公开(公告)号：TWI421617B

公开(公告)日：2014-01-01

申请号：TW094135385

申请日：2005-10-11

Applicant: 雷弗萊提維提公司 ,  REFLECTIVITY, INC.

Inventor： 休利可絲彼得 ,  HEUREUX, PETER

IPC: G03B21/00

CPC classification number: G02B26/0841 ,  G02B26/0833 ,  H04N5/7458 ,  Y10S359/904

公开(公告)号：TWI408412B

公开(公告)日：2013-09-11

申请号：TW094121044

申请日：2005-06-23

Applicant: 雷弗萊提維提公司 ,  REFLECTIVITY, INC.

Inventor： 西蒙尼安迪米崔 ,  SIMONIAN, DMITRI ,  芬斯汀凱西 ,  FEINSTEIN, CASEY

IPC: G02B26/08

CPC classification number: G01N21/956 ,  G01N21/9501

公开(公告)号：TWI386888B

公开(公告)日：2013-02-21

申请号：TW093117998

申请日：2004-06-21

Applicant: 雷弗萊提維提公司 ,  REFLECTIVITY, INC.

Inventor： 理查茲彼得 ,  RICHARDS, PETER

IPC: G09G3/34

CPC classification number: G09G3/346 ,  G09G2320/04

公开(公告)号：TW200617156A

公开(公告)日：2006-06-01

申请号：TW094121969

申请日：2005-06-29

Applicant: 雷弗萊提維提公司 REFLECTIVITY, INC.

Inventor： 席孟奈安迪米崔 SIMONAIAN, DMITRI ,  波特約翰 PROTER, JOHN

IPC: C10M ,  B81C

CPC classification number: G02B26/0833 ,  B81B3/0005 ,  B81B2201/042 ,  B81C1/0096 ,  B81C2201/112 ,  B82Y30/00 ,  C03C17/28 ,  C10M105/00 ,  C10M2207/0406 ,  C10M2211/0425 ,  C10M2211/063 ,  C10M2215/041 ,  C10M2215/2225 ,  C10M2219/081 ,  C10M2223/0603 ,  C10M2227/003 ,  C10M2227/045 ,  C10N2240/06 ,  C23C26/00 ,  C23C30/00 ,  H01L21/02046 ,  H01L21/3121

Abstract: 本發明係揭示用來潤滑微機電元件表面之潤滑劑。明確地說，可在該微機電元件之接觸表面應用該等潤滑劑，以便除去接觸表面之黏著物。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系揭示用来润滑微机电组件表面之润滑剂。明确地说，可在该微机电组件之接触表面应用该等润滑剂，以便除去接触表面之黏着物。

公开(公告)号：TW200613888A

公开(公告)日：2006-05-01

申请号：TW094135385

申请日：2005-10-11

Applicant: 雷弗萊提維提公司 REFLECTIVITY, INC.

Inventor： 休利可絲彼得 HEUREUX, PETER

IPC: G03B

CPC classification number: G02B26/0841 ,  G02B26/0833 ,  H04N5/7458 ,  Y10S359/904

Abstract: 本發明之空間光調節器包含一微鏡陣列，每一個微鏡皆具有一反射式可偏轉鏡面。本發明並提供一組支柱來將該等鏡面支持在一基材上，但並非該微鏡陣列之所有微鏡皆具有支柱。

Abstract in simplified Chinese: 本发明之空间光调节器包含一微镜数组，每一个微镜皆具有一反射式可偏转镜面。本发明并提供一组支柱来将该等镜面支持在一基材上，但并非该微镜数组之所有微镜皆具有支柱。

公开(公告)号：TW200519452A

公开(公告)日：2005-06-16

申请号：TW093121635

申请日：2004-07-20

Applicant: 雷弗萊提維提公司 REFLECTIVITY, INC.

Inventor： 比特莎迦戴芙R. PATEL, SATYADEV R. ,  修伯斯安德魯G. HUIBERS, ANDREW G.

