公开(公告)号：KR100987111B1

公开(公告)日：2010-10-11

申请号：KR1020080092961

申请日：2008-09-22

Applicant: 전남대학교산학협력단

Inventor： 이동원 ,  박창신 ,  최보영

IPC: H01L21/302

Abstract: 본 발명은 습식 식각 장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 식각 용액에 반응하지 않는 소수성의 식각 용기, 및 상기 식각 용기를 식각 대상에 점착시키는 점착부재를 포함하는 습식 식각 장치에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 원하는 부분만을 쉽고 간단하게 식각할 수 있는 습식 식각 장치를 제공한다.
테프론, PDMS, 습식 식각, 웨이퍼

公开(公告)号：KR1020100038241A

公开(公告)日：2010-04-14

申请号：KR1020080091794

申请日：2008-09-18

Applicant: 전남대학교산학협력단

Inventor： 이동원 ,  박창신 ,  강미현 ,  최보영

IPC: G01Q60/10 ,  G01Q60/38 ,  G01N27/00

CPC classification number: G01Q60/16 ,  G01Q60/22 ,  G01Q60/40 ,  H01L21/306

Abstract: PURPOSE: A device of manufacturing a probe using electrochemical etching and the probe thereof are provided to automatically control cut-off time. CONSTITUTION: The first metal wire(120a) is connected to the positive pole of a power supply device(110). The second metal wire(120b) is connected to the negative pole of the power supply device. At etching container(200) contains etching solution. The etching container is formed by a hydrophobic structure. The hydrophobic structure is formed by Teflon.

Abstract translation: 目的：提供使用电化学蚀刻制造探针的装置及其探针，以自动控制切断时间。 构成：第一金属线（120a）连接到电源装置（110）的正极。 第二金属线（120b）连接到电源装置的负极。 在蚀刻容器（200）中含有蚀刻溶液。 蚀刻容器由疏水结构形成。 疏水结构由特氟隆形成。

公开(公告)号：KR101090493B1

公开(公告)日：2011-12-06

申请号：KR1020080091794

申请日：2008-09-18

Applicant: 전남대학교산학협력단

Inventor： 이동원 ,  박창신 ,  강미현 ,  최보영

IPC: G01Q60/10 ,  G01Q60/38 ,  G01N27/00

Abstract: 본 발명은 금속와이어에 탐침을 형성하는 식각장치에 관한 것으로 보다 상세하게는, 전기화학적 식각장치에 소수성을 갖는 테플론으로 이루어진 식각용기를 구비함으로써, 종래의 전긱화적 식각장치가 갖는 문제점을 해결하고, 고종횡비의 날카로운 탐침을 제작할 수 있는 전기화학적 식각을 이용한 탐침 제작장치 및 탐침에 관한 것이다.
소수성, 텅스텐, 메니스커스, 테플론, 전기화학적 식각, STM

公开(公告)号：KR1020100033886A

公开(公告)日：2010-03-31

申请号：KR1020080092961

申请日：2008-09-22

Applicant: 전남대학교산학협력단

Inventor： 이동원 ,  박창신 ,  최보영

IPC: H01L21/302

Abstract: PURPOSE: A wet-etching device is provided to allow a user to etch a target easily by preventing the leakage of etch solution. CONSTITUTION: A wet etching apparatus(100) comprises an etching container(110) and an adhesive member(120). An etching container is comprised of a hydrophobicity structure while containing the etching solution. The top and lower part of the etching container are opened. The adhesion member is combined with the lower part of the etching container. The center of the adhesive member is penetrated.

Abstract translation: 目的：提供湿蚀刻装置，以允许用户通过防止蚀刻溶液的泄漏而容易地蚀刻靶。 构成：湿蚀刻装置（100）包括蚀刻容器（110）和粘合构件（120）。 蚀刻容器由含有蚀刻溶液的疏水性结构构成。 打开蚀刻容器的顶部和下部。 粘合部件与蚀刻容器的下部组合。 粘合剂构件的中心被穿透。