公开(公告)号：KR101323231B1

公开(公告)日：2013-10-30

申请号：KR1020100074306

申请日：2010-07-30

Applicant: (주)에스엔텍

Inventor： 안경준 ,  박강일 ,  서성만 ,  배정운

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/205 ,  B65G49/06 ,  B65G13/06

Abstract: 챔버, 상기 챔버 내에 제공되는 기판, 상기 기판 상에 박막형성물질을 공급하는 증착장비를 구비하는 기판이송장치에 있어서, 상기 기판 양 단부에 구비되고, 상기 기판을 지지하는 기판지지부재; 상기 기판지지부재 일부에 접하여 상기 기판지지부재를 거치하며, 회전함과 동시에 상기 기판지지부재를 이동시키는 기판이송부재; 및 상기 챔버 외부 하부에 구비되고, 상기 기판이송부재와 연결되어 상기 기판이송부재를 회전 운동시키는 모터;를 포함하는 기판이송장치가 개시된다. 상기와 같이 모터가 챔버 외부 하부에 구비됨으로써, 챔버 외측에 별도의 장치를 구비하지 않아도 기판을 이동시킬 수 있기 때문에 기판이송장치의 공간 활용성이 증가하게 된다. 또한, 기판지지지부재에 의하여 챔버 내에서 기판의 지지 안정성이 증가함으로써, 보다 안전하고 정확하게 기판을 이동할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020130111004A

公开(公告)日：2013-10-10

申请号：KR1020120033424

申请日：2012-03-30

Applicant: (주)에스엔텍

Inventor： 안경준 ,  정성훈 ,  박강일 ,  배정운 ,  백주열 ,  최상대

IPC: C23C14/50 ,  C23C14/35 ,  H01L21/673 ,  H01L21/677

CPC classification number: C23C14/50 ,  H01L21/6734 ,  H01L21/67379 ,  H01L21/68728

Abstract: PURPOSE: A tray for a high temperature process is provided to prevent damage of loaded items due to thermal deformation in a high temperature process. CONSTITUTION: A tray for a high temperature process includes a tray body, a clamp body (23), and a supporting unit. The tray body has a loading area on which loaded items are loaded. The supporting unit is prepared on the tray body to support the loaded items to be movable. A clamp body comprises a rotational center unit (24), a grip unit (26), and a rotatory power forming unit (28). The rotational center unit has a shaft connection hole which is combined with a rotational shaft to be freely rotatable. A grip unit grips and releases the loaded items to be movable. The rotatory power forming unit uses self-load to move the grip unit to a gripping and releasing position.

Abstract translation: 目的：提供用于高温工艺的托盘，以防止在高温过程中由于热变形而损坏装载物品。 构成：用于高温处理的托盘包括托盘主体，夹具主体（23）和支撑单元。 托盘主体有一个加载区域，加载的物品被加载到其上。 支撑单元准备在托盘主体上，以支撑装载的物品是可移动的。 夹具主体包括旋转中心单元（24），夹持单元（26）和旋转动力形成单元（28）。 旋转中心单元具有与旋转轴组合以可自由旋转的轴连接孔。 握把单元夹紧并释放装载物品以使其移动。 旋转动力形成单元使用自负载将握持单元移动到夹紧和释放位置。

公开(公告)号：KR101216501B1

公开(公告)日：2012-12-31

申请号：KR1020110045937

申请日：2011-05-16

Applicant: (주)에스엔텍

Inventor： 안경준 ,  배정운 ,  정성훈 ,  박강일 ,  최상대 ,  백주열

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/205 ,  C23C14/50

Abstract: 본발명은기판지지장치에관한것으로, 기판이놓여진지지판및 지지판에회동가능하게관통설치되고, 지지판이세워지면타측이아래로회동함에따라일측이위로회동하여, 일측이기판을거치및 고정하는고정수단을포함하여구성되어고정수단이기판과접하는면적을최소화하여기판의열팽창을자유롭게하여기판의손상을방지할수 있는효과가있다.

