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公开(公告)号：KR100278469B1
公开(公告)日：2001-01-15
申请号：KR1019980013933
申请日：1998-04-18
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: G11B5/62
Abstract: 본 발명은 하기 화학식 (1) 또는 화학식 (2)로 표시되는 티타늄(Ti)계 합금 박막으로 이루어진 고밀도 자기 기록 매체용 하지층에 관한 것이다.
A
x Ti
1-x
A
x Ti
(1-xy) M
y
상기 식에서, A는 철(Fe), 니켈(Ni) 또는 코발트(Co) 중에서 선택되는 전이금속 원소이며,
M은 Mg, Al, Si, Ca, V, Cr, Mo, Cu, Zn, Ge, Zr, Mn, Ag, Sn, W, Ta, Nb 및 Pt로 이루어지는 군 중에서 선택되는 1종 이상의 추가 원소이고,
x는 원자%로서 48 ≤ x ≤ 55.5 이고,
y는 원자%로서 0 〈 y ≤ 10 이다.
본 발명의 티타늄계 합금 박막으로 이루어진 하지층을 포함하는 고밀도 자기 기록용 매체는 자기적 특성과 미세 구조에 있어서 기존의 순 Cr 하지층을 사용한 자기기록용 매체에 비해 우수하며, 그 위에 성막된 CoCr계 자성층과 양호한 집합조직을 이루어 미세한 결정립 분포, 높은 보자력 및 높은 각형비를 나타낸다.-
公开(公告)号：KR1019940008066B1
公开(公告)日：1994-09-01
申请号：KR1019920016960
申请日：1992-09-17
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: C21D8/12
Abstract: The silicon steel ingot consisting of (in wt.%) 2-4 % Si, 0.02-0.08 % C, 0.02-0.04 % Sol. Al, 0.02-0.03 % S, 0.06-0.09 % Mn, 0.006-0.008% N and balance Fe, is hot-rolled, annealed, cleaned, cold-rolled, decarbonizing-annealed, high-temp. annealed and covered with insulating coating agent and baking in turn. The high temp. annealing is carried out to use anneal separating agent composed of MgO + 5 wt.% TiO + 5.0-20.2 wt.% B2O3, and laser beam is irradiated on annealed sheet at spacings of 1-10 mm. The steel sheet has low iron loss.
Abstract translation: 硅钢锭由（重量％）2-4％Si，0.02-0.08％C，0.02-0.04％Sol组成。 Al，0.02-0.03％S，0.06-0.09％Mn，0.006-0.008％N和余量Fe，进行热轧，退火，清洗，冷轧，脱碳退火，高温。 退火并用绝缘涂层剂覆盖并依次烘烤。 高温 进行退火，使用由MgO + 5重量％TiO + 5.0〜20.2重量％B 2 O 3组成的退火分离剂，激光束以1-10mm的间隔照射在退火板上。 钢板铁损较低。
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公开(公告)号：KR1019990071340A
公开(公告)日：1999-09-27
申请号：KR1019980013933
申请日：1998-04-18
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: G11B5/62
Abstract: 본 발명은 하기 화학식 (1) 또는 화학식 (2)로 표시되는 티타늄(Ti)계 합금 박막으로 이루어진 고밀도 자기 기록 매체용 하지층에 관한 것이다.
A
x Ti
1-x
A
x Ti
(1-xy) M
y
상기 식에서, A는 철(Fe), 니켈(Ni) 또는 코발트(Co) 중에서 선택되는 전이금속 원소이며,
M은 Mg, Al, Si, Ca, V, Cr, Mo, Cu, Zn, Ge, Zr, Mn, Ag, Sn, W, Ta, Nb 및 Pt로 이루어지는 군 중에서 선택되는 1종 이상의 추가 원소이고,
x는 원자%로서 48 ≤ x ≤ 55.5 이고,
y는 원자%로서 0 〈 y ≤ 10 이다.
본 발명의 티타늄계 합금 박막으로 이루어진 하지층을 포함하는 고밀도 자기 기록용 매체는 자기적 특성과 미세 구조에 있어서 기존의 순 Cr 하지층을 사용한 자기기록용 매체에 비해 우수하며, 그 위에 성막된 CoCr계 자성층과 양호한 집합조직을 이루어 미세한 결정립 분포, 높은 보자력 및 높은 각형비를 나타낸다.-
公开(公告)号：KR1019960012582B1
公开(公告)日：1996-09-23
申请号：KR1019930010000
申请日：1993-06-03
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: H01L29/78
Abstract: forming a central layer in a thickness 5-50=G10-10m in order to protect a silver layer on one side or both sides of oxide layer in the silver layer and two oxide layers; having a single component alloy layer which consists of chrome film, germanium film, silicon film, vanadium film, titanium film, and zirconium film. The method includes the step of forming an triple layers of the oxide layer/silver layer/oxide layer which is a central layer in a thickness 5-50=G10-10m.
