STABILISATOREN FÜR VINYLETHER-RESISTFORMULIERUNGENFÜR DIE PRÄGELITHOGRAPHIE SOWIE PRÄGEVERFAHREN

    公开(公告)号:DE112010003347B4

    公开(公告)日:2022-02-03

    申请号:DE112010003347

    申请日:2010-07-23

    Applicant: JSR CORP IBM

    Abstract: Vinylether-Resistformulierung, welche das Folgende umfasst:mindestens ein Vinylether-Vernetzungsmittel mit mindestens zwei Vinylethergruppen;mindestens ein Verdünnungsmittel, welches eine monofunktionelle Vinyletherverbindung umfasst;mindestens einen Photosäurebildner, der in einem ausgewählten oder beiden aus i) der monofunktionellen Vinyletherverbindung und ii) dem mindestens einen Vinylether-Vernetzungsmittel löslich ist; undmindestens einen Stabilisator, der eine Esterverbindung umfasst, die selektiv entweder i) an einer Esterposition oder ii) an einer Alphaposition und der Esterposition mit einem Substituenten substituiert ist, wobei die Esterverbindung die folgende Formel aufweist:wobei R1für einen Substituenten an der Alphaposition steht und R2für einen Substituenten an der Esterposition steht.

    Stabilisatoren für Vinylether-Resistformulierungen für die Prägelithographie

    公开(公告)号:DE112010003347T5

    公开(公告)日:2012-08-09

    申请号:DE112010003347

    申请日:2010-07-23

    Applicant: JSR CORP IBM

    Abstract: Beschichtungszusammensetzungen, die für UV-Prägelithographie-Anwendungen geeignet sind, umfassen mindestens ein Vinylether-Vernetzungsmittel mit mindestens zwei Vinylethergruppen; mindestens ein Verdünnungsmittel, welches eine monofunktionelle Vinyletherverbindung umfasst; mindestens einen Photosäurebildner, der in einem ausgewählten oder beiden aus der mindestens einen monofunktionellen Vinyletherverbindung und dem mindestens einen Vinylether-Vernetzungsmittel mit mindestens zwei Vinylethergruppen löslich ist; und mindestens einen Stabilisator, der eine Esterverbindung umfasst, die selektiv entweder an einer Esterposition oder an einer Alphaposition und der Esterposition mit einem Substituenten substituiert ist. Es werden auch Prägeverfahren offenbart.

    7.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号:DE69115070D1

    公开(公告)日:1996-01-18

    申请号:DE69115070

    申请日:1991-02-04

    Applicant: IBM

    Abstract: A method for producing a magnetic structure, such as a thin film magnetic head, in which the magnetic and electrical characteristics of magnetic material are tailored to produce magnetic and electrical characteristics in selected localized areas of the magnetic material. In an embodiment, the structure comprises a layer of magnetic material having an overlayer and an underlayer, and the magnetic characteristics of the material are modified by rapid thermal annealing.

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