公开(公告)号：KR101191349B1

公开(公告)日：2012-10-15

申请号：KR1020110017949

申请日：2011-02-28

Applicant: (주)에스엔텍

Inventor： 백주열 ,  박강일 ,  안경준 ,  배정운

IPC: H01L21/3065

Abstract: 본 발명은 파동을 이용하는 건식 식각 장치에 관한 것으로, 진공챔버, 진공챔버 내부에 구비되는 홀더, 기판, 기판으로부터 박리하고자 하는 소자 및 기판과 소자 사이에 식각되는 희생층을 포함하고 홀더 상에 놓여지는 박리대상물 및 음파 주파수 이상의 파동을 발생하고 진공챔버 또는 홀더에 부착되는 파동 발생기를 포함하여 구성되어 소자를 기판으로부터 박리하기 전에 기판과 소자 사이의 희생층을 제거할 때 진공챔버 또는 홀더를 음파 또는 초음파 주파수로 진동시킴으로써 희생층에 침투하는 식각가스의 활동성을 증가시키고 식각된 희생층의 식각부산물이 외부로 배출되는 것을 용이 효과가 있다.

公开(公告)号：KR101145357B1

公开(公告)日：2012-05-14

申请号：KR1020090125197

申请日：2009-12-16

Applicant: (주)에스엔텍

Inventor： 안경준 ,  박강일 ,  염정훈

IPC: H01L31/18 ,  H01L31/04 ,  H01L31/0236

CPC classification number: Y02E10/50 ,  Y02P70/521

Abstract: PURPOSE: A texturing module and apparatus of manufacturing for solar cell having the texturing module and method of manufacturing for solar cell using the same are provided to control a texturing process by controlling the reaction of the surface of a transparent electrode according to processes conditions. CONSTITUTION: A substrate having an electrode in one side is arranged in a chamber. A pump(108) is arranged on one side of the chamber and is connected to the chamber. A bubbler(112) is arranged on the other side of the chamber is connected to the chamber A reaction solution is kept inside the bubbler and is supplied into the chamber. The pump comprises a vacuum pump to make the inside of the chamber vacuum. A pressure control valve controls a vacuum gage and the degree of vacuum. A heater(120) controls the temperature of the substrate which is arranged inside the chamber.

公开(公告)号：KR1020110062477A

公开(公告)日：2011-06-10

申请号：KR1020090119217

申请日：2009-12-03

Applicant: (주)에스엔텍

Inventor： 안경준 ,  정성훈 ,  박강일 ,  염정훈

IPC: C23C14/34 ,  H01L21/203

Abstract: PURPOSE: A cylindrical sputtering cathode is provided to uniformly maintain the properties of a thin film by adjusting the intensity of a surface magnetic field. CONSTITUTION: A cylindrical sputtering cathode comprises a cylindrical backing plate(110) and a magnet part(150). A target(120) is formed on the outer surface of the cylindrical backing plate. The magnet part is installed inside the cylindrical backing plate. The magnet part comprises a yoke plate(130) and multiple magnets(140). The yoke plate is formed in the central axis direction of the backing plate. The magnets are formed on the yoke plate in the central axis direction of the backing plate.

Abstract translation: 目的：提供一种圆柱形溅射阴极，通过调节表面磁场的强度来均匀地保持薄膜的性能。 构成：圆柱形溅射阴极包括圆柱形背板（110）和磁体部分（150）。 目标（120）形成在圆柱形背板的外表面上。 磁铁部件安装在圆柱形背板内。 磁体部分包括轭板（130）和多个磁体（140）。 轭板形成在背板的中心轴线方向。 磁铁在背板的中心轴方向上形成在磁轭板上。

公开(公告)号：KR100988277B1

公开(公告)日：2010-10-18

申请号：KR1020080082222

申请日：2008-08-22

Applicant: (주)에스엔텍

Inventor： 안경준 ,  김재용 ,  이기로 ,  장효진 ,  전진환

IPC: B05C9/14 ,  B05C13/00

Abstract: 본 발명은 피처리물을 히팅하는 기능을 구비한 바렐 및 상기 바렐을 구비한 코팅장치에 관한 것으로, 보다 자세하게는 각종 전자부품 외장 등과 같은 피처리물을 진공 또는 플라즈마 코팅 장치에서 표면 처리함에 있어 상기 피처리물을 체결하여 코팅 장치에 장입하는 바렐 및 이를 구비한 코팅장치에 관한 것이다.
바렐, 피처리물, 코팅, 진공 코팅 장치, 플라즈마 코팅 장치

