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公开(公告)号：KR101520982B1
公开(公告)日：2015-05-15
申请号：KR1020107000024
申请日：2008-06-03
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
Abstract: 본 발명은 작업물 (W) 의 도금 처리를 위한 수직 시스템에 관한 것으로, 상기 수직 시스템은, 적어도 2 개의 처리 모듈 (100), 및 적어도 하나의 작업물 (W) 을 처리 모듈 (100) 로 이송하여 이 작업물 (W) 을 처리 모듈 (100) 의 유지 장치 (130) 로 전달하기 위한 적어도 하나의 운반 장치를 포함한다. 처리 모듈 (100) 에는 작업물 (W) 을 위한 유지 장치 (130) 가 제공된다. 운반 장치는 적어도 하나의 각각의 체결 장치 (20, 30) 에 의해 작업물 (W) 을 유지시키는 적어도 하나의 파지 장치 (10) 를 포함한다. 각각의 체결 장치 (20, 30) 는 작업물 (W) 의 일 측부와 각각 연관되는 제 1 클램핑 장치 (25, 35) 및 제 2 클램핑 장치 (26) 를 포함한다. 작업물 (W) 의 제 1 측부와 연관되는 적어도 하나의 제 1 클램핑 장치 (25, 35) 는, 작업물 (W) 의 제 1 측부의 위치가 제 1 클램핑 장치 (25, 35) 에 의해 규정될 수 있도록 구성 및 배치된다. 작업물 (W) 의 제 2 측부와 연관되는 적어도 하나의 제 2 클램핑 장치 (26) 는 클램핑력이 상기 클램핑 장치에 의해 작업물 (W) 에 가해질 수 있도록 구성 및 배치된다. 제 1 클램핑 장치 (25, 35) 및 제 2 클램핑 장치 (26) 의 양자는 이동가능하다. 본 발명에 따르면, 파지 장치 (10) 는, a) 제 1 클램핑 장치 (25, 35) 가 접촉 위치를 점유하고, 따라서 작업물 (W) 의 제 1 측부의 위치가 규정되도록 제 1 클램핑 장치 (25, 35) 를 이동시키는 단계, 및 b) 제 2 클램핑 장치 (26) 가 클램핑 위치를 점유하고, 따라서 작업물 (W) 은 적어도 하나의 제 1 클램핑 장치 (25, 35) 와 함께 클램핑되도록 제 2 클램핑 장치 (26) 를 이동시키는 단계에 의해 구동된다. 이렇게 함에 있어서, 제 1 클램핑 장치 (25, 35) 는, 제 2 클램핑 장치 (26) 가 클램핑 위치를 점유하기 전에 접촉 위치를 점유한다.
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公开(公告)号：KR101211977B1
公开(公告)日：2012-12-13
申请号：KR1020067027206
申请日：2005-06-21
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
Inventor： 슈나이더라인하르트
IPC: B65G49/04
Abstract: 본 발명은, 처리 라인을 완전히 재구성하지 않고도, 변화하는 환경에 쉽게 적응될 수 있는 수직으로 반송되는 처리 라인의 처리 스테이션에서, 저비용으로 조작가능한, 가공물 반송용 병진 조작기에 관한 것이다. 조작기는 두 개 이상의 가공물 (9) 용 처리 스테이션을 연결하는 안내 수단을 따라 이동가능한 하나 이상의 이동 요소 (10) 와 하나 이상의 호이스팅 요소 (11) 이외에 상기 호이스팅 요소 (11) 에 장착된 가공물 (9) 용의 하나 이상의 파지 요소 (12) 를 포함한다. 조작기에 장착된 호이스팅 요소 (11) 및 파지 요소 (12) 는 모듈러 방식으로 확장되어서 호이스팅 요소 (11) 는 일련의 처리 스테이션을 따라 확장하고 상기 스테이션에 유지되는 가공물 (9) 은 파지 요소 (12) 에 각각 파지된다.
