公开(公告)号：CN101855301B

公开(公告)日：2012-05-30

申请号：CN200880115654.1

申请日：2008-10-08

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 沟川茂雄 ,  根岸由典

IPC: C08L101/00 ,  B60R13/00 ,  C08K3/30 ,  C08K5/3432

CPC classification number: C08K5/3435

Abstract: 本发明提供具有优异耐候性的配合有硫化锌的树脂组合物以及使用了该树脂组合物的树脂成型品。所述树脂组合物是通过将0.1～20质量份(A)硫化锌和0.01～20质量份(B)具有下述通式(1)所示的结构的受阻胺化合物(式中，R各自独立地表示碳原子数1～18的酰基、碳原子数5～8的环烷基或可以被羟基取代的碳原子数1～18的烷基)配合到100质量份树脂中而得到的。

公开(公告)号：CN102471897A

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN201080027314.0

申请日：2010-07-05

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 中村裕介

IPC: C23F1/00 ,  C23F1/18 ,  H05K3/06

CPC classification number: H05K3/068 ,  C23F1/08 ,  C23F1/18 ,  H05K3/0082 ,  H05K3/064 ,  H05K3/067

Abstract: 本发明提供一种含铜材料的湿式蚀刻系统，其特征在于包括：曝光装置，对在表面形成有正型光致抗蚀剂图案的含铜材料进行曝光；以及湿式蚀刻装置，对通过所述曝光装置曝光后的含铜材料进行湿式蚀刻。按照本发明的湿式蚀刻系统，可以没有形状不佳(尤其是能维持电路布线上部宽度)地形成TapeBGA、TCP和COF等所要求的微细电路图案(电路布线)。

公开(公告)号：CN101166703B

公开(公告)日：2011-08-24

申请号：CN200680014277.3

申请日：2006-04-25

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 古谷昌树 ,  津岛康宏 ,  浪波公义

IPC: C07C29/10 ,  A61K8/30 ,  C07C29/80 ,  C07C31/20

CPC classification number: A61K8/345 ,  A61Q5/02 ,  A61Q19/10 ,  C07C29/106 ,  C07C31/20

Abstract: 提供气味少的烷二醇组合物、其有效的制造方法、以及包含烷二醇组合物的化妆品。烷二醇组合物中，相对于100质量份碳原子为4以上的烷二醇化合物，酯化合物的含量为0.005质量份以下。另外，烷二醇组合物中，相对于100质量份碳原子数为4以上的烷二醇化合物，二噁烷型化合物的含量为0.2质量份以下。进而，相对于100质量份烷二醇化合物，含醚基的二元醇的含量优选为0.3质量份以下。

公开(公告)号：CN1896152B

公开(公告)日：2011-07-20

申请号：CN200610093464.7

申请日：2006-02-14

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 保坂将毅 ,  本间正敏 ,  近藤圭英

IPC: C09D7/12 ,  B01F17/42

CPC classification number: B41M5/52 ,  B41M5/5218 ,  B41M5/5245 ,  B41M5/5254 ,  C08K5/005 ,  C08K5/3435 ,  C09D5/024 ,  C09D11/38 ,  D21H19/44 ,  D21H21/143 ,  D21H21/52 ,  C08L71/02

Abstract: 本发明的目的在于提供一种长期保存稳定性良好且即使向水系涂布剂组合物中添加，形成的涂膜的各种物性也不会发生劣化的光稳定剂乳化组合物，以及含有该光稳定剂乳化组合物的水系涂布剂组合物。本发明的光稳定剂乳化组合物含有水、乳化剂、光稳定剂和/或紫外线吸收剂，其特征在于，构成光稳定剂乳化组合物的成分的平均粒径为150nm或以下。

公开(公告)号：CN101977987A

公开(公告)日：2011-02-16

申请号：CN200980110239.1

申请日：2009-03-16

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 野村和清

IPC: C08L67/00 ,  C08K5/435

CPC classification number: C08K5/435 ,  C08K5/0016 ,  C08K5/0083 ,  C08L67/00

Abstract: 本发明提供一种结晶化速度优异的聚酯树脂组合物。所述聚酯树脂组合物，其相对于100质量份的聚酯树脂(a)含有0.001～5质量份的下述通式(1)(通式(1)中，M表示一价的金属原子；R1和R2各自独立地表示氢原子、可以具有取代基的碳原子数1～10的支链或直链烷基、可以具有取代基的碳原子数3～30的环状基；R1和R2可以连结而形成环状基)所示的磺酰胺化合物的金属盐(b)和0.1～10质量份的增塑剂(c)。

公开(公告)号：CN101949014A

公开(公告)日：2011-01-19

申请号：CN201010219665.3

申请日：2010-07-07

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 中村裕介 ,  岸裕一郎

IPC: C23F1/18 ,  H05K3/06

Abstract: 本发明提供一种可以形成没有形状不良的微细电路图案的含铜材料用蚀刻剂组合物及含铜材料的蚀刻方法。本发明的含铜材料用蚀刻剂组合物由水溶液构成，所述水溶液含有：(A)0.1～15质量％的从铜离子和铁离子中选择的至少一种氧化剂成分；(B)0.001～3质量％的数均分子量为1,500～3,000且氧亚乙基的含量为15～50质量％的具有氧亚乙基和氧亚丙基的高分子聚醚二醇；(C)0.001～3质量％的用下述通式(1)表示的多元醇，在所述通式(1)中，R1表示碳原子数为2～6的亚烷基，X1～X3表示用下述通式(2)表示的基，X4表示氢原子或用下述通式(2)表示的基，n表示1～5的数字，在所述通式(2)中，R2和R3表示亚乙基或亚丙基，在R2是亚乙基的情况下，R3是亚丙基，在R2是亚丙基的情况下，R3是亚乙基，p和q表示使所述多元醇的数均分子量为200～10,000且氧亚乙基的含量为50质量％以下的数字；(D)0.1～5质量％的从磷酸和磷酸盐中选择的至少一种磷酸成分；以及(E)0.05～10质量％的从氯化氢和硫酸中选择的至少一种无机酸成分。

