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公开(公告)号：KR101526022B1
公开(公告)日：2015-06-04
申请号：KR1020097025383
申请日：2008-06-03
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: H01L21/67086 , B01F11/0014 , B01F11/0082 , B01F2215/004 , B01F2215/0096 , H01L21/67023 , H01L21/67057 , H05K3/0085 , H05K2203/0292 , H05K2203/0746 , H05K2203/1509 , H05K2203/1572
Abstract: 판형생산물 (W) 의표면에걸쳐균일한유동을보장하기위해서, 그안에배치되는판형생산물 (W) 의습식화학처리를위한처리장치 (100) 가제공된다. 이처리장치는적어도하나의패들형유동요소 (155) 를각각포함하는적어도하나의유동부재 (150) 를구비하고, 적어도하나의유동부재 (150) 는판형생산물 (W) 의표면에대향하여배치되고판형생산물 (W) 의표면에대해실질적으로평행하게이동할수 있다.
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公开(公告)号：KR101520982B1
公开(公告)日：2015-05-15
申请号：KR1020107000024
申请日：2008-06-03
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
Abstract: 본 발명은 작업물 (W) 의 도금 처리를 위한 수직 시스템에 관한 것으로, 상기 수직 시스템은, 적어도 2 개의 처리 모듈 (100), 및 적어도 하나의 작업물 (W) 을 처리 모듈 (100) 로 이송하여 이 작업물 (W) 을 처리 모듈 (100) 의 유지 장치 (130) 로 전달하기 위한 적어도 하나의 운반 장치를 포함한다. 처리 모듈 (100) 에는 작업물 (W) 을 위한 유지 장치 (130) 가 제공된다. 운반 장치는 적어도 하나의 각각의 체결 장치 (20, 30) 에 의해 작업물 (W) 을 유지시키는 적어도 하나의 파지 장치 (10) 를 포함한다. 각각의 체결 장치 (20, 30) 는 작업물 (W) 의 일 측부와 각각 연관되는 제 1 클램핑 장치 (25, 35) 및 제 2 클램핑 장치 (26) 를 포함한다. 작업물 (W) 의 제 1 측부와 연관되는 적어도 하나의 제 1 클램핑 장치 (25, 35) 는, 작업물 (W) 의 제 1 측부의 위치가 제 1 클램핑 장치 (25, 35) 에 의해 규정될 수 있도록 구성 및 배치된다. 작업물 (W) 의 제 2 측부와 연관되는 적어도 하나의 제 2 클램핑 장치 (26) 는 클램핑력이 상기 클램핑 장치에 의해 작업물 (W) 에 가해질 수 있도록 구성 및 배치된다. 제 1 클램핑 장치 (25, 35) 및 제 2 클램핑 장치 (26) 의 양자는 이동가능하다. 본 발명에 따르면, 파지 장치 (10) 는, a) 제 1 클램핑 장치 (25, 35) 가 접촉 위치를 점유하고, 따라서 작업물 (W) 의 제 1 측부의 위치가 규정되도록 제 1 클램핑 장치 (25, 35) 를 이동시키는 단계, 및 b) 제 2 클램핑 장치 (26) 가 클램핑 위치를 점유하고, 따라서 작업물 (W) 은 적어도 하나의 제 1 클램핑 장치 (25, 35) 와 함께 클램핑되도록 제 2 클램핑 장치 (26) 를 이동시키는 단계에 의해 구동된다. 이렇게 함에 있어서, 제 1 클램핑 장치 (25, 35) 는, 제 2 클램핑 장치 (26) 가 클램핑 위치를 점유하기 전에 접촉 위치를 점유한다.
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3.发明授权
公开(公告)号：KR101612242B1
公开(公告)日：2016-04-26
申请号：KR1020157017342
申请日：2013-12-03
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
IPC: C25D17/00 , C25D17/12 , C25D17/06 , C25D5/08 , H01L21/768
CPC classification number: C25D17/001 , C25D5/08 , C25D7/123 , C25D17/004 , C25D17/06 , C25D17/12
Abstract: 본발명은기판상에수직갈바닉금속, 바람직하게는구리, 성막을위한디바이스, 이러한디바이스및 처리할기판을수용하는데적합한적어도기판홀더를수용하는데적합한컨테이너, 기판상에갈바닉금속, 특히구리, 성막을위해상기컨테이너의내측에서이러한디바이스의용도에관한것이다.
