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公开(公告)号：KR101652339B1
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：KR1020130020469
申请日：2013-02-26
Applicant: 국민대학교산학협력단
IPC: H01L21/027
Abstract: 본원은, 자기조립단분자막에의하여처리된몰드를이용한패턴형성방법에관한것으로서, 기재에포토레지스트를도포하는단계; 패턴된몰드에자기조립단분자막을형성하는단계; 상기자기조립단분자막이형성된몰드와상기포토레지스트가도포된기재를가압하여접촉하는단계; 및, 상기포토레지스트를경화시키는단계를포함한다.
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公开(公告)号：KR1020140108394A
公开(公告)日：2014-09-11
申请号：KR1020130020469
申请日：2013-02-26
Applicant: 국민대학교산학협력단
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/0273 , G03F7/2012
Abstract: The present invention relates to a method for forming a pattern using a mold treated by a self-assembled monomolecular film, comprising a step for applying photoresist to base material; a step for forming a self-assembled monomolecular film on a patterned mold; a step for contacting the mold where the self-assembled monomolecular film is formed, and the base material where the photoresist is applied, by pressurizing the same; and a step for hardening the photoresist.
Abstract translation: 本发明涉及使用由自组装单分子膜处理的模具形成图案的方法，其包括将光致抗蚀剂施加于基材的步骤; 在图案化模具上形成自组装单分子膜的步骤; 使形成有自组装单分子膜的模具与通过对其施加光致抗蚀剂的基材进行加压的步骤; 以及使光致抗蚀剂硬化的步骤。
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公开(公告)号：KR101652342B1
公开(公告)日：2016-08-30
申请号：KR1020140079976
申请日：2014-06-27
Applicant: 국민대학교산학협력단
IPC: H01L31/0236 , H01L31/036
CPC classification number: Y02E10/50
Abstract: 태양전지표면의택스처링방법에관한것이다.
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公开(公告)号：KR1020160001437A
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：KR1020140079976
申请日：2014-06-27
Applicant: 국민대학교산학협력단
IPC: H01L31/0236 , H01L31/036
CPC classification number: Y02E10/50 , H01L31/0236 , H01L31/02363 , H01L31/036
Abstract: 본원은, 태양전지표면의택스처링방법을제공한다.
Abstract translation: 本发明提供了一种用于纹理化太阳能电池表面的方法。 用于纹理化太阳能电池表面的方法包括以下步骤：在基板上施加光致抗蚀剂; 通过使用具有重复图案的模具在基板上形成图案，并固化图案; 并蚀刻衬底。 根据本发明，当纹理化太阳能电池的表面时，该方法通过使用压印或光刻来在基板上形成光致抗蚀剂。 此时，该方法通过使用纹理化来增加基板表面曝光单元的面积，从而降低反射率并提高太阳能电池效率。
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