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公开(公告)号：WO2019139425A1
公开(公告)日：2019-07-18
申请号：PCT/KR2019/000505
申请日：2019-01-11
IPC: G03F7/12 , H01L31/0224 , H01L31/18 , G03F7/20 , H01L21/033
Abstract: 본 발명에 따른 태양전지의 후면전극용 스텐실 마스크는 여러 개의 후면전극 개구부를 포함하며 구성되며, 각 후면전극 개구부는 메인 개구부, 및 도전성 페이스트가 완만하게 퍼질 수 있도록 하는 복수 개의 서브 개구부를 포함하여 이루어진다. 이때 서브 개구부는 메인 개구부의 양 측면을 따라 메인 개구부와 이격된 위치에 나란히 형성된다. 서브 개구부들로 인하여 후면전극의 가장자리 주위가 완만하게 낮아지는 경사를 이루므로, 후면전계와의 중첩 부분이 윗 방향으로 돌출되지 않고 후면전극의 중심부와 유사한 높이를 이룬다. 이에 따라, 리본 부착 공정에서의 불량 발생율을 낮추고, 리본의 부착성을 향상시킬 수 있으며, 후면전극 인쇄를 위한 마스크의 내구성을 향상시켜 비용을 절감할 수 있다.
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公开(公告)号：WO2011068263A1
公开(公告)日：2011-06-09
申请号：PCT/KR2009/007204
申请日：2009-12-03
IPC: H01L21/203
CPC classification number: C23C14/3407 , H01J37/3405 , H01J37/3482
Abstract: 본 발명은 마그네트 사이의 거리 또는 타겟과 마그네트 사이의 거리를 조절할 수 있는 원통형 스퍼터링 캐소드에 관한 것이다. 본 발명의 원통형 스퍼터링 캐소드에 의하면, 자기장 및 플라즈마의 균일성을 향상시켜 타겟의 균일 침식을 유도하여 박막을 균일하게 증착할 수 있으며, 타겟의 수명을 향상시킬 수 있는 장점이 있다. 또한, 본 발명의 원통형 스퍼터링 캐소드는 타겟과 마그네트 사이의 거리 또는 마그네트 간의 거리를 조절함으로써 표면자기장의 세기를 조절하여 박막의 특성이 변하지 않도록 균일하게 유지할 수 있는 장점이 있다.
Abstract translation: 本发明涉及能够控制磁体之间的距离或靶与磁体之间的距离的圆形溅射阴极。 根据本发明的圆形溅射阴极的优点在于它可以改善磁场的均匀性以及等离子体均匀性，从而导致目标的均匀腐蚀，使得薄膜可以均匀地沉积，并且寿命 目标可以增加。 使用本发明的圆柱形溅射阴极来控制靶和磁体之间的距离或者磁体之间的距离，薄膜的性质保持不变，但是通过调节表面磁场的强度来保持同样的状态。
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公开(公告)号：WO2015026087A1
公开(公告)日：2015-02-26
申请号：PCT/KR2014/007379
申请日：2014-08-08
Applicant: (주) 에스엔텍
IPC: C23C16/509 , C23C16/513
CPC classification number: C23C16/509 , C23C16/4583 , C23C16/54 , H01J37/32082 , H01J37/32541 , H01J37/32669
Abstract: 본 발명은 경질의 기재를 공정 처리 대상으로 하는 플라즈마 화학기상 장치에 관한 것으로서, 진공공간을 형성하는 진공챔버; 상기 진공공간에 마련되어 상기 공정 수행 과정에서 상기 기재를 공급 측에서 배출 측으로 적재 이송시키는 적재이송부; 상기 기재의 공정 대상면의 반대면에 인접 배치되는 전극; 상기 전극으로 전원을 공급하는 전원공급부; 상기 진공챔버 내부의 진공도를 조절하는 진공조절부; 상기 기재의 공정 대상면 측으로 공정가스를 공급하는 가스공급부;를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의해, 경질의 기재를 이송시키면서 그 표면에 고품질 성막이나 식각 또는 표면 처리 공정 중 어느 한 공정을 고속으로 수행할 수 있는 플라즈마 화학기상 장치가 제공된다.
