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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020040095105A
公开(公告)日：2004-11-12
申请号：KR1020030028714
申请日：2003-05-06
Applicant: 고등기술연구원연구조합
IPC: H05H1/26
Abstract: PURPOSE: An atmospheric plasma surface processing apparatus for processing a large-area surface is provided to process uniformly a surface of a target and coat uniformly the surface of the target by processing a curved surface as well as a flat surface of a large-sized target. CONSTITUTION: An atmospheric plasma surface processing apparatus for processing a large-area surface includes a main body, an inflow hole, and a plurality of torch electrodes. The main body(10) includes a cavity. The inflow hole(12) is used for receiving a gas. The gas is injected into the inside of the cavity through the inflow hole. The torch electrode is formed with a first electrode, a dielectric tube, and a second electrode. The first electrode(14) having a shape of a bar is formed on an upper part of the main body. The dielectric tube(13) is formed with a dielectric. The first electrode is surrounded by the dielectric tube. The dielectric tube is formed by the second electrode(18).
Abstract translation: 目的：提供一种用于加工大面积表面的大气等离子体表面处理装置，以均匀地处理靶材的表面，并通过加工大面积目标的曲面和平坦表面均匀地涂覆靶材的表面 。 构成：用于处理大面积表面的大气等离子体表面处理装置包括主体，流入孔和多个割炬电极。 主体（10）包括空腔。 流入孔（12）用于接收气体。 气体通过流入孔注入空腔的内部。 焊炬电极形成有第一电极，电介质管和第二电极。 具有棒形状的第一电极（14）形成在主体的上部。 电介质管（13）形成有电介质。 第一电极被电介质管包围。 电介质管由第二电极（18）形成。
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公开(公告)号：KR1020070035653A
公开(公告)日：2007-04-02
申请号：KR1020050090267
申请日：2005-09-28
Applicant: 고등기술연구원연구조합
CPC classification number: D06M10/02 , D06M10/04 , D10B2331/02 , D10B2401/14 , Y10S8/93
Abstract: 본 발명은 습식 세정 및 정련 공정을 대체하여 플라즈마 공정을 적용시킨 나일론 섬유의 염색성 향상을 위한 플라즈마 세정 및 정련 방법에 관한 것으로, 롤링 상태의 상기 피처리물을 반응관 내에 장착하는 단계와, 상기 반응관 내부를 진공 상태로 유지하기 위하여 공기를 제거하는 단계와, 상기 반응관 내에 산소와 사불화탄소를 혼합한 방전가스 및 산소와 아르곤을 혼합한 방전가스를 주입시키고, 방전 전극에 소정의 전압을 인가하여 플라즈마를 발생시켜 상기 피처리물의 표면을 개질하는 단계와, 상기 플라즈마 방전 처리에 의해 발생된 잔류 가스를 제거하는 단계 및 상기 플라즈마 방전 처리에 의해 표면 개질된 피처리물을 상기 반응관으로부터 해제하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
상기와 같은 공정에 의해 종래의 습식 공정에 의한 알칼리액이나 계면활성제 등의 사용에 따른 환경 폐수 발생을 제거하여 친환경적이고, 섬유의 염색 및 고착 공정에서의 염색성과 균일성을 향상시키며, 플라즈마 화학적 방법을 적용함으로써 공정이 간단하고 비용이 현저하게 줄어드는 나일론 섬유의 표면 개질 방법을 제공한다.
플라즈마, 표면개질, 염색성, 습식, 나일론섬유-
公开(公告)号：KR1020060059547A
公开(公告)日：2006-06-02
申请号：KR1020040098670
申请日：2004-11-29
Applicant: 고등기술연구원연구조합
CPC classification number: H05K3/381 , H05K3/0041 , H05K2203/095
Abstract: 대기압 플라즈마를 이용한 인쇄회로기판의 표면처리 방법 및 이를 수행하기 위한 플라즈마 형성장치에 관한 것으로서, 상기 방법은 대기압 하에서 대기가스를 포함하는 방전가스를 플라즈마 상태로 형성하는 단계를 포함한다. 상기 플라즈마 상태로 형성된 방전가스에 인쇄회로기판을 노출시켜 상기 인쇄회로기판의 표면에너지를 증가시키는 단계를 포함한다. 상술한 방법은 종래의 방법에 비해 기판의 플라즈마 처리 공정시 유해가스가 발생되지 않으며, 표면 에너지를 향상시키는 표면처리 공정의 원가 절감 및 생산성 향상을 시킬 수 있다.
