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1.发明专利
公开(公告)号：DE112018000658B4
公开(公告)日：2020-02-20
申请号：DE112018000658
申请日：2018-04-20
Applicant: AGENCY SCIENCE TECH & RES , IBM
Inventor： CAHAN AMOS , HEDRICK JAMES , FEVRE MAREVA , PARK NATHANIEL , WOJTECKI RUDY , VAN KESSEL THEODORE , YANG YI YAN
Abstract: Hierin werden antibakterielle Beschichtungen und Verfahren zur Herstellung der antibakteriellen Beschichtungen beschrieben. Insbesondere wird ein Verfahren zum Bilden einer organokatalysierten Polythioether-Beschichtung bereitgestellt, bei welchem eine erste Lösung zubereitet wird, welche ein bis-silyliertes Dithiol und einen Fluoraromaten umfasst. Es wird eine zweite Lösung zubereitet, welche einen Organokatalysator umfasst. Die erste Lösung und die zweite Lösung werden vermischt, um eine Mischlösung zu bilden. Die Mischlösung wird auf ein Substrat aufgebracht und das Substrat wird gehärtet.
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2.发明专利
公开(公告)号：DE112019002026T5
公开(公告)日：2021-01-07
申请号：DE112019002026
申请日：2019-03-08
Applicant: IBM
Inventor： WOJTECKI RUDY , FINE NATHEL NOAH FREDERICK , DE SILVA EKMINI ANUJA
IPC: C23C16/04
Abstract: Selbstorganisierende Monoschichten (SAMs) wurden selektiv auf Abschnitten einer Substratoberfläche mithilfe von Verbindungen hergestellt, die eine Wasserstoffbrückenbindungsgruppe und eine polymerisierbare Diacetylengruppe aufweisen. Die SAMs wurden mithilfe von ultraviolettem Licht photopolymerisiert. Die vorpolymerisierten und polymerisierten SAMs waren wirksamere Barrieren gegenüber einer Metallabscheidung in einem Prozess einer Atomlagenabscheidung im Vergleich mit ähnlichen Verbindungen ohne diese funktionellen Gruppen.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：DE112018005698T5
公开(公告)日：2020-07-23
申请号：DE112018005698
申请日：2018-11-30
Applicant: INST OF BIOENGINEERING AND NANOTECHNOLOGY , IBM
Inventor： HEDRICK JAMES , BODAY DYLAN , WOJTECKI RUDY , PARK NATHANIEL , FEVRE MAREVA , GARCIA JEANNETTE , YANG YI YAN , CHIN WILLY , LEONG EUNICE
IPC: C08G64/18 , A61K47/32 , A61K47/34 , C08F293/00 , C08G64/34
Abstract: Es wird ein Blockcopolymer (BCP), das zur Selbstorganisation zu Nanopartikeln fähig ist, für die Abgabe von hydrophoben Beladungen offenbart. Das BCP enthält einen hydrophoben Block, der eine thioetherfunktionelle Gruppe enthält, die oxidationsempfindlich ist, um die Löslichkeit des Blocks von hydrophob zu hydrophil umzuwandeln und dadurch die hydrophobe Beladung des Nanopartikels freizusetzen.
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公开(公告)号：DE112018005569B4
公开(公告)日：2021-06-10
申请号：DE112018005569
申请日：2018-12-04
Applicant: IBM
Inventor： DE SILVA EKMINI ANUJA , GOLDFARB DARIO , FELIX NELSON , CORLISS DANIEL , WOJTECKI RUDY
IPC: H01L21/31 , H01L21/027 , H01L21/302
Abstract: Lithografisches Strukturierungsverfahren, das aufweist:Bilden eines mehrschichtigen Dünnschichtstapels (110) aus Strukturierungsmaterial auf einem Halbleitersubstrat, wobei der Dünnschichtstapel aus Strukturierungsmaterial eine oberhalb einer oder mehrerer zusätzlicher Schichten (104, 106) gebildete Fotolackschicht (108) aufweist;Bilden einer metallhaltigen Deckschicht (112) oberhalb der Fotolackschicht;Belichten des mehrschichtigen Dünnschichtstapels aus Strukturierungsmaterial mit einer Strukturierungsstrahlung durch die metallhaltige Deckschicht, um in der Fotolackschicht (108') ein gewünschtes Muster zu bilden;Entfernen der metallhaltigen Deckschicht;Entwickeln des in der Fotolackschicht (108") gebildeten Musters;Ätzen mindestens einer darunter liegenden Schicht (106') entsprechend dem entwickelten Muster; undEntfernen restlicher Teile der Fotolackschicht;wobei Bilden der metallhaltigen Deckschicht oberhalb der Fotolackschicht Bilden der metallhaltigen Deckschicht unter Verwendung eines Prozesses zur Selbstsegregation aus der Fotolackschicht aufweist.
