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公开(公告)号:KR1020100038241A
公开(公告)日:2010-04-14
申请号:KR1020080091794
申请日:2008-09-18
Applicant: 전남대학교산학협력단
CPC classification number: G01Q60/16 , G01Q60/22 , G01Q60/40 , H01L21/306
Abstract: PURPOSE: A device of manufacturing a probe using electrochemical etching and the probe thereof are provided to automatically control cut-off time. CONSTITUTION: The first metal wire(120a) is connected to the positive pole of a power supply device(110). The second metal wire(120b) is connected to the negative pole of the power supply device. At etching container(200) contains etching solution. The etching container is formed by a hydrophobic structure. The hydrophobic structure is formed by Teflon.
Abstract translation: 目的:提供使用电化学蚀刻制造探针的装置及其探针,以自动控制切断时间。 构成:第一金属线(120a)连接到电源装置(110)的正极。 第二金属线(120b)连接到电源装置的负极。 在蚀刻容器(200)中含有蚀刻溶液。 蚀刻容器由疏水结构形成。 疏水结构由特氟隆形成。
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公开(公告)号:KR101090493B1
公开(公告)日:2011-12-06
申请号:KR1020080091794
申请日:2008-09-18
Applicant: 전남대학교산학협력단
Abstract: 본 발명은 금속와이어에 탐침을 형성하는 식각장치에 관한 것으로 보다 상세하게는, 전기화학적 식각장치에 소수성을 갖는 테플론으로 이루어진 식각용기를 구비함으로써, 종래의 전긱화적 식각장치가 갖는 문제점을 해결하고, 고종횡비의 날카로운 탐침을 제작할 수 있는 전기화학적 식각을 이용한 탐침 제작장치 및 탐침에 관한 것이다.
소수성, 텅스텐, 메니스커스, 테플론, 전기화학적 식각, STM
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