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公开(公告)号：KR101332023B1
公开(公告)日：2013-11-25
申请号：KR1020110052337
申请日：2011-05-31
Applicant: 전자부품연구원
Abstract: 유기 발광 다이오드 조명 장치에서, 기판 위에 형성되는 유기 발광 다이오드를 보호하기 위한 봉지 부재에 유기 발광 다이오드의 애노드 전극과 캐소드 전극의 저항을 감소시키기 위한 보조 전극을 형성한다.
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公开(公告)号：KR101285590B1
公开(公告)日：2013-07-12
申请号：KR1020110016585
申请日：2011-02-24
Applicant: 전자부품연구원
IPC: G02F1/1333 , G02F1/13 , G02F1/1335
Abstract: 본 발명은 액정표시장치의 기판 분리 및 재생 방법에 관한 것으로, 구체적으로는 액정표시장치에 포함되어 있는 기판을 재사용할 수 있도록 액정표시장치를 분해여 액정을 제거하고 컬러 필터 기판(상부 기판) 및 TFT-어레이 기판(하부 기판)상에 적층되어 있던 컬러 필터, 투명 전극, 편광 필름 등을 포함하는 여러 부품층 및 필름을 제거함으로써 상부 및 하부 기판을 분리 및 재생하는 방법에 관한 것이다.
상부 기판의 일면에는 편광 필름이 에폭시로 부착되고 다른 면에는 컬러 필터와 공통전극이 적층되어 구성되는 컬러 필터 기판(상부 기판)과, 게이트 전극과 실리콘 질화막과 액티브 층과 소스 및 드레인 전극과 화소 전극이 하부 기판의 일면에 적층되고 다른 면에는 편광필름이 에폭시로 부착되어 구성되는 TFT-어레이 기판(하부 기판)과, 상기 컬러 필터 기판(상부 기판)과 상기 TFT-어레이 기판(하부 기판) 사이에 채워져서 실란트에 의해 보존되는 액정으로 구성되는 액정표시장치에 있어서, 본 발명에 따르는 액정표시장치의 기판 분리 및 재생 방법은, 액정표시장치를 컬러 필터 기판 및 TFT-어레이 기판으로 각각 분리하는 단계; 분리된 상기 컬러 필터 기판(상부 기판)과 상기 TFT-어레이 기판(하부 기판)의 잔여 액정을 제거하는 단계; 상기 상부 기판 및 하부 기판의 일면에 부착된 편광 필름을 떼어내고 상부 기판 및 하부 기판상의 잔여 에폭시를 제거하는 단계; 상기 상부 기판의 다른 면에 구성된 컬러 필터 및 투명 전극층을 제거하는 단계; 및 상기 하부 기판의 일면에 배치된 실리콘 질화막을 용해하여, 액티브 층과 소스 및 드레인 전극과 화소 전극(투명 전극)을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.-
公开(公告)号：KR1020130075553A
公开(公告)日：2013-07-05
申请号：KR1020110143952
申请日：2011-12-27
Applicant: 전자부품연구원
IPC: H01L23/36
CPC classification number: H01L21/02263 , H01L21/02422 , H01L21/324 , H01L21/76828 , H01L23/3731
Abstract: PURPOSE: A heat radiation substrate and a method for manufacturing a thin film are provided to improve the deposition speed and density of the thin film by forming the thin film after filler powder and ceramic powder are changed into aerosols and are deposited on a substrate. CONSTITUTION: Material powder is generated by mixing ceramic powder with filler powder. The ceramic powder and the filler powder are changed into aerosols and a thin film (120) is formed by spraying the aerosols on a substrate (110). The substrate with the thin film is heated at temperatures between the melting point of the ceramic powder and the melting point of glass powder. A circuit pattern (130) made of copper or gold is formed on the upper side of the thin film. The filler powder includes epoxy or polyimide based polymer materials or the glass powder.
