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公开(公告)号：KR1020130090872A
公开(公告)日：2013-08-14
申请号：KR1020137000639
申请日：2011-07-06
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: B05C11/00 , B05D1/18 , C23C18/1617 , C23C18/54
Abstract: 욕 (bath) 의 공정을 단순화하기 위하여, 제 2 금속을 노출시키는 가공물 (12) 에 제 1 금속의 코팅을 성막하는 방법이 제안되고, 이러한 방법은, a) 성막될 제 1 금속의 이온을 포함하는 욕 성분, 상기 제 2 금속 용의 적어도 하나의 착화제 그리고 적어도 하나의 산을 포함하는 욕액 (16) 을 제공하는 단계, b) 상기 가공물 (12) 에 상기 욕액 (16) 으로부터 상기 제 1 금속의 상기 코팅을 성막하는 단계, c) 상기 욕액 (16) 을 침강조 (18) 로 공급하는 단계, d) 침전물 및 여과액의 생성을 위해 침강조 (18) 내의 욕액 (16) 을 냉각시키는 단계로서, 상기 침전물은 상기 제 2 금속 및 상기 적어도 하나의 착화제를 포함하는 단계, e) 여과 장치 (20) 에 의해 상기 여과액으로부터 상기 침전물을 분리하는 단계, f) 상기 욕액 (16) 에 상기 여과액을 복귀시키는 단계, 그리고 g) 상기 욕� �� (16) 에 욕 성분을 보충시키는 단계를 포함한다. 본 발명에 따른 방법은 상기 여과액으로부터 상기 침전물의 분리에 관하여, 상기 여과 장치에 의해 통해 압력차가 생성되는 것을 특징으로 한다.
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Patent Agency Ranking2.发明公开
公开(公告)号：KR1020170078657A
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：KR1020177011761
申请日：2015-10-15
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
IPC: H05K3/00
CPC classification number: H05K3/0055 , B81C1/00539 , H05K3/00 , H05K3/0088 , H05K2203/0796 , H05K2203/1545
Abstract: 본발명은침전물의제거를위한피처리기판상에서의금속, 특히구리퇴적을위한수평갈바닉또는습식-화학공정라인을위한디스미어모듈에관한것으로, 이는디스미어유닛에연결될수 있는디스미어용기, 펌프및 상기펌프를상기디스미어유닛에연결하기위한적어도제 1 액체연결요소를포함하고, 상기펌프는상기적어도제 1 액체연결요소에의해상기디스미어유닛과연관되고, 상기디스미어모듈의내부에상기펌프의흡입영역의위에있는처리액체레벨이제공되고, 상기디스미어모듈은, 추가로, 적어도제 1 액체영역, 상기펌프의상기흡입영역을포함하는인접한적어도제 2 액체영역, 및상기적어도제 1 액체영역과상기적어도제 2 액체영역사이에배열된적어도제 1 분리요소를포함한다. 본발명은추가로, 상기디스미어모듈로부터디스미어입자를선택적으로분리하고후속하여제거하는방법에관한것이다.
