公开(公告)号：KR1020070008930A

公开(公告)日：2007-01-18

申请号：KR1020050062846

申请日：2005-07-12

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김정남

IPC: H01L21/02

Abstract: Semiconductor fabricating equipment having flow rate checking member in a liquid reservoir is provided to smoothly discharge moisture to be stored in the liquid reservoir to a waste water pipe by using the flow rate checking member. Semiconductor fabricating equipment includes a gas guide pipe(53) interposed between a gas reservoir(100) and a liquid reservoir(60), a liquid guide pipe(50) interposed between the liquid reservoir and the process tube, and a ground plate and a floating plate(69) which are disposed on upper and lower portions in the liquid reservoir, respectively. The floating plate has at least two guide holes(74,78), in which one end of the liquid guide pipe penetrates the liquid reservoir and is disposed in one of the guide holes, and one end of the gas guide pipe penetrates the liquid reservoir and is disposed in the other of the guide holes.

Abstract translation: 提供具有液体储存器中的流量检查构件的半导体制造设备，以通过使用流量检查构件将待储存在储液器中的水分平滑地排放到废水管。 半导体制造装置包括插入在储气器（100）和液体储存器（60）之间的导气管（53），介于液体储存器和处理管之间的液体引导管（50），以及接地板和 浮板（69）分别设置在储液器的上部和下部。 浮板具有至少两个引导孔（74,78），其中液体引导管的一端穿过液体储存器并设置在一个引导孔中，气体导管的一端穿过液体储存器 并且设置在另一个引导孔中。

公开(公告)号：KR1020070001468A

公开(公告)日：2007-01-04

申请号：KR1020050056973

申请日：2005-06-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김정남

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/205

Abstract: An apparatus for controlling a flow rate is provided to improve productivity and to reduce a manufacturing cost by employing a flow rate controller for controlling the flow rate in response to an electrical signal. At least one flow rate controller(100) is coupled to each of branched gas lines(110). A controller(200) is connected to the flow rate controller to control it. A display unit(300) is connected to the controller to display flow rate of air passing through the flow rate controller. The flow rate controller controls and detects the flow rate of the air supplied through the gas line in response to an electrical signal. The controller transmits a predetermined value inputted by a user to each of the flow rate controller and receives flow rate of the air based on the predetermined value.

Abstract translation: 提供了一种用于控制流量的装置，以通过采用用于响应于电信号来控制流量的流量控制器来提高生产率并降低制造成本。 至少一个流量控制器（100）耦合到每个分支气体管线（110）。 控制器（200）连接到流量控制器以进行控制。 显示单元（300）连接到控制器以显示通过流量控制器的空气流量。 流量控制器响应于电信号控制和检测通过气体管线供应的空气的流量。 控制器将由用户输入的预定值发送给每个流量控制器，并基于该预定值接收空气的流量。

公开(公告)号：KR1020060121581A

公开(公告)日：2006-11-29

申请号：KR1020050043832

申请日：2005-05-24

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김정남

IPC: H01L21/22

Abstract: A jig for setting a tube of semiconductor manufacturing equipment is provided to control a level of a jig body and minimize a horizontal control error by measuring and visualizing a vertical distance of the jig body. A reaction tube(100) is loaded on a ring-shaped jig body(200). A plurality of supporting parts are installed on a bottom face of the jig body to support and elevate the jig body. A monitoring unit is installed at the jig body to measure and visualize a position of the jig body. The monitoring unit includes a gauge(310) installed at the jig body to measure the position of the jig body and a display part installed at the gauge to visualize an electrical signal of the gauge.

Abstract translation: 设置用于设置半导体制造设备的管道的夹具用于控制夹具本体的水平并且通过测量和可视化夹具本体的垂直距离来最小化水平控制误差。 反应管（100）装载在环形夹具本体（200）上。 多个支撑部件安装在夹具本体的底面上，以支撑和提升夹具主体。 监测单元安装在夹具本体上，以测量和可视化夹具本体的位置。 监视单元包括安装在夹具本体上的量规（310），用于测量夹具本体的位置和安装在量规上的显示部分，以显示量规的电信号。