Abstract translation: 本发明中，在其被携带在生产线而无需完全重新配置的处理线的加工工位，其中可以容易地适用于以较低的成本不断变化的环境垂直，一个可能的操作中，用于平移工件输送机械手。 致动器被连接到多于一个的处理构件（9）移动一个或多个移动元件10尽可能沿着导向装置除了提升元件（11）的工件连接与至少一个提升元件（11），所述处理站（ 9）。 工件（9）的提升元件11和夹持元件（12）安装到所述致动器以模块化的方式进行扩展曳引元件（11）和沿着所述一系列由电台所保留的处理站的延伸是把持元件（ 12，分别。
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公开(公告)号：KR101641475B1
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：KR1020157013377
申请日：2008-06-03
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: C25D5/08 , C25D5/04 , C25D17/001 , C25D21/10 , H05K3/241 , H05K2203/0746 , H05K2203/1509
Abstract: 처리제를이용하여제품 (L) 을전해처리하기위한장치가판상제품의처리를보다균일하게하기위해서사용된다. 이장치는: 제품 (L) 을장치에유지시키기위한디바이스 (40, 42), 각각이적어도하나의노즐 (15) 을포함하고제품 (L) 의맞은편에배치되어위치된하나또는복수개의유동디바이스 (10), 처리제에비해비활성이고적어도하나의처리표면에대해평행하게배치되는하나또는복수개의카운터전극 (30), 한쪽에서는제품 (L) 과유동디바이스 (10) 및/또는카운터전극 (30) 사이에서, 다른쪽에서는처리표면에대해평행한적어도일 방향에서상대이동을발생시키는수단 (44) 을포함한다. 제품 (L) 은처리동안에처리제안으로침지될수 있다.
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公开(公告)号：KR101214417B1
公开(公告)日：2012-12-21
申请号：KR1020067027933
申请日：2005-06-30
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
Inventor： 슈나이더라인하르트
IPC: C25D7/12
Abstract: 작업물 (1) 을 화학적 또는 전해적으로 처리하기 위한 장치 및 방법은, 미세 전도성 구조체, 패드, 랜드의 불규칙한 외형 및 인쇄 회로 기판의 일측의 브릿지 (쇼트) 및 다른 측의 단선을 회피하기 위한 노력으로 제안된다. 상기 장치는 작업물을 처리하기 위한 탱크 (2) 및 이 작업물의 이송을 위한 컨베이어 시스템을 포함한다. 상기 컨베이어 시스템은 하나 이상의 이송 캐리지 (18), 하나 이상의 홀딩 요소 (14, 25), 및 상기 이송 캐리지와 상기 홀딩 요소 사이의 하나 이상의 연결 수단 (12, 13, 35) 를 포함한다. 상기 프로세싱 탱크는 크린 룸 영역 (3) 에 인접해 있다. 상기 작업물은 컨베이어 시스템을 사용하여 상기 크린 룸 영역을 통하여 이송된다.
Abstract translation: 装置和方法，用于处理通过化学或周围的海盗的工件（1），试图避免微小的导电性结构中，垫，不规则的外观，和桥（拍）和另一侧线的土地的印刷电路板的所述一侧的 因为已建议。 该装置包括用于罐（2）和用于处理工件的工件传送的输送机系统。 的输送机系统包括至少一个传递支撑架（18），至少一个保持元件（14，25），和载运架和保持元件之间的至少一个连接装置（12，13，35）。 处理槽靠近洁净室区域（3）。 使用输送系统将工件输送通过洁净室区域。
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公开(公告)号：KR1020100033997A
公开(公告)日：2010-03-31
申请号：KR1020107000024
申请日：2008-06-03
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: C25D17/06 , C25D7/02 , C25D7/04 , C25D7/123 , C25D17/00 , C25D17/001 , H05K3/241
Abstract: The present invention relates to a vertical system for the plating treatment of a work piece (W), the said system including at least two treatment modules (100) and at least one transport device for conveying at least one work piece (W) to a treatment module (100) and for transferring the work piece (W) to retaining devices (130) in the treatment module (100). The retaining devices (130) for the work piece (W) are provided in the treatment modules (100). The transport device includes at least one gripping device (10) retaining the work piece (W) each with at least one fastening device (20, 30). Each fastening device (20, 30) includes first clamping devices (25, 35) that are each associated with one side of the work piece (W) and second clamping devices (26). At least one first clamping device (25, 35) associated with a first side of the work piece (W) is designed and disposed such that the position of the first side