公开(公告)号：KR1020100010770A

公开(公告)日：2010-02-02

申请号：KR1020080071804

申请日：2008-07-23

Applicant: (주)에스엔텍

Inventor： 안경준 ,  정성훈 ,  장효진 ,  이상헌

IPC: H01L21/324

CPC classification number: H01L21/67115 ,  H01L21/67126

Abstract: PURPOSE: A rapid thermal processing apparatus for a large-area is provided to increase the heat uniformity of a workpiece by installing a stick lamp inside a quartz tube and supplying uniform heat to a large scale on the workpiece. CONSTITUTION: A chamber has two holes opposite to each other, and the two holes penetrate a side of the chamber. A quartz tube(120) is inserted into ends of two holes. A stick type lamp(130) is inserted into the quartz tube. A lamp guide is formed with a head unit and a body. The head unit of the disc type has an outer diameter bigger than the diameter of the hole. The body comprises a communicating path for interlinking the quartz tube and the outside.

Abstract translation: 目的：提供一种大面积快速热处理装置，通过在石英管内安装棒灯并在工件上大量供给均匀的热量来提高工件的热均匀性。 构成：一个室具有彼此相对的两个孔，两个孔穿透室的一侧。 将石英管（120）插入两个孔的端部。 棒状灯（130）插入石英管中。 灯头单元和主体形成一个灯导向器。 盘型的头部单元的外径大于孔的直径。 主体包括用于将石英管和外部连接的连通路径。

公开(公告)号：KR101925424B1

公开(公告)日：2018-12-06

申请号：KR1020160146776

申请日：2016-11-04

Applicant: (주)제이디 ,  (주)이노페이스 ,  (주)에스엔텍

Inventor： 이동석 ,  조승래 ,  배정운 ,  안성범 ,  안경준

IPC: H01L21/66 ,  G01R31/28 ,  G01R31/30

Abstract: 본 발명은 공정 모니터링 기술에 있어서, 특히 챔버 내부 및 챔버에 로딩된 웨이퍼를 실시간으로 모니터링을 위해 웨이퍼에 임베디드된 공정 모니터링 회로에 관한 것으로, 웨이퍼의 정해진 센싱 위치에 내장되는 다수 개의 센서와, 상기 다수 개의 센서에서 센싱된 센싱 값을 상기 웨이퍼의 각 위치 별 센싱 값으로 교정하는 마이크로제어유닛과, 상기 마이크로제어유닛으로부터 주기적으로 전달되는 상기 각 위치 별 센싱 값을 무선으로 송신하는 무선데이터통신회로를 포함하되, 상기 마이크로제어유닛은 상기 다수 개의 센서와 전기적으로 연결되게 상기 웨이퍼에 내장되고, 상기 무선데이터통신회로는 상기 마이크로제어유닛과 전기적으로 연결되게 상기 웨이퍼에 내장되는 것이 특징인 발명이다.

公开(公告)号：KR20180050467A

公开(公告)日：2018-05-15

申请号：KR20160146776

申请日：2016-11-04

Applicant: (주)제이디 ,  (주)이노페이스 ,  (주)에스엔텍

Inventor： 이동석 ,  조승래 ,  배정운 ,  안성범 ,  안경준

IPC: H01L21/66 ,  G01R31/28 ,  G01R31/30

Abstract: 본발명은공정모니터링기술에있어서, 특히챔버내부및 챔버에로딩된웨이퍼를실시간으로모니터링을위해웨이퍼에임베디드된공정모니터링회로에관한것으로, 웨이퍼의정해진센싱위치에내장되는다수개의센서와, 상기다수개의센서에서센싱된센싱값을상기웨이퍼의각 위치별 센싱값으로교정하는마이크로제어유닛과, 상기마이크로제어유닛으로부터주기적으로전달되는상기각 위치별 센싱값을무선으로송신하는무선데이터통신회로를포함하되, 상기마이크로제어유닛은상기다수개의센서와전기적으로연결되게상기웨이퍼에내장되고, 상기무선데이터통신회로는상기마이크로제어유닛과전기적으로연결되게상기웨이퍼에내장되는것이특징인발명이다.