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Patent Agency Ranking4.发明公开기판상에 수직 갈바닉 금속, 바람직하게는 구리, 성막을 위한 디바이스 및 이 디바이스를 수용하는데 적합한 컨테이너 有权用于垂直气体金属，优选铜，底物沉积的装置和适用于接收这种装置的容器
公开(公告)号：KR1020150086547A
公开(公告)日：2015-07-28
申请号：KR1020157017342
申请日：2013-12-03
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
IPC: C25D17/00 , C25D17/12 , C25D17/06 , C25D5/08 , H01L21/768
CPC classification number: C25D17/001 , C25D5/08 , C25D7/123 , C25D17/004 , C25D17/06 , C25D17/12
Abstract: 본발명은기판상에수직갈바닉금속, 바람직하게는구리, 성막을위한디바이스, 이러한디바이스및 처리할기판을수용하는데적합한적어도기판홀더를수용하는데적합한컨테이너, 기판상에갈바닉금속, 특히구리, 성막을위해상기컨테이너의내측에서이러한디바이스의용도에관한것이다.
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公开(公告)号：KR1020150043522A
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：KR1020157008237
申请日：2013-09-16
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: C25D17/06 , C25D7/12 , C25D17/001 , C25D17/004 , H05K3/007 , Y10T29/49117 , C25D17/08
Abstract: 제품 (5) 의처리를위한홀딩기기에관한것으로, 상기홀딩기기는제 1 홀딩부 (41) 및제 2 홀딩부 (42) 를포함한다. 제 1 홀딩부 (41) 는제품 (5) 의제 1 측면 (6) 과접촉을형성하기위해적어도하나의제 1 전기접촉요소 (13) 를포함한다. 제 2 홀딩부 (42) 는제품 (5) 의제 2 측면 (7) 과접촉을형성하기위해적어도하나의제 2 전기접촉요소 (14) 를포함하고, 제 2 측면은제 1 측면 (6) 과대향하게놓여있다. 제 1 홀딩부 (41) 와제 2 홀딩부 (42) 는, 제품 (5) 을홀딩하기위해탈착가능하게서로체결될수 있도록배열된다. 제품시일 (15, 16) 과하우징시일 (17) 은, 처리상태에서적어도하나의제 1 전기접촉요소 (13) 및적어도하나의제 2 전기접촉요소 (14) 로유체의침투를방지하도록실링배열체를제공한다.
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公开(公告)号：KR1020100017633A
公开(公告)日：2010-02-16
申请号：KR1020097025383
申请日：2008-06-03
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: H01L21/67086 , B01F11/0014 , B01F11/0082 , B01F2215/004 , B01F2215/0096 , H01L21/67023 , H01L21/67057 , H05K3/0085 , H05K2203/0292 , H05K2203/0746 , H05K2203/1509 , H05K2203/1572
Abstract: To ensure a uniform flow over the surface of a product W, an apparatus is provided for the wet chemical treatment of the product W that is disposed in the apparatus 100. This apparatus comprises at least one flow member 150 that includes respectively at least one paddle-like flow element 155, wherein at least one flow member 155 is disposed situated opposite the surface of the product W and is moveable substantially parallel to the surface of the product W.