of the work piece (W) can be defined by the first clamping device (25, 35). At least one second clamping device (26) associated with a second side of the work piece (W) is designed and disposed such that a clamping force can be exerted onto the work piece (W) by the said clamping device. Both the first clamping device (25, 35) and the second clamping device (26) are moveable. According to the invention, the gripping device (10) is actuated as follows: a) moving the first clamping device (25, 35) such that the first clamping device (25, 35) takes over a contact position and thereby the position of the first side of the work piece (W) is defined, and b) moving the second clamping device (26) such that the second clamping device (26) takes over a clamping position and the work piece (W) is thereby clamped together with the at least one first clamping device (25, 35). In doing so the first clamping device (25, 35) takes over the contact position before the second clamping device (26) takes the clamping position.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于工件（W）的电镀处理的垂直系统，所述系统包括至少两个处理模块（100）和至少一个输送装置，用于将至少一个工件（W）输送到 处理模块（100）并将工件（W）传送到处理模块（100）中的保持装置（130）。 用于工件（W）的保持装置（130）设置在处理模块（100）中。 输送装置包括至少一个将工件（W）保持在至少一个紧固装置（20,30）中的夹持装置（10）。 每个紧固装置（20,30）包括分别与工件（W）的一侧和第二夹紧装置（26）相关联的第一夹紧装置（25,35）。 与工件（W）的第一侧相关联的至少一个第一夹紧装置（25,35）被设计和布置成使得工件（W）的第一侧的位置可以由第一夹紧装置 （25,35）。 与工件（W）的第二侧相关联的至少一个第二夹紧装置（26）被设计和布置成使得夹紧力可以通过所述夹紧装置施加到工件（W）上。 第一夹紧装置（25,35）和第二夹紧装置（26）都可移动。 根据本发明，夹紧装置（10）如下致动：a）使第一夹紧装置（25,35）移动，使得第一夹紧装置（25,35）接管接触位置，从而使第 限定工件（W）的第一侧，b）移动第二夹紧装置（26），使得第二夹紧装置（26）接管夹紧位置，并且工件（W）因此与 至少一个第一夹紧装置（25,35）。 在这样做时，第一夹紧装置（25,35）在第二夹紧装置（26）进入夹紧位置之前接管接触位置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020070037447A
公开(公告)日：2007-04-04
申请号：KR1020067027206
申请日：2005-06-21
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
Inventor： 슈나이더라인하르트
IPC: B65G49/04
CPC classification number: B65G49/0459 , B65G2207/30 , Y10T29/534
Abstract: 본 발명은, 처리 라인을 완전히 재구성하지 않고도, 변화하는 환경에 쉽게 적응될 수 있는 수직으로 반송되는 처리 라인의 처리 스테이션에서, 저비용으로 조작가능한, 가공물 반송용 병진 조작기에 관한 것이다. 조작기는 두 개 이상의 가공물 (9) 용 처리 스테이션을 연결하는 안내 수단을 따라 이동가능한 하나 이상의 이동 요소 (10) 와 하나 이상의 호이스팅 요소 (11) 이외에 상기 호이스팅 요소 (11) 에 장착된 가공물 (9) 용의 하나 이상의 파지 요소 (12) 를 포함한다. 조작기에 장착된 호이스팅 요소 (11) 및 파지 요소 (12) 는 모듈러 방식으로 확장되어서 호이스팅 요소 (11) 는 일련의 처리 스테이션을 따라 확장하고 상기 스테이션에 유지되는 가공물 (9) 은 파지 요소 (12) 에 각각 파지된다.
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公开(公告)号：KR1020150071031A
公开(公告)日：2015-06-25
申请号：KR1020157013377
申请日：2008-06-03
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: C25D5/08 , C25D5/04 , C25D17/001 , C25D21/10 , H05K3/241 , H05K2203/0746 , H05K2203/1509
Abstract: 처리제를이용하여제품 (L) 을전해처리하기위한장치가판상제품의처리를보다균일하게하기위해서사용된다. 이장치는: 제품 (L) 을장치에유지시키기위한디바이스 (40, 42), 각각이적어도하나의노즐 (15) 을포함하고제품 (L) 의맞은편에배치되어위치된하나또는복수개의유동디바이스 (10), 처리제에비해비활성이고적어도하나의처리표면에대해평행하게배치되는하나또는복수개의카운터전극 (30), 한쪽에서는제품 (L) 과유동디바이스 (10) 및/또는카운터전극 (30) 사이에서, 다른쪽에서는처리표면에대해평행한적어도일 방향에서상대이동을발생시키는수단 (44) 을포함한다. 제품 (L) 은처리동안에처리제안으로침지될수 있다.