Abstract translation: 目的：提供散热基板和制造薄膜的方法，通过在将填料粉末和陶瓷粉末变成气溶胶并沉积在基板上之后，通过形成薄膜来提高薄膜的沉积速度和密度。 构成：通过将陶瓷粉末与填料粉末混合产生材料粉末。 将陶瓷粉末和填料粉末变成气溶胶，通过将气溶胶喷涂在基材（110）上形成薄膜（120）。 具有薄膜的基板在陶瓷粉末的熔点和玻璃粉末的熔点之间的温度下被加热。 在薄膜的上侧形成由铜或金制成的电路图案（130）。 填料粉末包括环氧树脂或聚酰亚胺基聚合物材料或玻璃粉末。
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4.发明公开
公开(公告)号：KR1020120116659A
公开(公告)日：2012-10-23
申请号：KR1020110034234
申请日：2011-04-13
Applicant: 전자부품연구원
Abstract: PURPOSE: A collecting method for indium tin oxide and valuable resources from a liquid crystal display device and collected indium tin oxide by the method are provided to collect indium tin oxide and valuable sources from a liquid crystal display device using a simple process. CONSTITUTION: A collecting method for indium tin oxide and valuable resources from a liquid crystal display device comprises the following steps: separating liquid crystal display(s110); separating an upper plate from a lower plate of a liquid crystal display(s120); removing polaroid film and liquid crystal residue of the upper plate(s130); removing a color filter of the upper plate and separating a glass substrate from the upper plate(s140); and heat treating and pulverizing the residual indium tin oxide(s150); and post-treating indium tin oxide(s160). In the first step, a sealed part of the upper and lower plates is cut by being scribed. The Polaroid film is removed by using an organic solvent. The color filter is removed by dissolving the color filter using alkaline solution. [Reference numerals] (AA) Start; (BB) End; (S110) Decomposing product and separating liquid crystal display; (S120) Separating an upper plate from a lower plate of a liquid crystal display; (S130) Removing Polaroid film and liquid crystal; (S140) Removing a color filter and separating a glass substrate; (S150) Heat treating and pulverizing the residual indium tin oxide; (S160) Post-treating indium tin oxide
Abstract translation: 目的：提供一种通过该方法从液晶显示装置和收集的氧化铟锡中的氧化铟锡和有价值的资源的收集方法，以使用简单的工艺从液晶显示装置中收集氧化铟锡和有价值的源。 构成：从液晶显示装置获得的氧化铟锡和有价值的资源的收集方法包括以下步骤：分离液晶显示器（s110）; 从液晶显示器的下板分离上板（S120）; 去除所述上板的偏光片和液晶残渣（s130）; 去除上板的滤色片并将玻璃基板与上板分离（s140）; 并对残留的氧化铟锡进行热处理和粉碎（s150）; 和后处理氧化铟锡（s160）。 在第一步骤中，通过划刻切割上板和下板的密封部分。 通过使用有机溶剂除去偏光片。 通过使用碱性溶液溶解滤色器除去滤色器。 （附图标记）（AA）开始; （BB）结束; （S110）分解产品并分离液晶显示器; （S120）从液晶显示器的下板分离上板; （S130）去除偏光片和液晶; （S140）去除滤色器并分离玻璃基板; （S150）对残留的氧化铟锡进行热处理粉碎; （S160）后处理氧化铟锡
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公开(公告)号：KR1020120097181A
公开(公告)日：2012-09-03
申请号：KR1020110016585
申请日：2011-02-24
Applicant: 전자부품연구원
IPC: G02F1/1333 , G02F1/13 , G02F1/1335
CPC classification number: G02F1/1309 , G02F1/133514 , G02F1/1368 , G02F2203/68