公开(公告)号：CN101945939A

公开(公告)日：2011-01-12

申请号：CN200980105443.4

申请日：2009-02-16

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 岩波清立 ,  本田知纪 ,  米泽丰

IPC: C08L1/10 ,  C08J5/18 ,  C08K5/103

CPC classification number: C08J5/18 ,  C08J2301/12 ,  C08K5/103 ,  C08L1/10 ,  C08L1/12

Abstract: 本发明提供一种可防止耐久性的劣化、且透湿性优异的纤维素系树脂组合物及纤维素系树脂薄膜。所述纤维素系树脂组合物为对于纤维素系树脂配合(A)下述通式(1)所示的化合物而成。所述纤维素系树脂薄膜由该纤维素系树脂组合物获得，(式中，n1～n3表示1～3的数，R1、R2和R3表示氢原子、碳原子数1～4的烷基或碳原子数1～4的烷氧基，R1、R2和R3不全部相同)。

公开(公告)号：CN101937112A

公开(公告)日：2011-01-05

申请号：CN201010214538.4

申请日：2010-06-25

Applicant: 住友化学株式会社 ,  株式会社ADEKA

Inventor： 久米悦夫 ,  竹内智康 ,  中川弘也

IPC: G02B5/30 ,  B32B27/08 ,  B32B7/12 ,  C09J163/00 ,  C09J7/02

Abstract: 本发明提供一种偏振板及使用该偏振板的层叠光学构件，所述偏振板具有二色性色素被吸附并取向的聚乙烯醇系偏振片和在该偏振片的至少一面通过胶粘剂层贴合的包含透明树脂的保护膜，该胶粘剂层由光固化性胶粘剂组合物形成，该光固化性胶粘剂组合物含有：(A)阳离子聚合性化合物100重量份、(B)光致阳离子聚合引发剂1～10重量份、(C)对波长大于380nm的光显示极大吸收的光敏剂0.1～2重量份及(D)下式(I)所示的萘系光敏助剂0.1～10重量份。(式中，R1及R2各自独立地表示碳数1～6的烷基。)

公开(公告)号：CN101855598A

公开(公告)日：2010-10-06

申请号：CN200880116023.1

申请日：2008-11-12

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 森田博 ,  佐藤宏美 ,  小林纯 ,  尾见仁一 ,  斋藤诚一

IPC: G03F7/075 ,  C08G77/16 ,  G03F7/023 ,  G03F7/40

CPC classification number: C08G77/50 ,  C08G77/14 ,  C08G77/80 ,  C08K5/235 ,  C08K5/5419 ,  C08L83/06 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/40 ,  H01L23/296 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/12044 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/124 ,  H01L2924/00

Abstract: 提供可赋予不仅透明性高、且耐基板制作时的温度的耐热性、耐溶剂性及作为永久抗蚀膜的耐经时变化性优异的绝缘层的正型感光性组合物、使用该正型感光性组合物的正型永久抗蚀膜及正型永久抗蚀膜的制造方法。提供含有(A)具有硅烷醇基的固化性硅酮树脂、(B)重氮萘醌类及(C)溶剂的正型感光性组合物、使用该正型感光性组合物的正型永久抗蚀膜及正型永久抗蚀膜的制造方法，所述(A)具有硅烷醇基的固化性硅酮树脂为下述通式(1)所表示的环状硅氧烷化合物的1种以上与下述通式(2)所表示的芳基烷氧基硅烷化合物的1种以上反应而获得的结构。

公开(公告)号：CN1828748B

公开(公告)日：2010-09-22

申请号：CN200510137334.4

申请日：2005-10-27

Applicant: 索尼株式会社 ,  株式会社ADEKA

Inventor： 和田丰 ,  诹访部正次 ,  岛田淳子 ,  矢野亨 ,  大矢桂二 ,  滋野浩一

IPC: G11B7/246

CPC classification number: G11B7/2472 ,  G11B7/246 ,  G11B7/2467 ,  G11B7/248 ,  G11B2007/24612 ,  Y10S430/146 ,  Y10T428/21

Abstract: 本发明提供一种只写一次型的光记录介质，其从低速记录到高速记录都可以获得极好的记录特性。在光记录介质中包括含有有机染料的记录层，该记录层被构造为至少具有由下列化学式1(在该式中，R1表示碳数从1至4的烷基，R2和R3分别表示碳数从1至4的烷基和苯甲基或通过耦合形成3-6元环的基团，Y1和Y2的每个单独表示有机基团，并且X表示ClO4，FB4，PF6和SbF6)所示的通式表示的有机染料和由下列化学式2(在该式中，R1和R4表示碳数从1至4的烷基，R2和R3分别表示碳数从1至4的烷基和苯甲基或通过耦合形成3-6元环的基团，Y1和Y2的每个单独表示有机基团，并且X表示ClO4，FB4，PF6和SbF6)所示的通式表示的有机染料。【化学式1】【化学式2】