Abstract translation: 为了确保在产品W的表面上的均匀流动，提供了用于对设置在设备100中的产品W进行湿化学处理的设备。该设备包括至少一个流动构件150，其分别包括至少一个桨 类流动元件155，其中至少一个流动构件155设置成与产品W的表面相对并且可基本上平行于产品W的表面移动。
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公开(公告)号：KR101630585B1
公开(公告)日：2016-06-14
申请号：KR1020157008237
申请日：2013-09-16
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: C25D17/06 , C25D7/12 , C25D17/001 , C25D17/004 , H05K3/007 , Y10T29/49117
Abstract: 제품 (5) 의처리를위한홀딩기기에관한것으로, 상기홀딩기기는제 1 홀딩부 (41) 및제 2 홀딩부 (42) 를포함한다. 제 1 홀딩부 (41) 는제품 (5) 의제 1 측면 (6) 과접촉을형성하기위해적어도하나의제 1 전기접촉요소 (13) 를포함한다. 제 2 홀딩부 (42) 는제품 (5) 의제 2 측면 (7) 과접촉을형성하기위해적어도하나의제 2 전기접촉요소 (14) 를포함하고, 제 2 측면은제 1 측면 (6) 과대향하게놓여있다. 제 1 홀딩부 (41) 와제 2 홀딩부 (42) 는, 제품 (5) 을홀딩하기위해탈착가능하게서로체결될수 있도록배열된다. 제품시일 (15, 16) 과하우징시일 (17) 은, 처리상태에서적어도하나의제 1 전기접촉요소 (13) 및적어도하나의제 2 전기접촉요소 (14) 로유체의침투를방지하도록실링배열체를제공한다.
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公开(公告)号：KR1020100033997A
公开(公告)日：2010-03-31
申请号：KR1020107000024
申请日：2008-06-03
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: C25D17/06 , C25D7/02 , C25D7/04 , C25D7/123 , C25D17/00 , C25D17/001 , H05K3/241
Abstract: The present invention relates to a vertical system for the plating treatment of a work piece (W), the said system including at least two treatment modules (100) and at least one transport device for conveying at least one work piece (W) to a treatment module (100) and for transferring the work piece (W) to retaining devices (130) in the treatment module (100). The retaining devices (130) for the work piece (W) are provided in the treatment modules (100). The transport device includes at least one gripping device (10) retaining the work piece (W) each with at least one fastening device (20, 30). Each fastening device (20, 30) includes first clamping devices (25, 35) that are each associated with one side of the work piece (W) and second clamping devices (26). At least one first clamping device (25, 35) associated with a first side of the work piece (W) is designed and disposed such that the position of the first side of the work piece (W) can be defined by the first clamping device (25, 35). At least one second clamping device (26) associated with a second side of the work piece (W) is designed and disposed such that a clamping force can be exerted onto the work piece (W) by the said clamping device. Both the first clamping device (25, 35) and the second clamping device (26) are moveable. According to the invention, the gripping device (10) is actuated as follows: a) moving the first clamping device (25, 35) such that the first clamping device (25, 35) takes over a contact position and thereby the position of the first side of the work piece (W) is defined, and b) moving the second clamping device (26) such that the second clamping device (26) takes over a clamping position and the work piece (W) is thereby clamped together with the at least one first clamping device (25, 35). In doing so the first clamping device (25, 35) takes over the contact position before the second clamping device (26) takes the clamping position.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于工件（W）的电镀处理的垂直系统，所述系统包括至少两个处理模块（100）和至少一个输送装置，用于将至少一个工件（W）输送到 处理模块（100）并将工件（W）传送到处理模块（100）中的保持装置（130）。 用于工件（W）的保持装置（130）设置在处理模块（100）中。 输送装置包括至少一个将工件（W）保持在至少一个紧固装置（20,30）中的夹持装置（10）。 每个紧固装置（20,30）包括分别与工件（W）的一侧和第二夹紧装置（26）相关联的第一夹紧装置（25,35）。 与工件（W）的第一侧相关联的至少一个第一夹紧装置（25,35）被设计和布置成使得工件（W）的第一侧的位置可以由第一夹紧装置 （25,35）。 与工件（W）的第二侧相关联的至少一个第二夹紧装置（26）被设计和布置成使得夹紧力可以通过所述夹紧装置施加到工件（W）上。 第一夹紧装置（25,35）和第二夹紧装置（26）都可移动。 根据本发明，夹紧装置（10）如下致动：a）使第一夹紧装置（25,35）移动，使得第一夹紧装置（25,35）接管接触位置，从而使第 限定工件（W）的第一侧，b）移动第二夹紧装置（26），使得第二夹紧装置（26）接管夹紧位置，并且工件（W）因此与 至少一个第一夹紧装置（25,35）。 在这样做时，第一夹紧装置（25,35）在第二夹紧装置（26）进入夹紧位置之前接管接触位置。
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