公开(公告)号：KR102026458B1

公开(公告)日：2019-09-27

申请号：KR1020170059431

申请日：2017-05-12

Applicant: 서울대학교산학협력단

Inventor： 최종현 ,  성현민 ,  홍성현 ,  한흥남

IPC: B22F3/105

公开(公告)号：KR101625004B1

公开(公告)日：2016-05-27

申请号：KR1020150014407

申请日：2015-01-29

Applicant: 서울대학교산학협력단

Inventor： 한흥남 ,  이유정 ,  성현민

IPC: C23C4/18 ,  C23C4/12 ,  C23C4/08

CPC classification number: C23C4/18 ,  C23C4/08 ,  C23C4/126 ,  C23C4/129 ,  C23C4/134

Abstract: 본발명은기판의적어도일면상에전기전도체피막이형성된부재에압력을가하면서상기피막으로고주파직류펄스를인가하여상기피막을가열하는단계;를포함하고, 상기압력을가하는방향은상기피막이형성된층의법선벡터방향의성분을가지는, 피막이형성된부재의후처리방법을제공한다.

Abstract translation: 本发明涉及一种用膜后处理部件的方法，更具体地说，涉及一种用于熔融反应器面材料的膜后处理部件的方法。 本发明提供了一种用于对膜进行后处理的方法，该方法包括以下步骤：通过向膜施加高频直流脉冲，同时向涂覆有电导体膜的部件施加至少一个 基板的表面，以及施加具有在与膜形成的层的法线矢量方向的方向成分的压力的方向。