dielectric pipe; and a power supply part(226) for impressing an alternating current power supply between the first electrode and the second electrode.
Abstract translation: 目的：提供一种使用大气压等离子体均匀处理粉末表面的设备，通过与粉末转移工艺一起产生等离子体，将粉末机械转移到粉末的控制量和转移速度，并使粉末均匀地接触粉末。 构成：使用大气压等离子体处理粉末表面的装置（200）包括：介电管（204）; 与所述电介质管的外部相邻地安装的第一电极（202）; 反应气注入口（214），用于将反应气体注入到介质管中; 粉末流入口（212），粉末通过其注入到介质管中; 用于将处理的粉末与反应物气体一起排出的排出口; 第二电极（206），安装在电介质管内部以产生等离子体，并且当电源施加在第一电极和第二电极之间时，以固定的转移速度通过等离子体区域将粉末流入粉末流入口流到排出口 电极，反应气体注入介质管内; 以及用于在第一电极和第二电极之间施加交流电源的电源部分（226）。
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公开(公告)号：KR1020040095105A
公开(公告)日：2004-11-12
申请号：KR1020030028714
申请日：2003-05-06
Applicant: 고등기술연구원연구조합
IPC: H05H1/26
Abstract: PURPOSE: An atmospheric plasma surface processing apparatus for processing a large-area surface is provided to process uniformly a surface of a target and coat uniformly the surface of the target by processing a curved surface as well as a flat surface of a large-sized target. CONSTITUTION: An atmospheric plasma surface processing apparatus for processing a large-area surface includes a main body, an inflow hole, and a plurality of torch electrodes. The main body(10) includes a cavity. The inflow hole(12) is used for receiving a gas. The gas is injected into the inside of the cavity through the inflow hole. The torch electrode is formed with a first electrode, a dielectric tube, and a second electrode. The first electrode(14) having a shape of a bar is formed on an upper part of the main body. The dielectric tube(13) is formed with a dielectric. The first electrode is surrounded by the dielectric tube. The dielectric tube is formed by the second electrode(18).
Abstract translation: 目的：提供一种用于加工大面积表面的大气等离子体表面处理装置，以均匀地处理靶材的表面，并通过加工大面积目标的曲面和平坦表面均匀地涂覆靶材的表面 。 构成：用于处理大面积表面的大气等离子体表面处理装置包括主体，流入孔和多个割炬电极。 主体（10）包括空腔。 流入孔（12）用于接收气体。 气体通过流入孔注入空腔的内部。 焊炬电极形成有第一电极，电介质管和第二电极。 具有棒形状的第一电极（14）形成在主体的上部。 电介质管（13）形成有电介质。 第一电极被电介质管包围。 电介质管由第二电极（18）形成。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020060059547A
公开(公告)日：2006-06-02
申请号：KR1020040098670
申请日：2004-11-29
Applicant: 고등기술연구원연구조합
CPC classification number: H05K3/381 , H05K3/0041 , H05K2203/095
Abstract: 대기압 플라즈마를 이용한 인쇄회로기판의 표면처리 방법 및 이를 수행하기 위한 플라즈마 형성장치에 관한 것으로서, 상기 방법은 대기압 하에서 대기가스를 포함하는 방전가스를 플라즈마 상태로 형성하는 단계를 포함한다. 상기 플라즈마 상태로 형성된 방전가스에 인쇄회로기판을 노출시켜 상기 인쇄회로기판의 표면에너지를 증가시키는 단계를 포함한다. 상술한 방법은 종래의 방법에 비해 기판의 플라즈마 처리 공정시 유해가스가 발생되지 않으며, 표면 에너지를 향상시키는 표면처리 공정의 원가 절감 및 생산성 향상을 시킬 수 있다.
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公开(公告)号：KR100541017B1
公开(公告)日：2006-01-10
申请号：KR1020030028714
申请日：2003-05-06
Applicant: 고등기술연구원연구조합
IPC: H05H1/26
Abstract: 본 발명은 대면적 표면처리용 상압 플라즈마 표면처리장치에 관한 것으로서, 플라즈마를 배출하는 토치전극의 배열을 달리하여 대면적의 평판형태 또는 굴곡이 있는 대면적의 피처리물을 표면처리할 수 있도록 하는 데 그 목적이 있다. 이를 위해 본 발명은 중공의 몸체, 중공의 몸체 내부로 가스를 유입시키는 유입구, 및 중공의 몸체 상부에 봉형으로 위치한 제1전극과, 유전체로 형성되어 제1전극에 공간을 두고 감싸는 관형상의 유전체관, 및 유전체관을 감싸는 제2전극으로 이루어진 복수개의 토치전극을 구비하여, 제1전극과 제2전극에 인가된 전원에 의해 발생된 플라즈마를 유전체관을 통해 배출하여 피처리물의 표면처리를 수행할 수 있도록 한 것을 특징으로 한다. 이와 같이 구성되는 본 발명에 따르면, 대형 평판의 피처리물의 처리 뿐만 아니라 굴곡이 있는 대형 피처리물도 균일한 표면처리 및 표면코팅을 할 수 있다. 또한, 진공 플라즈마에서 할 수 없는 인-라인(in-line) 시스템 구현이 가능하여 기존 공정에 대체 또는 부가하여 사용할 수 있다.