Abstract: PURPOSE: A method for separating and recycling a substrate of a liquid crystal display device is provided to eliminate several layers from a substrate without breaking the liquid crystal display device, thereby separating and recycling upper/lower substrates of the liquid crystal display device. CONSTITUTION: Polarization films attached to one-sides of upper/lower substrates are eliminated. Remaining epoxy is eliminated from the upper/lower substrates. A color filter and a transparent electrode layer are eliminated from the other side of the upper substrate. A silicon nitride film is dissolved while the silicon nitride film is arranged on the lower substrate. An active layer, source and drain electrodes, and a pixel electrode are eliminated. [Reference numerals] (AA) Disassembling products and separating TFT-LCDs; (BB) Cutting the edge and separating upper/lower substrates; (CC) Removing polarization films of the upper/lower substrates and epoxy; (DD) Removing a color filter and a transparent electrode of the upper substrate; (EE) Removing SiNx, a pixel electrode and residues of the lower substrate; (FF) Forming a recycled substrate; (GG) Treating the surface of the substrate for reinforcement
Abstract translation: 目的：提供一种分离和再循环液晶显示装置的基板的方法，从而从液晶显示装置中分离和再循环上下基板，从而从基板上除去多层而不破坏液晶显示装置。 构成：消除了附着在上/下基板一侧的极化膜。 剩余的环氧树脂从上/下基板上消除。 从上基板的另一侧排出滤色器和透明电极层。 氮化硅膜被溶解，而氮化硅膜被布置在下基板上。 消除有源层，源极和漏极以及像素电极。 （附图标记）（AA）拆卸产品和分离TFT-LCD; （BB）切割边缘并分离上/下基板; （CC）去除上/下基板和环氧树脂的偏振膜; （DD）去除上基板的滤色器和透明电极; （EE）去除SiNx，像素电极和下基板的残留物; （FF）形成再生基材; （GG）处理基材的表面进行加固
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020120066817A
公开(公告)日：2012-06-25
申请号：KR1020100128095
申请日：2010-12-15
Applicant: 전자부품연구원
CPC classification number: B22F1/0018 , B22F9/04 , B82Y40/00
Abstract: PURPOSE: A manufacturing apparatus of nanopowder through evaporation, condensation, and oil collection is provided to mass produce various kinds of active metal nano powders by including two source material evaporators and collecting nanopowder through oil which revolves in a vacuum condition. CONSTITUTION: A manufacturing apparatus of nanopowder through evaporation, condensation, and oil collection comprises a source material feeding unit(200) which successively provides source materials to a powder collecting unit, the powder collecting unit(100) which produces, collects, and discharges powder from the provided source materials, a vacuum pump which is connected to the source material feeding unit and the powder collecting unit and makes a vacuum state; a power supply unit which provides power to the source material feeding unit and the powder collecting unit, and a control unit(300) which is connected to the vacuum pump and the power supply unit and controls degree of a vacuum and power of the source material feeding unit and the powder collecting unit.
Abstract translation: 目的：提供通过蒸发，冷凝和集油的纳米粉末制造设备，通过包括两种源材料蒸发器和通过在真空条件下旋转的油收集纳米粉末来大量生产各种活性金属纳米粉末。 构成：通过蒸发，冷凝和集油的纳米粉末制造装置包括：源材料供给单元（200），其连续地向粉末收集单元提供源材料;粉末收集单元（100），其生成，收集和排出粉末 从所提供的源材料中，连接到源材料供给单元和粉末收集单元并且形成真空状态的真空泵; 向源材料供给单元和粉末收集单元提供电力的供电单元和连接到真空泵和电源单元并控制源材料的真空度和功率的控制单元（300） 进料单元和粉末收集单元。
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公开(公告)号：KR101550882B1
公开(公告)日：2015-09-07
申请号：KR1020140007574
申请日：2014-01-22
Applicant: 전자부품연구원
IPC: C04B35/581 , C04B35/64
Abstract: 세라믹기판및 이의제조방법이제공되고, 본발명의일 구현예에따른세라믹기판은알루미늄을포함하고, 서로마주보는상부표면(upper surface) 및하부표면(lower surface)을갖는질화물층을포함하고, 질화물층의내부에서상부표면에가까워질수록질소농도가낮아지고, 질화물층 내부에서상부표면에가까워질수록산소원자, 수소원자, 또는염소원자의농도가높아지는것일수 있다.
