公开(公告)号：DE112012003456T5

公开(公告)日：2014-04-30

申请号：DE112012003456

申请日：2012-09-11

Applicant: IBM

Inventor： BATES GRAHAM M ,  RITTER JASON P ,  TIERSCH MATTHEW T ,  SHAH EVA A ,  WHITE ERIC J ,  BRIGHAM MICHAEL T ,  COMEAU JOSEPH K

IPC: C11D7/32

Abstract: Eine Zusammensetzung und ein Verfahren für ein chemisch-mechanisches Polieren. Die Zusammensetzung beinhaltet ein Tensid-Anion, einen Alkylalkohol sowie ein Verdünnungsmittel (5; 290A und 290B). Die Zusammensetzung beinhaltet des Weiteren Schleifmittelpartikel sowie ein Oxidationsmittel. Das Verfahren beinhaltet ein Bereitstellen der Zusammensetzung auf einer zu polierenden Oberfläche sowie ein Polieren der Oberfläche, indem die Oberfläche mit einem Polier-Pad in Kontakt gebracht wird.