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公开(公告)号：KR101074314B1
公开(公告)日：2011-10-17
申请号：KR1020057002957
申请日：2003-08-28
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
IPC: C23C18/00
Abstract: 매우얇은기초적금속화를가진인쇄회로기판의전해처리에는, 상기인쇄회로기판의표면여러곳에불규칙한결과를가져온다는문제점이있다. 이러한문제점을극복하는데있어서본 발명은적어도두 개의실질직인반대측면가장자리를가지며, 적어도표면에서는전도성을띠는작업물을전해처리하기위한장치를제공한다. 상기장치는작업물용전류공급장치를제공하며, 상기전류공급장치각각은반대측면가장자리에위치하며, 실질적인반대측면가장자리에서작업물을전기적으로결합할수 있는컨택트스트립을포함한다.
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公开(公告)号：KR1020100019481A
公开(公告)日：2010-02-18
申请号：KR1020097025444
申请日：2008-06-03
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: C25D5/08 , C25D5/04 , C25D17/001 , C25D21/10 , H05K3/241 , H05K2203/0746 , H05K2203/1509
Abstract: An apparatus for the electrolytic treatment of the product L using a treatment agent is used to make the treatment of a plate-shaped product more uniform. This apparatus includes: devices for retaining 40, 42 the product L in the apparatus, one or a plurality of flow devices 10, which each include at least one nozzle 15 and are disposed situated opposite the product L, one or a plurality of counter electrodes 30, which are inert relative to the treatment agent and are disposed parallel to at least one treatment surface, means for generating a relative movement 44 between the product L, on the one side, and the flow devices 10 and/or the counter electrodes 30, on the other side, in at least one direction parallel to a treatment surface. The product L can be immersed into the treatment agent during the treatment.
Abstract translation: 使用用于使用处理剂电解处理产品L的装置来使板状产品的处理更均匀。 该装置包括：用于将产品L保持在设备中的装置，一个或多个流动装置10，每个流动装置10包括至少一个喷嘴15并且设置成与产品L相对设置，一个或多个对置电极 30，其相对于处理剂是惰性的并且平行于至少一个处理表面设置，用于在一侧的产品L与流动装置10和/或对电极30之间产生相对运动44的装置 另一方面，在平行于处理表面的至少一个方向上。 产品L可以在处理过程中浸入处理剂中。
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公开(公告)号：KR1020070026698A
公开(公告)日：2007-03-08
申请号：KR1020067027933
申请日：2005-06-30
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
Inventor： 슈나이더라인하르트
IPC: C25D7/12
CPC classification number: C23C18/1601 , C23C18/1619 , C25D7/12 , C25D17/02 , H05K3/0085
Abstract: A device and a method for chemically or electrolytically treating work pieces (1) are proposed in an effort to avoid irregular contours of finest conductive structures, pads and lands as well as bridges (shorts) on the one side or breaks on printed circuit boards on the other side. The device comprises processing tanks (2) for treating the work pieces and a conveyor system for the transport thereof. The conveyor system comprises at least one transport carriage (18), at least one holding element (14, 25) and at least one connection means (12, 13, 35) between the transport carriage(s) and the holding element(s). The processing tanks are adjoined with a clean room zone (3). The work pieces are conveyed through the clean room zone using the conveyor system. ® KIPO & WIPO 2007
Abstract translation: 提出了一种用于化学或电解处理工件（1）的装置和方法，以避免最细的导电结构，焊盘和焊盘以及一侧的桥（短路）的不规则轮廓或印刷电路板上的断裂 另一边。 该装置包括用于处理工件的处理罐（2）和用于运输工件的输送系统。 输送系统包括至少一个输送托架（18），至少一个保持元件（14,25）和至少一个连接装置（12,13,35）之间，该输送托架与保持元件之间， 。 处理槽与洁净室区（3）相邻。 通过传送系统将工件输送到洁净室区域。 ®KIPO＆WIPO 2007
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