Abstract translation: 本发明目标衬底sangeseoui金属，特别是水平电偶或湿为用于除去沉积物涉及去污模块为其除污单元去污可连接到泵容器的化学工艺线铜沉积，和 所述泵包括至少一个第一流体连接元件，用于连接到去污单元到泵，并且所述至少第一和通过与去污单元，所述泵以去污模块的内部相关联的第一流体联接元件 被提供的吸入区域上方的处理液水平，去污模块，此外，至少一个第一液体区，邻近于至少一个第二流体区域包括泵的吸入区域中，并且所述至少第一液体 并且至少第一分离元件布置在所述区域与所述至少第二液体区域之间。 本发明进一步涉及一种用于选择性地分离并随后从去除污秽模块去除去沾污颗粒的方法。
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公开(公告)号：KR101770446B1
公开(公告)日：2017-09-05
申请号：KR1020137000639
申请日：2011-07-06
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: B05C11/00 , B05D1/18 , C23C18/1617 , C23C18/54
Abstract: 욕 (bath) 의공정을단순화하기위하여, 제 2 금속을노출시키는가공물 (12) 에제 1 금속의코팅을성막하는방법이제안되고, 이러한방법은, a) 성막될제 1 금속의이온을포함하는욕 성분, 상기제 2 금속용의적어도하나의착화제그리고적어도하나의산을포함하는욕액 (16) 을제공하는단계, b) 상기가공물 (12) 에상기욕액 (16) 으로부터상기제 1 금속의상기코팅을성막하는단계, c) 상기욕액 (16) 을침강조 (18) 로공급하는단계, d) 침전물및 여과액의생성을위해침강조 (18) 내의욕액 (16) 을냉각시키는단계로서, 상기침전물은상기제 2 금속및 상기적어도하나의착화제를포함하는단계, e) 여과장치 (20) 에의해상기여과액으로부터상기침전물을분리하는단계, f) 상기욕액 (16) 에상기여과액을복귀시키는단계, 그리고 g) 상기욕액 (16) 에욕 성분을보충시키는단계를포함한다. 본발명에따른방법은상기여과액으로부터상기침전물의분리에관하여, 상기여과장치를통해압력차가생성되는것을특징으로한다.
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公开(公告)号：KR101640693B1
公开(公告)日：2016-07-18
申请号：KR1020147004929
申请日：2012-08-24
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
Abstract: 본발명은, 과망간산염을포함하는처리용액으로플라스틱부품들을처리하기위한방법에관한것으로, 처리용액의탄산염화합물들의농도는, 동결석출및 후속여과에의한처리용액으로부터의탄산염화합물들의제거에의해서 200 g/ℓ미만의값으로설정되고, 처리용액은과망간산나트륨을포함한다. 또한, 본발명은, 이러한방법의실시를위해서처리용액에포함된탄산염화합물들의농도를감소시킴으로써플라스틱부품들을처리및/또는에칭하기위해이용되는, 과망간산염을포함하는처리용액의적어도부분적인재생을위한장치에관한것으로, 장치는처리용액이재생되게되는적어도하나의냉각탱크를포함하고, 처리용액으로부터탄산염화합물들을분리하기위한하류의필터장치를가지고; 그리고추가적으로본 발명은이러한방법을실시하기위한이러한장치의용도에관한것이다.
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公开(公告)号：KR1020140058577A
公开(公告)日：2014-05-14
申请号：KR1020147004929
申请日：2012-08-24
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
Abstract: 본 발명은, 과망간산염을 포함하는 처리 용액으로 플라스틱 부품들을 처리하기 위한 방법에 관한 것으로, 처리 용액의 탄산염 화합물들의 농도는, 동결 석출 및 후속 여과에 의한 처리 용액으로부터의 탄산염 화합물들의 제거에 의해서 200 g/ℓ 미만의 값으로 설정되고, 처리 용액은 과망간산 나트륨을 포함한다. 또한, 본 발명은, 이러한 방법의 실시를 위해서 처리 용액에 포함된 탄산염 화합물들의 농도를 감소시킴으로써 플라스틱 부품들을 처리 및/또는 에칭하기 위해 이용되는, 과망간산염을 포함하는 처리 용액의 적어도 부분적인 재생을 위한 장치에 관한 것으로, 장치는 처리 용액이 재생되게 되는 적어도 하나의 냉각 탱크를 포함하고, 처리 용액으로부터 탄산염 화합물들을 분리하기 위한 하류의 필터 장치를 가지고; 그리고 추가적으로 본 발명은 이러한 방법을 실시하기 위한 이러한 장치의 용도에 관한 것이다.
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公开(公告)号：KR101975128B1
公开(公告)日：2019-05-03
申请号：KR1020177011761
申请日：2015-10-15
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
IPC: H05K3/00
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