公开(公告)号：KR1020120019545A

公开(公告)日：2012-03-07

申请号：KR1020100082790

申请日：2010-08-26

Applicant: 전남대학교산학협력단

Inventor： 이동원 ,  안준형 ,  오재원 ,  손중기 ,  이창훈

IPC: G03F7/20 ,  C08J5/18 ,  C08L83/04

CPC classification number: G03F7/2014 ,  C08G77/18 ,  C08G77/50 ,  C08J5/18 ,  C08L83/04 ,  C08L83/14 ,  C09D183/04 ,  C09D183/14 ,  G03F7/063 ,  G03F7/0752

Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a super water-repellent polymer film is provided to cost-effectively obtain the super water-repellent polymer film and to improve the contact angle of the super water-repellent film. CONSTITUTION: A method for manufacturing a super water-repellent polymer film includes the following: aluminum deposited on a silicon wafer as a sacrificial layer; photo-resist is coated on the aluminum deposited layer; a chrome mask of constant pattern grooves is aligned on the photo-resist; an exposing operation and a developing operation are implemented; super hydrophobic polymer is coated on the developed photo-resist; the aluminum deposited layer is eliminated; and the photo-resist eliminated. The super hydrophobic polymer is polydimethylsiloxane or SU-8.

Abstract translation: 目的：提供一种制造超疏水性聚合物膜的方法，以便成本有效地获得超疏水性聚合物膜并改善超级防水膜的接触角。 构成：超疏水性聚合物膜的制造方法，其特征在于：将沉积在硅晶片上的铝作为牺牲层; 光致抗蚀剂涂覆在铝沉积层上; 恒定图案凹槽的铬掩模在光致抗蚀剂上对准; 实施曝光操作和显影操作; 将超疏水性聚合物涂覆在显影的光刻胶上; 淘汰铝沉积层; 并消除光刻胶。 超疏水性聚合物是聚二甲基硅氧烷或SU-8。

公开(公告)号：KR101220416B1

公开(公告)日：2013-01-10

申请号：KR1020100082790

申请日：2010-08-26

Applicant: 전남대학교산학협력단

Inventor： 이동원 ,  안준형 ,  오재원 ,  손중기 ,  이창훈

IPC: G03F7/20 ,  C08J5/18 ,  C08L83/04

Abstract: 본 발명은 초발수성 폴리머 필름의 제작방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 포토리소그래피(phothlithography) 공정을 이용하여 표면에 고종횡비 마이크로 구조물을 갖는 초발수성 필름을 제작하는 방법에 관한 것이다.
본 발명의 제작방법에 따르면, 실리콘을 식각하는 종래 기술에 비하여 간단하고 경제적인 포토리소그래피(phothlithography) 공정을 이용하여 접촉각이 향상된 초발수성 필름을 제작할 수 있다.