Abstract translation: 等离子体化学气相沉积装置技术领域本发明涉及一种适于使用硬质基材作为待处理物体的等离子体化学气相沉积装置，该装置包括：真空室，用于形成真空空间; 运送单元，其设置在真空空间中，在进行处理的过程中将基板从供给侧运送到排出侧; 设置在与所述基板的被处理面相反的面上的电极; 用于向电极供电的电源供应单元; 真空调节单元，用于调节真空室内的真空度; 以及气体供给单元，用于向处理基板的表面供给处理气体。 以这种方式，提供了一种等离子体化学气相沉积装置，其允许硬质基底被输送，同时使其表面经历涉及任何一种高质量成膜或蚀刻或表面处理的高速加工。
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公开(公告)号：WO2019139422A1
公开(公告)日：2019-07-18
申请号：PCT/KR2019/000500
申请日：2019-01-11
IPC: H01L31/18 , H01L31/0224 , G03F7/20 , G03F7/12 , H01L21/033
CPC classification number: G03F7/12 , G03F7/20 , H01L21/033 , H01L31/0224 , H01L31/18
Abstract: 본 발명에 따른 태양전지용 스텐실 마스크는 버스 바 전극이 없는 태양전지의 전면전극 패턴을 형성하기 위한 것으로서, 인접한 행이나 열의 핑거 전극 개구부들의 위치를 서로 어긋나게 배치한다. 또한, 각 핑거 전극 개구부의 폭을 리본과 연결될 핑거 전극을 위한 핑거 전극 개구부와 가까울수록 더 넓어지도록 구성하거나, 각 개구부 열에서 좌측으로 형성되는 핑거 전극 개구부와 우측으로 형성되는 핑거 전극 개구부가 교대로 형성되도록 구성할 수 있다. 이에 따라, 태양전지의 전면전극이 버스 바의 역할을 수행할 리본과 적절히 연결될 수 있다. 스텐실 기술의 특성을 고려한 설계에 따라, 스텐실 마스크의 지지력을 향상시킬 수 있으며, 단속적인 핑거 전극 개구부들을 통해 인쇄되어야 하는 핑거 전극들의 연결성을 향상시키고, 핑거 전극들로부터 수집되는 전류의 이동성을 향상시켜 전류 손실을 최소화할 수 있게 된다.
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公开(公告)号：WO2017111374A1
公开(公告)日：2017-06-29
申请号：PCT/KR2016/014566
申请日：2016-12-13
Applicant: (주) 에스엔텍
IPC: H05K3/28 , H05K9/00 , C23C14/04 , C23C14/50 , C23C14/14 , C23C16/04 , C23C16/06 , C23C16/458 , H01L21/02
CPC classification number: C23C14/04 , C23C14/14 , C23C14/50 , C23C16/04 , C23C16/06 , C23C16/458 , H01L21/02 , H05K3/28 , H05K9/00
Abstract: 본 발명은 증착 시스템에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 복수의 증착 챔버를 이용하여 인터백(inter-back) 타입으로 증착을 수행할 때, 기재를 연속적으로 투입하고 배출할 수 있으므로 풋 프린트(foot print)를 줄여 생산성을 향상시킬 수 있는 증착 시스템에 관한 것이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种沉积系统，更具体地说，涉及一种使用多个沉积室来沉积背面型衬底的方法， 并通过减少占地面积来提高生产力。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：WO2014208943A1
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：PCT/KR2014/005499
申请日：2014-06-23
Applicant: (주) 에스엔텍
IPC: C23C16/509 , H01L21/205
CPC classification number: C23C16/545 , C23C16/50 , H01J37/32541 , H01J37/3266 , H01J37/3277
Abstract: 본 발명은 플라즈마 화학기상 장치에 관한 것으로서, 상호 구획되어 독립된 복수의 진공공간을 갖는 진공챔버; 상기 진공공간들의 진공도를 조절하는 진공조절부; 적어도 일부의 외주면이 상기 각 진공공간에 위치하는 형태로 상기 각 진공공간에 회전 가능하게 하나씩 설치되고, 상기 외주면에 기재가 감아 도는 원형전극; 상기 각 원형전극을 감아 도는 상기 기재 측으로 자기장을 형성하는 적어도 하나의 자기장 발생부재; 상기 진공공간들 내부로 공정 가스를 공급하는 가스공급부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의해, 복수의 공정을 독립적이면서 연속적으로 수행할 수 있으며, 고속 공정에서도 공정 안정성과 품질 향상을 확보할 수 있는 플라즈마 화학기상 장치가 제공된다.
