Abstract:
The invention relates to a method for removing at least one inorganic layer from a component, whereby a plasma jet is produced in a working gas containing a reactive gas by means of an atmospheric discharge, the plasma jet is oriented towards the inorganic layer, the inorganic layer is at least partially melted by means of the plasma jet, and the at least partially melted inorganic layer is removed from the surface by the gas flow of the plasma jet. The inventive method can be used especially for delayering adhesive surfaces of two components, and for machining headlight components. The invention also relates to a device for producing a plasma jet for carrying out the inventive method.
Abstract:
The invention relates to a ventilation system (10, 50) comprising a line system (12, 52) which is designed to guide an air stream (14, 54) and to provide the air stream (14, 54) during normal operation (N) via an outlet (16, 56) of the line system (12, 52) for supplying a space (18, 58), wherein the ventilation system (10, 50) comprises a generating unit (34, 66, 100, 170) which is designed to produce reactive oxygen species during a cleaning operation (R) and to feed the same to the air stream (14, 54) conducted in the line system (12, 52). The invention further relates to the use of such a ventilation system (10, 50) for ventilating or air-conditioning a room of a building or an interior of a closed device, a method for operating such a ventilation system (10, 50) and a generating unit (34, 66, 100, 170) for such a ventilation system (10, 50).
Abstract:
The invention relates to a method for supplying a component with thermal energy, a gas (20, 86) being heated and the component (4, 84) being brought in thermal contact with the gas (20, 86). The gas (20, 86) is additionally ionized to at least some extent by an electric discharge (12, 74) or by a plasma, especially a plasma jet (58, 108). The invention also relates to a device for supplying a component with thermal energy. Said device comprises the component (4, 84) to be supplied, a chamber region (8, 82) containing a gas, and means (6) for heating the gas, the gas (20, 86) being in thermal contact with the component (4, 84). Additional means (10, 42, 72, 92) for producing an electric discharge (12, 74) or a plasma, especially a plasma jet (58, 108) are used to ionize the gas (20, 86) to at least some extent.
Abstract:
The invention relates to a method for producing a low-pressure plasma consisting in generating a negative pressure in a low-pressure chamber by means of a vacuum pump and in leading a plasma beam at a high pressure to said low- pressure chamber. Said invention also relates to different use a low-pressure plasma for treating surfaces, surface coatings or gases. A device for producing a low-pressure plasma is also disclosed.
Abstract:
The invention relates to a method for coating an optical data carrier which comprises at least one substrate layer and at least one reflection layer. According to the inventive method, a plasma jet is produced from a working gas using atmospheric plasma discharge. A precursor material is supplied to the working gas or to the plasma jet and is reacted in the plasma jet. The reaction product produced from the precursor material is deposited on the at least one substrate layer as an additional layer. Said additional layer can be used as a protective layer or as a barrier layer. The additional layer can also be used as a reflection layer in the set-up of the optical data carrier. The invention also relates to an optical data carrier having an additional layer that is produced by atmospheric plasma coating.
Abstract:
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (2, 302, 402, 502, 602, 802) zur Bearbeitung einer Oberfläche (4) eines Werkstücks (6) mit einem Laserstrahl (8, 8'), mit einem Lasersystem (12, 12') zur Bereitstellung des Laserstrahls (8, 8') und mit einer Plasmadüse (14, 14'), die zur Erzeugung eines atmosphärischen Plasmastrahls (16, 16') eingerichtet ist, wobei die Plasmadüse (14, 14') einen Düsenkopf (22, 22') aufweist, aus dem im Betrieb ein in der Plasmadüse (14, 14') erzeugter Plasmastrahl (16, 16') austritt, wobei das Lasersystem (12, 12') und die Plasmadüse (14, 14') so zueinander angeordnet und eingerichtet sind, dass der Laserstrahl (8, 8') im Betrieb aus dem Düsenkopf (22, 22') der Plasmadüse (14, 14') austritt, und wobei der Düsenkopf (22, 22') um eine Rotationsachse (R) rotierbar ist, die schräg und/oder versetzt zu dem im Betrieb aus dem Düsenkopf (22, 22') austretenden Plasmastrahl (16, 16') und/oder zu dem im Betrieb aus dem Düsenkopf (22, 22') austretenden Laserstrahl (8, 8') verläuft. Die Erfindung betrifft weiterhin ein Verfahren zum Betrieb einer solchen Vorrichtung.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Desinfizieren, insbesondere Sterilisieren, eines Guts (210) in einer Verpackung (202), bei dem ein in einer Verpackung (202) verpacktes Gut (210) bereitgestellt wird, wobei die Verpackung (202) für Keime, insbesondere Bakterien und/oder Viren, undurchlässig ist und wobei die Verpackung (202) einen gasdurchlässigen Abschnitt (204) aufweist, bei dem mittels einer Plasmaquelle (2, 32, 118, 318, 618) ein reaktives Gas erzeugt wird und bei dem der gasdurchlässige Abschnitt (204) der Verpackung (202) mit dem reaktiven Gas beaufschlagt wird. Die Erfindung betrifft weiter ein Verfahren zum Desinfizieren, insbesondere Sterilisieren, eines Guts (210) in einer Verpackung (202), bei dem ein in einer Verpackung (202) verpacktes Gut (210) bereitgestellt wird, wobei die Verpackung (202) für Keime, insbesondere Bakterien und/oder Viren, undurchlässig ist, bei dem in einem Entladungsbereich (406, 506) elektrische Entladungen (412, 413, 512) erzeugt werden und bei dem die Verpackung (202) mit dem darin verpackten Gut (410) durch den Entladungsbereich (406, 506) transportiert wird. Weiterhin betrifft die Erfindung geeignete Vorrichtungen (100, 300, 400, 450, 500, 550) sowie Verwendungen der Vorrichtungen zur Durchführung der Verfahren.
