태양전지 표면의 택스처링 방법
    3.
    发明公开
    태양전지 표면의 택스처링 방법 有权
    太阳能电池表面的纹理方法

    公开(公告)号:KR1020160001437A

    公开(公告)日:2016-01-06

    申请号:KR1020140079976

    申请日:2014-06-27

    CPC classification number: Y02E10/50 H01L31/0236 H01L31/02363 H01L31/036

    Abstract: 본원은, 태양전지표면의택스처링방법을제공한다.

    Abstract translation: 本发明提供了一种用于纹理化太阳能电池表面的方法。 用于纹理化太阳能电池表面的方法包括以下步骤:在基板上施加光致抗蚀剂; 通过使用具有重复图案的模具在基板上形成图案,并固化图案; 并蚀刻衬底。 根据本发明,当纹理化太阳能电池的表面时,该方法通过使用压印或光刻来在基板上形成光致抗蚀剂。 此时,该方法通过使用纹理化来增加基板表面曝光单元的面积,从而降低反射率并提高太阳能电池效率。

    실리콘 기판 관통홀 형성 방법, 실리콘 기판 관통 전기 연결 요소 형성 방법 및 이를 이용하여 제조되는 반도체 소자
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:KR1020160063264A

    公开(公告)日:2016-06-03

    申请号:KR1020150165195

    申请日:2015-11-25

    Inventor: 이재갑 정대균

    Abstract: 본발명은실리콘기판관통홀형성방법, 실리콘기판관통전기연결요소형성방법및 이를이용하여제조되는반도체소자에관한것으로서, 보다상세하게는측벽에덴트를구비하고있는관통홀을양전하및 음전하폴리머를교차적층하여다공성탄성층을형성함으로써관통홀의측벽거칠기를감소시키고저유전율을나타낼수 있는실리콘기판관통홀형성방법, 실리콘기판관통전기연결요소형성방법및 이를이용하여제조되는반도체소자에관한것이다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种形成硅衬底通孔的方法,一种用于形成硅衬底穿透电连接元件的方法,以及使用该方法制造的半导体器件,其将正电荷和负电荷聚合物交替堆叠在通孔 在其侧壁上具有凹陷以形成多孔弹性层,从而减小通孔的侧壁的粗糙度并且表现出低介电常数。 形成硅衬底通孔的方法包括以下步骤:在衬底上形成通孔; 预处理通孔的侧壁进行通电; 通过用具有与基底相反的电荷的聚合物涂覆预处理的侧壁来形成第一聚合物层; 以及通过用具有与基底相同的电荷的聚合物涂覆第一聚合物层来形成第二聚合物层。

    다층박막에 의해 형성된 팽창 흡수막을 이용한 반도체 소자의 금속 배선 제작 방법
    8.
    发明公开
    다층박막에 의해 형성된 팽창 흡수막을 이용한 반도체 소자의 금속 배선 제작 방법 有权
    半导体器件金属线的制造方法使用层间薄膜形成的扩展吸收膜

    公开(公告)号:KR1020140108809A

    公开(公告)日:2014-09-15

    申请号:KR1020130022267

    申请日:2013-02-28

    CPC classification number: H01L21/76831 H01L21/76822 H01L21/76832

    Abstract: The present invention relates to a method for manufacturing a metal line using an expansive absorbing film formed by multi-layered thin films, comprising a step for preparing a base material where a pattern is formed; a step for arranging one or more layers of an organic matter layer on the base material where the pattern is formed; and a step for filling inside the pattern of the base material by absorbing metal on the organic matter layer.

    Abstract translation: 本发明涉及一种使用由多层薄膜形成的膨胀吸收膜制造金属线的方法,包括制备形成图案的基材的步骤; 在形成图案的基材上排列一层或多层有机物层的工序; 以及通过在有机物层上吸收金属填充基材的图案内的步骤。

    자기조립 단분자막의 표면 개질을 이용한 패턴의 전사 방법
    9.
    发明公开
    자기조립 단분자막의 표면 개질을 이용한 패턴의 전사 방법 无效
    使用自组装单色机进行修改的图案传输方法

    公开(公告)号:KR1020140099409A

    公开(公告)日:2014-08-12

    申请号:KR1020130012071

    申请日:2013-02-01

    CPC classification number: H01L21/0273 H01L21/02252 H01L21/02315

    Abstract: The present application relates to a method for transferring a solvent pattern which comprises the steps of: forming a hydrophilic self-assembling monolayer having hydrophilicity to a substrate; obtaining a patterned mold; forming a hydrophilic solvent pattern on a surface of the patterned mold by applying a hydrophilic solvent to the patterned mold; and transferring the hydrophilic solvent pattern of the mold to the substrate by enabling the mold having the hydrophilic solvent pattern to come into contact with the substrate in which the hydrophilic self-assembling monolayer is formed.

    Abstract translation: 本申请涉及一种转移溶剂图案的方法,包括以下步骤:形成亲水性亲水性的单层至基材; 获得图案模具; 通过向图案化的模具施加亲水性溶剂,在图案化模具的表面上形成亲水性溶剂图案; 并且通过使具有亲水性溶剂图案的模具与形成有亲水性自组装单层的基材接触,将模具的亲水性溶剂图案转印到基材上。

    플랙시블 소자 제조방법 및 이를 위한 플랙시블 소자 제조용 희생 기판
    10.
    发明公开
    플랙시블 소자 제조방법 및 이를 위한 플랙시블 소자 제조용 희생 기판 审中-实审
    用于制造柔性元件和用于为其制造柔性元件的牺牲基板的方法

    公开(公告)号:KR1020170101685A

    公开(公告)日:2017-09-06

    申请号:KR1020160024549

    申请日:2016-02-29

    Abstract: 플랙시블소자제조방법및 플랙시블소자제조용희생기판이제공된다. 본발명의일 실시예에따르면, 플랙시블소자제조방법은, 기판표면에변성층을형성하는단계; 상기변성층전체를 1차표면처리하여상기변성층을변성시키는단계; 상기 1차표면처리된상기변성층의일부영역을마스킹하는단계; 마스킹처리된상기변성층을 2차표면처리하는단계; 상기일부영역의마스크를제거하는단계; 상기변성층상에플랙시블소자를형성하는단계; 및상기기판을플랙시블소자로부터제거하는단계;를포함할수 있다.

    Abstract translation: 提供了一种制造用于制造柔性元件的柔性元件和牺牲基板的方法。 根据本发明的实施例,一种制造柔性元件的方法包括:在衬底的表面上形成变性层; 对整个改性层进行第一次表面处理以使改性层变性; 掩盖第一表面处理的改性层的一部分; 对经过掩蔽处理的变性层进行第二次表面处理; 去除局部区域的掩模; 在改性层上形成柔性元件; 并从柔性元件上移除衬底。

Patent Agency Ranking