IPC: G02F

CPC classification number: G02B26/0841 ,  B82Y30/00

Abstract: 本發明揭示一種空間光調變器與一種用以製造至少包含一陣列微鏡裝置的調變器之方法。相鄰微鏡之間的中心至中心距離與間隙係對應於所使用光源而被決定，藉以最佳化光學效率與性能品質。微鏡裝置至少包含一形成於一基材上之樞紐支撐件與一被該樞紐支撐件所保持住之樞紐。一鏡板藉由一接觸件連接至該樞紐，且鏡板與樞紐間之距離係根據鏡板所希望的最大旋轉角度、相鄰微鏡之間的最佳間隙與間距而被決定。於一製造該空間光調變器的方法中，係沉積一犧牲層於一基材上，接著形成一鏡板，且沉積另一犧牲層於該鏡板上，之後又形成樞紐支撐件。該兩犧牲層係經由相鄰微鏡裝置之小間隙而以自發性氣相化學蝕刻劑移除。本發明亦揭示一投射系統，其至少包含一空間光調變器、一光源、聚光光學裝置(其中來自光源之光線聚集至微鏡陣列上)、投射光學裝置(其係用以選擇性投射由微鏡陣列反射之光線至一目標上)與一控制器(其係用以選擇性啟動陣列中之微鏡)。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种空间光调制器与一种用以制造至少包含一数组微镜设备的调制器之方法。相邻微镜之间的中心至中心距离与间隙系对应于所使用光源而被决定，借以最优化光学效率与性能品质。微镜设备至少包含一形成于一基材上之枢纽支撑件与一被该枢纽支撑件所保持住之枢纽。一镜板借由一接触件连接至该枢纽，且镜板与枢纽间之距离系根据镜板所希望的最大旋转角度、相邻微镜之间的最佳间隙与间距而被决定。于一制造该空间光调制器的方法中，系沉积一牺牲层于一基材上，接着形成一镜板，且沉积另一牺牲层于该镜板上，之后又形成枢纽支撑件。该两牺牲层系经由相邻微镜设备之小间隙而以自发性气相化学蚀刻剂移除。本发明亦揭示一投射系统，其至少包含一空间光调制器、一光源、聚光光学设备(其中来自光源之光线聚集至微镜数组上)、投射光学设备(其系用以选择性投射由微镜数组反射之光线至一目标上)与一控制器(其系用以选择性启动数组中之微镜)。

公开(公告)号：TW200512830A

公开(公告)日：2005-04-01

申请号：TW093127544

申请日：2004-09-10

Applicant: 雷弗萊提維提公司 REFLECTIVITY, INC.

Inventor： 釋弘勤 SHI, HONGQIN ,  撒迪特葛利格瑞P. SCHAADT, GREGORY P.

IPC: H01L

CPC classification number: H01L21/31116 ,  B81C1/00531 ,  B81C2201/0109 ,  C23F1/12 ,  H01L21/32135 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/67253

Abstract: 本發明揭示一種以一特定自發式蒸氣相蝕刻物來移除微結構製造過程中之犧牲材料的方法。在此方法中，一定量的蝕刻物係被餵入一蝕刻室中以移除該犧牲材料。依據所偵測到的蝕刻物量或蝕刻產物量來調整並餵入蝕刻室中之蝕刻物的量來維持蝕刻室中該犧牲材料的蝕刻速率幾乎為恆定。因此，本發明提供一種依據所揭示方法來移除犧牲材料的蝕刻系統。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种以一特定自发式蒸气相蚀刻物来移除微结构制造过程中之牺牲材料的方法。在此方法中，一定量的蚀刻物系被喂入一蚀刻室中以移除该牺牲材料。依据所侦测到的蚀刻物量或蚀刻产物量来调整并喂入蚀刻室中之蚀刻物的量来维持蚀刻室中该牺牲材料的蚀刻速率几乎为恒定。因此，本发明提供一种依据所揭示方法来移除牺牲材料的蚀刻系统。

公开(公告)号：TW200510239A

公开(公告)日：2005-03-16

申请号：TW093117999

申请日：2004-06-21

Applicant: 雷弗萊提維提公司 REFLECTIVITY, INC.