Abstract translation: 形成厚度为5-50 = G10-10m的中心层，以便保护银层和两个氧化物层中的氧化物层的一侧或两侧的银层; 具有由铬膜，锗膜，硅膜，钒膜，钛膜和锆膜构成的单组分合金层。 该方法包括形成厚度为5-50 = G10-10m的中心层的氧化物层/银/氧化物层的三层的步骤。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1019960008706A
公开(公告)日：1996-03-22
申请号：KR1019940021749
申请日：1994-08-31
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: G11B5/62
Abstract: 본 발명은 Co
x C
y P
z M
w (식 중, M은 백금 또는 니켈임)의 코발트(Co)계 고밀도 자기 기록용 박막 재료 및 그의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명의 박막 재료는 코발드계 합금 박막에 인(P)을 첨가한 Co-Cr-P-Pt 및 Co-Cr-P-Ni 합금 박막으로서, 보자력과 각형비가 높으며, 이러한 우수한 자기적 특성으로 인하여 고밀도 자기 기록에 유리하다.-
公开(公告)号：KR1019950002057A
公开(公告)日：1995-01-04
申请号：KR1019930010000
申请日：1993-06-03
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: H01L29/78
Abstract: 본 발명은 산화물츨/은층/산화물층 형의 샌드위치 구조를 갖는 투명열전연 다층박막에 관한 것이다.
본 발명의 투명열절연 다층박막은 플라스틱 재질의 필름이나 유리기판 등의 표면에 스퍼터링 방법을 이용하여 산화물층으로서 산화티타늄박막을 200Å의 두께로 형성시킨 다음 그 위에 은층의 안정화를 위한 중간층으로 크롬박막, 게르마늄박막, 실리콘박막 등을 5~50Å의 두께로 형성시키고, 그 위에 다시 은막을 150Å의 두께로 형성시킨 후 다시 산화티타늄박막을 200Å의 두께로 형성시키는 제조공정을 통해 얻어진다.
본 발명은 제조공정이 비교적 간편하고, 본 발명의 방법에 의해 제조된 투명열절연 다층박막은 우수한 내시효특성을 나타낸다.-
公开(公告)号：KR1019940008653B1
公开(公告)日：1994-09-24
申请号：KR1019910015573
申请日：1991-09-06
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: H01G4/33
Abstract: Aluminium thin film was vapor deposited on the plastic film tape and continuously vapor deposited zinc or cadmium thin film in the edge part on the thin film to give the plastic film for capacitor. Thus, aluminium was vapor deposited in 48 mm width, 15 Ω/sq. surface resistance value on the 8 mm thickness polypropylene film, and then Zn was vapor deposited in 10 mm width, 8 Ω/sq. in total surface resistance value. The metallic vapor deposited plastic film capacitor with 10 μF capacity was manufed.
Abstract translation: 将铝薄膜气相沉积在塑料薄膜带上，并在薄膜的边缘部分连续气相沉积锌或镉薄膜，得到电容器用塑料薄膜。 因此，以48mm宽，15Ω/ sq的方式蒸镀铝。 在8mm厚的聚丙烯薄膜上的表面电阻值，然后以10mm宽，8Ω/ sq的方式气相沉积Zn。 总表面电阻值。 制造了10μF容量的金属气相沉积塑料薄膜电容器。
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公开(公告)号：KR1019930006761A
公开(公告)日：1993-04-21
申请号：KR1019910015573
申请日：1991-09-06
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: H01G4/33
Abstract: 본 발명은 금속증착 플라스틱 필름 콘덴서 제조용으로 사용되는 알루미늄증착 플라스틱 필름에 관한 것이다.
본 발명은 폴리프로필렌등의 플라스틱 필름상에 알루미늄을 증착한 다음에 그 위의 에지부분에 아연이나 카드뮴을 2㎜ 이상 10㎜ 아하의 폭으로 진공증착하여 알루미늄증착 플라스틱 필름을 제조한다.
본 발명의 방법에 의해 제조된 알루미늄증착 플라스틱 필름을 사용하여 제작된 MF 콘덴서는 기존의 MF 콘덴서에 비해 시간의 경과에 따른 캐패시턴스 변화 및 tanδ 의 변화가 적고 절연파괴전압이 높다는 장점이 있다. -
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