公开(公告)号：KR1020060118894A

公开(公告)日：2006-11-24

申请号：KR1020050041324

申请日：2005-05-17

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김정남

IPC: H01L21/66

CPC classification number: H01L21/67265 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/67778

Abstract: An apparatus for measuring a gap between forks of a wafer transfer device is provided to maintain a balanced state of the forks by measuring the distance between the forks in real-time. An apparatus for measuring a gap between forks of a wafer transfer device includes a main body(110), a measuring tool(120), a sensing unit(130), a calculating unit, and a display portion(150). A guide rail is arranged on the main body. The measuring tool is inserted into the guide rail and between the forks of the wafer transfer device to be measured. The sensing unit is provided on the measuring tool and detects a distance between the forks. The calculating unit measures the distance between the forks by using a result from the sensing unit. The display portion is provided in the main body and displays a distance between the forks, which is calculated at the calculating unit.

Abstract translation: 提供了一种用于测量晶片传送装置的叉之间的间隙的装置，用于通过实时测量叉之间的距离来保持叉的平衡状态。 一种用于测量晶片转移装置的叉之间的间隙的装置，包括主体（110），测量工具（120），感测单元（130），计算单元和显示部分（150）。 导轨安装在主体上。 测量工具插入导轨中，并插入要测量的晶片传送装置的叉子之间。 感测单元设置在测量工具上，并检测叉子之间的距离。 计算单元通过使用来自感测单元的结果来测量叉子之间的距离。 显示部分设置在主体中并且显示在计算单元处计算的叉之间的距离。

公开(公告)号：KR1020060110984A

公开(公告)日：2006-10-26

申请号：KR1020050033256

申请日：2005-04-21

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김정남

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67098 ,  H01L21/02

Abstract: A thermocouple maintenance tool for semiconductor fabricating equipment is provided to prevent an operator from being burned by a thermocouple by separating the thermocouple from a diffusion furnace while using a thermocouple maintenance tool made of a material with low heat conductivity. A thermocouple is supported by a holder part(310). A handle(320) is extended from the holder part. The holder part includes a hole(311) and an open/shut part. A hole into which the thermocouple is inserted is formed in the body, and the open/shut part performs an open/shut action to connect the hole to the outside. The holder part and the handle are made of a material having low conductivity.

Abstract translation: 提供了一种用于半导体制造设备的热电偶维护工具，以便在使用由热导率低的材料制成的热电偶维护工具时，通过将热电偶与扩散炉分离来防止操作者被热电偶燃烧。 热电偶由保持器部分（310）支撑。 手柄（320）从保持器部分延伸。 保持器部分包括孔（311）和开/关部分。 在主体中形成有插入热电偶的孔，并且打开/关闭部分执行打开/关闭动作以将孔连接到外部。 保持器部分和手柄由具有低导电性的材料制成。

公开(公告)号：KR1020060108794A

公开(公告)日：2006-10-18

申请号：KR1020050030952

申请日：2005-04-14

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김정남

IPC: H01L21/324

CPC classification number: H01L21/67098 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67242

Abstract: 반응 가스의 누설 문제를 개선하기 위한 급속 열처리 장치가 개시된다. 반도체 웨이퍼를 열처리하기 위한 공정 챔버를 구비한 개선된 급속 열처리 장치는 상기 공정 챔버의 일단에 연결되며 상기 공정 챔버 내의 반응 가스를 펌핑하여 펌핑된 가스의 압력을 체크함으로써 상기 공정 챔버 내부의 반응 가스 누설 여부를 확인하기 위한 가스누설 확인부를 구비한다. 그에 따라, 본 발명은 개선된 급속 열처리 장치를 제공하여, 반응 가스의 누설을 확인할 수 있으며, 반응 가스의 누설을 줄임으로써 열처리 공정이 원하는 조건하에서 진행될 수 있도록 하는 효과를 갖는다. 그리하여 본 발명은 반응 가스의 변동량을 계측함으로써 웨이퍼의 균일성(uniformity)이 향상된다.
급속 열처리, 튜브, 펌프, 밸브, MFC, 균일성