Inventor： 帕戴爾沙帝愛德福 PATEL, SATYADEV ,  許伯斯安卓 HUIBERS, ANDREW

IPC: B81B

CPC classification number: G02B26/0841

Abstract: 本發明揭示一種微鏡裝置以及一種製造此一微鏡裝置之方法，該微鏡裝置至少包含一鏡面、一鉸鏈(hinge)及一延伸板。該延伸板係形成於該鏡面上，且介於該鏡面及與該鏡面相關之電極間，用以旋轉該鏡面。該延伸板可為金屬或介電質材質。同時揭示一種製造此一微鏡裝置之方法，特別是該延伸板係在該鏡面形成後才形成。再者，同時揭示一種投影系統，至少包含具有此微鏡之陣列的空間光調變器；一光源；聚光元件，將來自光源之光線聚焦至微鏡之陣列上；投影光學元件，用於將被微鏡之陣列選擇而反射的光投影至一目標上；以及控制器，用於選擇性致動陣列中之微鏡。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种微镜设备以及一种制造此一微镜设备之方法，该微镜设备至少包含一镜面、一铰链(hinge)及一延伸板。该延伸板系形成于该镜面上，且介于该镜面及与该镜面相关之电极间，用以旋转该镜面。该延伸板可为金属或介电质材质。同时揭示一种制造此一微镜设备之方法，特别是该延伸板系在该镜面形成后才形成。再者，同时揭示一种投影系统，至少包含具有此微镜之数组的空间光调制器；一光源；聚光组件，将来自光源之光线聚焦至微镜之数组上；投影光学组件，用于将被微镜之数组选择而反射的光投影至一目标上；以及控制器，用于选择性致动数组中之微镜。

公开(公告)号：EP1803017A2

公开(公告)日：2007-07-04

申请号：EP05793326.9

申请日：2005-09-08

Applicant: Reflectivity, Inc.

Inventor： PATEL, Satyadev

IPC: G02B26/00

CPC classification number: G02B26/0841

Abstract: The micromirror device of the present invention comprises a reflective deflectable mirror plate and an addressing electrode provided for deflecting the mirror plate, wherein the addressing electrode is displaced along a direction perpendicular to the length of the hinge such that a portion of the addressing electrode is extended beyond the mirror plate.

公开(公告)号：EP1230574B1

公开(公告)日：2006-09-13

申请号：EP01905068.1

申请日：2001-01-25

Applicant: Reflectivity Inc.

Inventor： HUIBERS, Andrew, G. ,  HEUREUX, Peter, J.

IPC: G02B26/08 ,  B81B7/04

CPC classification number: G02B26/0841

Abstract: A spatial light modulator (100) having a substrate (110) holding an array of deflectable (e.g. mirror) elements (120). The deflectable elements (120) are deflectably coupled to the substrate (110) via corresponding hinges (134), each hinge (134) being disposed on a side of the deflectable element (120) opposite to the side on which the substrate (110) is disposed. By placing the hinge (134) in this way the fill factor of the array is improved. The hinge (134) can be provided flush against the deflectable element (120), or it can be provided with a gap between the deflectable element (120) and the hinge (134). The hinge (134) can be attached via one or more posts (136, 138) or walls connecting to the substrate (110), and with a flexible or deformable portion that is substantially or entirely hidden from view then viewed through the substrate (110) (e.g. a glass substrate). In one embodiment, the hinge (134) is connected to the undersides of both the substrate (110) and the deflectable element (120), and connects towards a center part of the deflectable element (120). In this way, a longer hinge (134) is provided thus reducing strain on any one part of the hinge (134).