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公开(公告)号：DE112018005698B4
公开(公告)日：2020-12-03
申请号：DE112018005698
申请日：2018-11-30
Applicant: INST OF BIOENGINEERING AND NANOTECHNOLOGY , IBM
Inventor： HEDRICK JAMES , BODAY DYLAN , WOJTECKI RUDY , PARK NATHANIEL , FEVRE MAREVA , GARCIA JEANNETTE , YANG YI YAN , CHIN WILLY , LEONG EUNICE
Abstract: Blockcopolymer, aufweisend:einen hydrophilen Block; undeinen hydrophoben Block, der wenigstens eine thioetherfunktionelle Gruppe enthält,wobei das Blockcopolymer die Struktur der Formel I aufweist:wobei m 114 ist und x 5 ist.
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公开(公告)号：DE112018005569T5
公开(公告)日：2020-08-06
申请号：DE112018005569
申请日：2018-12-04
Applicant: IBM
Inventor： DE SILVA EKMINI ANUJA , GOLDFARB DARIO , FELIX NELSON , CORLISS DANIEL , WOJTECKI RUDY
IPC: H01L21/31 , H01L21/302
Abstract: Ein lithografisches Strukturierungsverfahren umfasst Bilden eines mehrschichtigen Dünnschichtstapels aus Strukturierungsmaterial auf einem Halbleitersubstrat, wobei der Dünnschichtstapel aus Strukturierungsmaterial eine oberhalb einer oder mehrerer zusätzlicher Schichten gebildete Fotolackschicht enthält, und Bilden einer metallhaltigen Deckschicht oberhalb der Fotolackschicht. Das Verfahren umfasst ferner Belichten des mehrschichtigen Dünnschichtstapels aus Strukturierungsmaterial mit einer Strukturierungsstrahlung durch die metallhaltige Deckschicht zum Bilden eines gewünschten Musters in der Fotolackschicht, Entfernen der metallhaltigen Deckschicht, Entwickeln des in der Fotolackschicht gebildeten Musters, Ätzen mindestens einer darunter liegenden Schicht entsprechend dem entwickelten Muster und Entfernen restlicher Teile der Fotolackschicht. Die metallhaltige Deckschicht kann zum Beispiel durch Atomlagenabscheidung oder Rotationsbeschichtung oberhalb der Fotolackschicht oder durch Selbstabscheidung aus der Fotolackschicht gebildet werden.
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7.发明专利
公开(公告)号：DE112018000658T5
公开(公告)日：2019-10-31
申请号：DE112018000658
申请日：2018-04-20
Applicant: AGENCY SCIENCE TECH & RES , IBM
Inventor： CAHAN AMOS , HEDRICK JAMES , FEVRE MAREVA , PARK NATHANIEL , WOJTECKI RUDY , VAN KESSEL THEODORE , YANG YI YAN
IPC: A61L27/34 , A61K31/765 , A61L29/08 , A61L29/16 , A61L31/10 , A61L31/14 , A61L31/16 , C08G18/52 , C08G75/04
Abstract: Hierin werden antibakterielle Beschichtungen und Verfahren zur Herstellung der antibakteriellen Beschichtungen beschrieben. Insbesondere wird ein Verfahren zum Bilden einer organokatalysierten Polythioether-Beschichtung bereitgestellt, bei welchem eine erste Lösung zubereitet wird, welche ein bis-silyliertes Dithiol und einen Fluoraromaten umfasst. Es wird eine zweite Lösung zubereitet, welche einen Organokatalysator umfasst. Die erste Lösung und die zweite Lösung werden vermischt, um eine Mischlösung zu bilden. Die Mischlösung wird auf ein Substrat aufgebracht und das Substrat wird gehärtet.
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