Abstract translation: 等离子体化学气相沉积装置技术领域本发明涉及一种等离子体化学气相沉积装置，其特征在于，包括：具有多个真空空间的真空室，所述多个真空空间被分隔成彼此独 用于控制真空空间的真空度的真空控制单元; 圆形电极，其旋转地设置在每个真空空间中，每个外周表面的至少一部分位于每个真空空间中，其外周表面被基材包围; 至少一个磁场产生部件，用于朝着围绕每个圆形电极的基底材料形成磁场; 以及用于将处理气体供给到真空空间内部的气体供给单元。 因此，提供了能够独立且连续地进行多个处理的等离子体化学气相沉积装置，并且即使在高速处理中也可以获得工艺稳定性和质量改进。
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公开(公告)号：WO2017111371A2
公开(公告)日：2017-06-29
申请号：PCT/KR2016/014558
申请日：2016-12-13
Applicant: (주) 에스엔텍
Abstract: 본 발명은 플라즈마 증착 장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 캐소드 전극을 구성하는 전극 본체와 마그넷이 별개로 회전할 수 있도록 패키징되어, 다양한 증착 조건에 따라 자기장의 형성 위치를 효율적으로 제어할 수 있고, 캐소드 전극의 구동을 위한 구동수단을 진공 챔버 외부에 착탈식으로 구비함으로써 진공 챔버 내부에 자기장 발생영역을 최대화할 수 있고, 캐소드 전극의 교체가 용이한 플라즈마 증착 장치에 관한 것이다.
Abstract translation: 等离子体沉积设备技术领域本发明涉及一种等离子体沉积设备，并且更具体地涉及一种等离子体沉积设备，其中构成阴极电极的电极体和磁体被分开包装以便可旋转， 可以有效地控制，并且用于驱动阴极的驱动装置可以可移除地设置在真空室外部，使得在真空室内磁场产生区域可以最大化并且可以容易地更换阴极。
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公开(公告)号：WO2017030315A1
公开(公告)日：2017-02-23
申请号：PCT/KR2016/008782
申请日：2016-08-10
Applicant: (주) 에스엔텍
CPC classification number: C23C14/04 , C23C14/24 , C23C14/34 , C23C14/50 , C23C14/54 , H05K3/28 , H05K9/00
Abstract: 본 발명은 증착 장치용 샘플 거치대 및 그 샘플 거치대를 갖는 증착 장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 증착 대상인 샘플의 온도 조절을 효과적으로 수행하여 고품질의 증착이 가능한 증착 장치용 샘플 거치대 및 그 샘플 거치대에 관한 것이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于沉积设备的样品座，以及一种具有所述样品座的沉积设备，更具体地，涉及一种用于沉积设备的样品座，该沉积设备有效地实现用于沉积的样品的温度控制， 质量沉积，以及其样品安装。
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公开(公告)号：WO2014088302A1
公开(公告)日：2014-06-12
申请号：PCT/KR2013/011133
申请日：2013-12-04
Applicant: (주) 에스엔텍
IPC: C23C16/50 , C23C16/509
CPC classification number: H01J37/32733 , C23C16/509 , C23C16/545 , H01J37/32403 , H01J37/3277 , H01J37/3405 , H01J37/3423 , H01J37/3455
Abstract: 본 발명은 플라즈마 화학기상 장치에 관한 것으로서, 진공챔버; 상기 진공챔버 내부의 진공도를 조절하는 진공조절부; 상기 진공챔버 내부에 공정 가스를 공급하는 가스공급부; 상기 진공챔버 내부에 롤 형태로 회전 가능하게 마련되며, 외주 표면에 절연층이 형성되어 있는 적어도 하나의 원형전극; 상기 원형전극 내에 마련되어 상기 원형전극의 외측으로 플라즈마 형성을 위한 자기장을 발생하는 적어도 하나의 자기장발생부재; 기재가 상기 원형전극의 플라즈마 형성 부분에 밀착되어 감아돌도록 상기 기재를 롤투롤 형태로 이송하는 기재이송부; 상기 원형전극에 전원을 공급하는 전원공급부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의해, 절연성 및 전도성 재질의 기재에 고속 및 고품질의 성막이 가능한 플라즈마 화학기상 장치가 제공된다.
Abstract translation: 等离子体化学气相沉积装置技术领域本发明涉及等离子体化学气相沉积装置，该装置包括：真空室; 真空调节单元，用于调节真空室内的真空度; 用于将处理气体供给到真空室中的气体供给单元; 圆形电极，其在真空室的内侧可旋转地设置成卷状，并且其外周面形成绝缘层; 至少一个磁场产生元件，设置在圆形电极的内部，并产生用于在圆形电极的外侧形成等离子体的磁场; 基板材料转送单元，其中基板材料以使得基板材料围绕圆形电极的等离子体形成部分紧密接触的方式滚动地进行; 以及用于向圆形电极供电的电源供应单元。 以这种方式，提供了能够在绝缘导电材料的基板上形成高速和高质量的等离子体化学气相沉积装置。
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公开(公告)号：KR101972497B1
公开(公告)日：2019-04-25
申请号：KR1020170095037
申请日：2017-07-27
Applicant: (주)에스엔텍
IPC: H01L23/482 , H01L23/532 , H01L23/00
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