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公开(公告)号：KR1020150049691A
公开(公告)日：2015-05-08
申请号：KR1020130130552
申请日：2013-10-30
Applicant: 전자부품연구원
Abstract: 전극및 이의제조방법이제공되고, 본발명의일 구현예에서전극은투명기판, 상기투명기판위에위치하고, 고분자내부에나노입자가균일하게분산된나노복합체, 상기나노복합체위에위치하고, 표면상에불규칙한구조를갖는미세요철을포함한투명전극층을포함할수 있다.
Abstract translation: 提供一种电极及其制造方法。 根据本发明的实施例，电极包括：透明基板; 设置在透明基板上的纳米复合材料，其中纳米颗粒均匀分散在聚合物内; 以及位于纳米复合材料上的透明电极层，并且包括在表面上具有不规则结构的微细凹凸部。
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公开(公告)号：KR101460771B1
公开(公告)日：2014-11-14
申请号：KR1020130079171
申请日：2013-07-05
Applicant: 전자부품연구원
CPC classification number: H01L51/5203 , H01L51/56
Abstract: 본 발명은 기판 상에 네가티브 포토레지스트층을 형성한 후, 포토레지스트층을 프리 베이킹하고 UV광을 조사하여 네가티브 포토레지스트층을 경화시킨 다음, 투명전도성산화물을 스퍼터링하여 네가티브 포토레지스트층 상에 증착하여 불규칙적인 미세 패턴을 가진 투명전극층을 형성하는 미세 패턴을 갖는 전극 구조물 및 이의 제작 방법에 관한 것이다.
Abstract translation: 本发明涉及具有精细图案的电极结构及其制造方法，在基片上形成负性光致抗蚀剂层，预烘烤负性光致抗蚀剂层，用UV光照射负性光致抗蚀剂层，以使负性光致抗蚀剂层硬化 并在负性光致抗蚀剂层上溅射透明导电氧化物，以将透明导电氧化物沉积在负性光致抗蚀剂层上，从而形成具有不规则精细图案的透明电极层。
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公开(公告)号：KR1020130015806A
公开(公告)日：2013-02-14
申请号：KR1020110078043
申请日：2011-08-05
Applicant: 전자부품연구원
CPC classification number: C01B33/18 , C01P2004/64 , C01P2006/80
Abstract: PURPOSE: A silicon oxide nano-particle manufacturing method is provided to remove a high temperature process for removing harmful materials during a SiO2 nano powder formation by using Cl- or NO3- without the harmful materials for heating and washing processes. CONSTITUTION: A silicon oxide nano-particle manufacturing method comprises the following steps. A raw material in a Si content colloidal type is dissolved at a room temperature to manufacture an organic solution. The organic solution is stirred until the evaporation of the organic solution is completed, to manufacture a gelled compound. After the gelled compound is powderized, SiO2 is produced by a heating process. The heat processed SiO2 powder is uniformly dispersed. The mixing of the organic solution is performed at a room temperature. [Reference numerals] (AA) Clean solvent(aqueous, non-aqueous); (BB) Room temperature reaction; (CC) Low temperature oxidation
Abstract translation: 目的：提供一种氧化硅纳米颗粒的制造方法，用于除去不需要有害物质进行加热和洗涤过程的二氧化硅纳米粉体形成过程中的有害物质的高温过程。 构成：氧化硅纳米粒子的制造方法包括以下步骤。 将Si含量胶体型的原料在室温下溶解，制造有机溶液。 搅拌有机溶液直到有机溶液的蒸发完成，以制造凝胶化合物。 胶凝化合物粉化后，通过加热工艺制备SiO 2。 热处理的SiO 2粉末均匀分散。 有机溶液的混合在室温下进行。 （AA）清洁溶剂（水性，非水性）; （BB）室温反应; （CC）低温氧化
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