폴리머, 표면처리, 도금, 플라즈마-
公开(公告)号：KR1020010038118A
公开(公告)日：2001-05-15
申请号：KR1019990045985
申请日：1999-10-22
Applicant: 고등기술연구원연구조합
IPC: H05H1/26
Abstract: PURPOSE: A plasma torch is provided to prevent life limitation of an electrode abraded by oxidation under a high-temperature circumstance by forming plasma using an ignitor and a microwave oscillator. CONSTITUTION: A microwave oscillator(10) generates a microwave, and a waveguide(20) comes in the microwave generated by the microwave oscillator(10) to make a resonance condition. A plasma generating tube(30) is installed to pass the waveguide(20) and is supplied with an operation gas at one side. An ignitor(40) is installed at a gas supplying opening(34) of the plasma generating tube(30) and transfers an energy to the operation gas so as to generate an initial plasma. The plasma generating tube(30) consists of a tube(31) and an outer water jacket(33), with a boron nitride lining(32) interposed between the tube(31) and the outer water jacket(33).
Abstract translation: 目的：通过使用点火器和微波振荡器形成等离子体，提供等离子体焰炬以防止在高温环境下氧化所磨损的电极的寿命受限。 构成：微波振荡器（10）产生微波，并且波导（20）进入由微波振荡器（10）产生的微波中以产生谐振状态。 安装等离子体产生管（30）以使波导（20）通过，并在一侧供给操作气体。 点火器（40）安装在等离子体发生管（30）的气体供给开口（34）处，并将能量传送到操作气体，以产生初始等离子体。 等离子体产生管（30）由管（31）和外水套（33）组成，氮化硼衬里（32）插在管（31）和外水套（33）之间。
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公开(公告)号：KR100536894B1
公开(公告)日：2005-12-16
申请号：KR1020030052297
申请日：2003-07-29
Applicant: 고등기술연구원연구조합
IPC: B01J19/08
Abstract: 본 발명은 분말의 기계적 이송에 의해 균일한 표면처리로 분산력 또는 관능기를 발달시켜 고기능성 소재를 제조할 수 있는 상압 플라즈마를 이용한 분말 표면처리 장치에 관한 것이다. 이러한 본 발명의 장치는 유전체관; 유전체관의 외부에 위치한 제 1 전극; 유전체관의 내부로 반응가스를 주입하기 위한 반응 가스 주입부; 표면처리할 분말을 상기 유전체관의 내부로 주입하기 위한 분말 인입부; 처리된 분말을 반응가스와 함께 배출하기 위한 배출구; 유전체관의 내부에 위치하며, 제1 전극과 사이에 전원이 인가되고 반응가스가 주입되면 유전체관과의 사이에 플라즈마를 발생시키며, 분말 인입부를 통해 인입된 분말을 소정의 이송속도로 플라즈마 영역을 거쳐 배출구로 이송시키는 제2 전극; 제1 전극과 제2 전극 사이에 교류 전원을 인가하기 위한 전원부; 및 제2 전극을 회전시키기 위한 회전수단을 구비한다. 본 발명에 따르면 기존에 사용되고 있는 처리 장치의 경우에 비하여 분진이 발생하지 않으면서 이송 속도 및 양의 제어가 가능하고, 기계적인 혼합으로 분말 표면에 플라즈마를 균일하게 접촉시켜 분말의 표면특성을 효율적으로 개선할 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020040095104A
公开(公告)日：2004-11-12
申请号：KR1020030028713
申请日：2003-05-06
Applicant: 고등기술연구원연구조합
IPC: C23C14/02
CPC classification number: H01J37/32825 , C23C14/022
Abstract: PURPOSE: To improve plating capability and provide process convenience by treating the surface of a material having hard surface using atmospheric pressure plasma as a plating pretreatment process. CONSTITUTION: The surface treatment apparatus comprises a hollow body (12) comprising an inflow port (24) for flowing in gas; first electrode (14) installed on an upper part of the body; second electrodes (18) comprising a plural exhaust holes (18a) circulated to the outside with being installed under the first electrode at positions spaced apart from the first electrode in a certain distance; and a power supply unit for impressing a power supply to the first electrode and second electrodes, wherein the surface of a material having hard surface is treated by injecting plasma generated by impressing a power supply to the gas flown in the inflow port through the first electrode and second electrodes onto the material through the exhaust holes of the second electrodes, wherein the surface of a hard surfaced material having large area is treated by controlling size of the first electrode and the second electrodes according to area of the hard surfaced material.
Abstract translation: 目的：通过使用大气压等离子体处理具有硬表面的材料的表面作为电镀预处理工艺，提高电镀能力并提供工艺便利性。 构成：表面处理装置包括中空体（12），其包括用于气体流动的流入口（24） 第一电极（14），其安装在所述主体的上部; 第二电极（18），其包括循环到外部的多个排气孔（18a），其在与所述第一电极间隔开一定距离的位置处设置在所述第一电极下方; 以及用于向第一电极和第二电极施加电源的电源单元，其中具有硬表面的材料的表面通过将通过向流入口中流动的气体施加电力而产生的等离子体进行处理，该电流通过第一电极 并且通过第二电极的排气孔将第二电极放置在材料上，其中通过根据硬表面材料的面积控制第一电极和第二电极的尺寸来处理具有大面积的硬表面材料的表面。
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