Abstract:
A solution for forming a polishing slurry, the polishing slurry and related methods are disclosed. The solution for forming a polishing slurry may include 1 H- benzotriazole (BTA) dissolved in an ionic surfactant such as a sodium alkyl sulfate solution, and perhaps a polyacrylic acid (PAA) solution. The solution can be filtered and used in a polishing slurry. This approach to solubilizing BTA results in a high BTA concentration in a polishing slurry without addition of foreign components to the slurry or increased safety hazard. In addition, the solution is easier to ship because it is very stable (e.g., can be frozen and thawed) and has less volume compared to conventional approaches. Further, the polishing slurry performance is vastly improved due to the removal of particles that can cause scratching.
Abstract:
Eine Zusammensetzung und ein Verfahren für ein chemisch-mechanisches Polieren. Die Zusammensetzung beinhaltet ein Tensid-Anion, einen Alkylalkohol sowie ein Verdünnungsmittel (5; 290A und 290B). Die Zusammensetzung beinhaltet des Weiteren Schleifmittelpartikel sowie ein Oxidationsmittel. Das Verfahren beinhaltet ein Bereitstellen der Zusammensetzung auf einer zu polierenden Oberfläche sowie ein Polieren der Oberfläche, indem die Oberfläche mit einem Polier-Pad in Kontakt gebracht wird.