公开(公告)号：CN116500860A

公开(公告)日：2023-07-28

申请号：CN202310055729.8

申请日：2023-01-18

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 畠山润 ,  福岛将大

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题提供为高感度且LWR、CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，含有：包含下式(1)表示的锍盐的酸产生剂。式中，RAL为具预定芳香族基的环状仲或叔酯型酸不稳定基团。

公开(公告)号：CN116068854A

公开(公告)日：2023-05-05

申请号：CN202211358180.1

申请日：2022-11-01

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 福岛将大 ,  菊地骏 ,  大桥正树 ,  片山和弘

IPC: G03F7/027 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32

Abstract: 本发明涉及分子抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供在使用高能射线的光学光刻中，感度、解析性及LWR优良的分子抗蚀剂组成物、以及使用该分子抗蚀剂组成物的图案形成方法。解决手段是一种分子抗蚀剂组成物，含有下式(1)或(2)表示的锍盐及有机溶剂，且不含有基础聚合物。

公开(公告)号：CN111087334B

公开(公告)日：2022-03-01

申请号：CN201911010673.4

申请日：2019-10-23

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 福岛将大

IPC: C07C381/12 ,  C07D207/28 ,  C07D209/58 ,  C07D333/46 ,  C07D207/273 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明为新的鎓盐、化学放大抗蚀剂组合物和图案化方法。提供新的鎓盐和包含其作为PAG的抗蚀剂组合物。当通过使用KrF或ArF准分子激光、EB或EUV的光刻法进行处理时，抗蚀剂组合物的酸扩散降低，曝光裕度、MEF和LWR改善。

公开(公告)号：CN111793054A

公开(公告)日：2020-10-20

申请号：CN202010256383.4

申请日：2020-04-02

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 福岛将大 ,  大桥正树 ,  片山和弘 ,  计良祐纪

IPC: C07D319/06 ,  C07D321/06 ,  C07C381/12 ,  C07C309/12 ,  C07D333/48 ,  C07D307/00 ,  C07D317/18 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32

Abstract: 本发明涉及锍化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供一种新颖锍化合物，其是在以高能量射线作为光源的光刻中，高感度且酸扩散小、各种光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物中使用的；并提供含有该锍化合物作为光酸产生剂的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用了该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。本发明提供一种锍化合物，以下式(A)表示；以及提供一种化学增幅抗蚀剂组成物，含有由前述锍化合物构成的光酸产生剂及基础树脂。

公开(公告)号：CN111187235A

公开(公告)日：2020-05-22

申请号：CN201911101447.7

申请日：2019-11-12

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 小野绘实子 ,  提箸正义 ,  福岛将大 ,  计良祐纪

IPC: C07D307/00 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C07D333/76 ,  C07D333/08 ,  C07D327/06 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

Abstract: 本发明涉及新型盐化合物、化学增幅抗蚀剂组合物、及图案形成方法。本发明的课题是提供一种化学增幅抗蚀剂组合物，其在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光刻中，缺陷少，感度、LWR、MEF、CDU等优异；并提供使用该化学增幅抗蚀剂组合物的图案形成方法。一种盐化合物，其由下式(A)表示。

公开(公告)号：CN109426080A

公开(公告)日：2019-03-05

申请号：CN201810957182.X

申请日：2018-08-22

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 福岛将大 ,  提箸正义 ,  长谷川幸士 ,  阿达铁平 ,  片山和弘

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  C08F220/28 ,  C08F220/20 ,  C08F220/38 ,  C07C67/297 ,  C07C69/54 ,  C07D493/08 ,  C07D493/18 ,  C07D307/00

Abstract: 本发明为单体、聚合物、抗蚀剂组合物和图案化方法。提供了具有在酸的作用下能够极性转换的取代基的单体和聚合物。包含所述聚合物的抗蚀剂组合物以高分辨率形成不溶于碱性显影剂中并且具有高的耐蚀刻性的负型图案。