公开(公告)号：KR1020060105262A

公开(公告)日：2006-10-11

申请号：KR1020050027888

申请日：2005-04-04

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김정남

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/6875

Abstract: 본 발명은 사각 프레임의 내측으로 적어도 3개의 지지 리브가 연장 형성되어 그 상부에 재치되는 TC 웨이퍼의 하면을 상기 지지 리브의 각 단부가 지지하도록 구성되는 웨이퍼 카세트를 포함하는 TC 웨이퍼 지지 장치에 관한 것으로서, 상기 지지 리브의 단부에는 단부가 첨예한 지지편이 상향으로 돌출 형성되며, 상기 TC 웨이퍼의 상기 지지편이 접촉하는 부분에는 상기 지지편의 첨예한 단부가 안착될 수 있는 안착 부재가 형성 또는 설치되어, 카세트에 TC 웨이퍼를 재치시키더라도 로딩 중 또는 온도 측정중에 웨이퍼가 유동하여 스크래치등으로 인한 파티클로 인해 공정 챔버 내부가 오염되는 것을 미연에 방지하여 좀더 효율적인 온도 보정 및 측정이 가능하다.
반도체 설비, TC 웨이퍼, 카세트, 안착 부재, 지지편, 지지 리브

公开(公告)号：KR1020060105089A

公开(公告)日：2006-10-11

申请号：KR1020050027472

申请日：2005-04-01

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김정남

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/6875 ,  H01L21/67098 ,  H01L21/6773 ,  H01L21/68757 ,  Y10S414/141

Abstract: 급속 열처리 장치에 구비되는 웨이퍼 트레이는 웨이퍼를 지지하기 위한 지지부재를 갖는 프레임을 구비하고, 가이드 링이 상기 지지된 웨이퍼의 가장자리와 인접하여 상기 프레임 상에 배치되어 상기 웨이퍼 가장자리의 공정 조건을 상기 웨이퍼의 중앙 부위의 공정 조건과 실질적으로 동일하게 유지시킨다. 상기 프레임으로부터 상방으로 연장된 다수의 핀이 상기 가이드 링을 관통하여 지지한다. 다수의 고정 부재가 상기 다수의 핀과 각각 결합하여 상기 가이드 링을 고정한다. 따라서 상기 핀으로부터 상기 가이드 링이 이탈되는 것을 방지한다.

公开(公告)号：KR1020060103974A

公开(公告)日：2006-10-09

申请号：KR1020050025732

申请日：2005-03-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김정남

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67017 ,  H01L21/67098 ,  H01L21/67201

Abstract: 챔버의 오염을 방지하는 장치에서, 유체 제공부는 가열된 유체를 제공한다. 유체 제공부와 연결된 유체 유동부는 유체 제공부로부터 제공되는 가열된 유체가 흐르는 유동로를 제공하고, 가판의 가공을 위한 반응 챔버와 연결된 로드록 챔버의 내부 공간과 열교환이 가능하도록 배치되며, 반응 챔버에서 생성되어 로드록 챔버로 유입되는 고온의 반응 부산물이 반응 챔버와 로드록 챔버의 온도차에 의해서 응고되는 것을 억제하기 위하여, 로드록 챔버의 내부 온도를 상기 반응 부산물의 응고점보다 높게 유지시킨다. 따라서, 반응 챔버로부터 로드록 챔버로 유입된 반응 부산물이 로드록 챔버 내부에서 응고되어 파티클이 형성되는 것을 용이하게 억제할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020060102052A

公开(公告)日：2006-09-27

申请号：KR1020050023800

申请日：2005-03-22

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김정남

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/02 ,  E05B63/12 ,  E05C3/14 ,  F21Y2115/10

Abstract: 반도체 제조설비의 백도어 잠금장치를 제공한다. 제공된 백도어 잠금장치는 반도체 제조설비의 설비몸체 내부를 개폐하는 백도어에 마련된 잠김부와, 잠김부에 인접하게 배치되며 설비몸체에 장착된 하우징과, 하우징의 내부에 개재되며 잠김부에 선택적으로 끼워지도록 피스톤을 왕복 이동시키는 실린더 유닛 및, 피스톤의 왕복 이동을 제어하도록 실린더 유닛에 연결된 스위치를 포함한다. 따라서, 제공된 백도어 잠금장치는 실린더를 이용하여 백도어를 잠그거나 잠금해제시키기 때문에 반자동으로 작동될 뿐만 아니라 정확한 체결을 이룰 수 있다.