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公开(公告)号：KR100541017B1
公开(公告)日：2006-01-10
申请号：KR1020030028714
申请日：2003-05-06
Applicant: 고등기술연구원연구조합
IPC: H05H1/26
Abstract: 본 발명은 대면적 표면처리용 상압 플라즈마 표면처리장치에 관한 것으로서, 플라즈마를 배출하는 토치전극의 배열을 달리하여 대면적의 평판형태 또는 굴곡이 있는 대면적의 피처리물을 표면처리할 수 있도록 하는 데 그 목적이 있다. 이를 위해 본 발명은 중공의 몸체, 중공의 몸체 내부로 가스를 유입시키는 유입구, 및 중공의 몸체 상부에 봉형으로 위치한 제1전극과, 유전체로 형성되어 제1전극에 공간을 두고 감싸는 관형상의 유전체관, 및 유전체관을 감싸는 제2전극으로 이루어진 복수개의 토치전극을 구비하여, 제1전극과 제2전극에 인가된 전원에 의해 발생된 플라즈마를 유전체관을 통해 배출하여 피처리물의 표면처리를 수행할 수 있도록 한 것을 특징으로 한다. 이와 같이 구성되는 본 발명에 따르면, 대형 평판의 피처리물의 처리 뿐만 아니라 굴곡이 있는 대형 피처리물도 균일한 표면처리 및 표면코팅을 할 수 있다. 또한, 진공 플라즈마에서 할 수 없는 인-라인(in-line) 시스템 구현이 가능하여 기존 공정에 대체 또는 부가하여 사용할 수 있다.
폴리머, 표면처리, 도금, 플라즈마-
公开(公告)号：KR1020040095104A
公开(公告)日：2004-11-12
申请号：KR1020030028713
申请日：2003-05-06
Applicant: 고등기술연구원연구조합
IPC: C23C14/02
CPC classification number: H01J37/32825 , C23C14/022
Abstract: PURPOSE: To improve plating capability and provide process convenience by treating the surface of a material having hard surface using atmospheric pressure plasma as a plating pretreatment process. CONSTITUTION: The surface treatment apparatus comprises a hollow body (12) comprising an inflow port (24) for flowing in gas; first electrode (14) installed on an upper part of the body; second electrodes (18) comprising a plural exhaust holes (18a) circulated to the outside with being installed under the first electrode at positions spaced apart from the first electrode in a certain distance; and a power supply unit for impressing a power supply to the first electrode and second electrodes, wherein the surface of a material having hard surface is treated by injecting plasma generated by impressing a power supply to the gas flown in the inflow port through the first electrode and second electrodes onto the material through the exhaust holes of the second electrodes, wherein the surface of a hard surfaced material having large area is treated by controlling size of the first electrode and the second electrodes according to area of the hard surfaced material.
Abstract translation: 目的：通过使用大气压等离子体处理具有硬表面的材料的表面作为电镀预处理工艺，提高电镀能力并提供工艺便利性。 构成：表面处理装置包括中空体（12），其包括用于气体流动的流入口（24） 第一电极（14），其安装在所述主体的上部; 第二电极（18），其包括循环到外部的多个排气孔（18a），其在与所述第一电极间隔开一定距离的位置处设置在所述第一电极下方; 以及用于向第一电极和第二电极施加电源的电源单元，其中具有硬表面的材料的表面通过将通过向流入口中流动的气体施加电力而产生的等离子体进行处理，该电流通过第一电极 并且通过第二电极的排气孔将第二电极放置在材料上，其中通过根据硬表面材料的面积控制第一电极和第二电极的尺寸来处理具有大面积的硬表面材料的表面。
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