Abstract:
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (2, 2', 2", 2"', 3) zur Behandlung einer Werkstückoberfläche (18), mit einer Plasmadüse (4, 4', 4", 4"'), die zur Erzeugung eines atmosphärischen Plasmastrahls (6) eingerichtet ist, wobei die Plasmadüse (4, 4', 4", 4"') eine Düsenöffnung (8) aufweist, aus der im Betrieb ein atmosphärischer Plasmastrahl (6) austritt, wobei im Bereich der Düsenöffnung (8) ein Ablenkelement (10,10', 10", 10"', 11) mit einer konvex gekrümmten Kontaktfläche (12) derart positioniert ist, dass der Plasmastrahl (6) beim Betrieb der Plasmadüse (4, 4', 4", 4'") mit der Kontaktfläche (12) des Ablenkelements (10, 10', 10", 10"', 11) wechselwirkt, insbesondere diese streift. Die Erfindung betrifft weiter ein Verfahren zur Behandlung einer Werkstückoberfläche (18) mit einer solchen Vorrichtung (2, 2', 2", 2"', 3).
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Beschichten einer Bauteiloberfläche (4), bei dem ein Bauteil (2, 82) mit einer zu beschichtenden Oberfläche (4) bereitgestellt wird, bei dem ein atmosphärischer Plasmastrahl (8, 50) erzeugt wird, bei dem in den Plasmastrahl (8, 50) ein erster Precursor (14a, 54) eingebracht wird, der zur Herstellung einer photokatalytischen Schicht auf einer Oberfläche geeignet ist, bei dem gleichzeitig mit dem ersten Precursor (14a, 54) ein zweiter Precursor (14b, 54) in den Plasmastrahl (8, 50) eingebracht wird, wobei der zweite Precursor (14b, 54) zur Herstellung einer funktionalisierten Schicht auf einer Oberfläche geeignet ist, die zu der mit dem ersten Precursor (14a, 54) erzeugbaren Schicht verschiedenartig ist, und bei dem der Plasmastrahl (8, 50) mit dem ersten und zweiten Precursor (14a–b, 50) auf die zu beschichtende Oberfläche (4) des Bauteils (2, 82) gerichtet wird, so dass sich auf der Oberfläche (4) eine Schicht (18, 84) bildet. Die Erfindung betrifft weiterhin ein Verfahren zur Herstellung eines Beschichtungsmaterials (118) für die Beschichtung einer Bauteiloberfläche, bei dem ein atmosphärischer Plasmastrahl (50, 108) erzeugt wird, bei dem in den Plasmastrahl (50, 108) ein erster Precursor (54, 114a) eingebracht wird, der zur Herstellung einer photokatalytischen Schicht auf einer Oberfläche geeignet ist, bei dem gleichzeitig mit dem ersten Precursor (54, 114a) ein zweiter Precursor (54, 114b) in den Plasmastrahl (50, 108) eingebracht wird, wobei der zweite Precursor (54, 114b) zur Herstellung einer funktionalisierten Schicht auf einer Oberfläche geeignet ist, die zu der mit dem ersten Precursor (54, 114b) erzeugbaren Schicht verschiedenartig ist, und bei dem durch die Wechselwirkung des ersten und des zweiten Precursors (114a–b, 54) mit dem Plasmastrahl (50, 108) ein Beschichtungsmaterial (118) erzeugt wird.
Abstract:
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Vorbehandlung von laminierten Kartonzuschnitten für die Herstellung von Zigarettenschachteln, wobei die Kartonzuschnitte (210) eine Längserstreckung und eine Quererstreckung aufweisen, mit einem Zufuhraggregat (222) zum Zuführen von Kartonzuschnitten (210), mit einer Vereinzelungsstation (224) zum Zuführen vereinzelter Kartonzuschnitte (210) zu einer Fördereinheit (230), mit einem ersten Förderaggregat (232) und einem zweiten Förderaggregat (234), wobei die Förderaggregate (232, 234) die Fördereinheit (230) bilden, wobei das erste Förderaggregat (232) einzelne Kartonzuschnitte (210) in Richtung der Quererstreckung der Kartonzuschnitte (210) transportiert und wobei das zweite Förderaggregat (234) einzelne Kartonzuschnitte (210) vom ersten Förderaggregat (232) übernimmt und in Richtung der Längserstreckung der Kartonzuschnitte (210) transportiert, mit mindestens einer Plasmaquelle (100, 130, 170) zur Oberflächenvorbehandlung der zu verklebenden Klebeabschnitte des Kartonzuschnitts (210), wobei die mindestens eine Plasmaquelle (100, 130, 170) oberhalb des zweiten Förderaggregats (234) angeordnet ist, und mit einem Abstapeleinheit (240) zur Ablage der vorbehandelten Kartonzuschnitte (210) auf einem Stapel. Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren und eine Zigarettenschachtel.