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    정보 저장 매체 제작용 기록 마스터 및 그 제조 방법
    91.
    发明公开
    정보 저장 매체 제작용 기록 마스터 및 그 제조 방법 无效
    用于制造信息存储介质的记录主体及其制造方法

    公开(公告)号：KR1020050025881A

    公开(公告)日：2005-03-14

    申请号：KR1020040018002

    申请日：2004-03-17

    Applicant: 삼성전자주식회사

    Inventor： 윤두섭 ,  박인식 ,  김주호 ,  김현기 ,  황인오

    IPC: G11B7/26

    Abstract: A recorded master for making an information storage medium and a fabrication method therefor are provided to form pits or bumps by comprising a thermal absorption layer and a separation layer which are transformed in volume when being heated at more than certain temperature, thereby reducing size of the pits or track pitches. A thermal absorption layer(15) is coated on a disk(10), and absorbs heat in a part where a beam is radiated. A separation layer(20) is coated on the thermal absorption layer(15). At least either the thermal absorption layer(15) or the separation layer(20) changes in volume according to temperature distributions of the part where the beam is radiated. The separation layer(20) is formed with a photoresist. The thermal absorption layer(15) is formed with an alloy layer.

    Abstract translation: 提供了一种用于制作信息存储介质的记录母盘及其制造方法，以通过包括在超过一定温度下被加热而体积变化的热吸收层和分离层形成凹坑或凸块，由此减小 凹坑或轨道间距。 热吸收层（15）涂覆在盘（10）上，并且在辐射束的部分吸收热量。 分离层（20）涂覆在热吸收层（15）上。 根据辐射部分的温度分布，至少热吸收层（15）或分离层（20）的体积变化。 分离层（20）由光致抗蚀剂形成。 热吸收层（15）由合金层形成。

    반응확산을 이용한 기록방법, 이 방법을 이용한 기록매체및 이 기록매체를 이용한 기록재생장치
    92.
    发明公开
    반응확산을 이용한 기록방법, 이 방법을 이용한 기록매체및 이 기록매체를 이용한 기록재생장치 无效
    使用反应扩散的记录方法，使用其记录方法的记录介质以及使用其记录介质的记录/再现装置，关于从衍射限制中的记录介质再现信息

    公开(公告)号：KR1020040097254A

    公开(公告)日：2004-11-17

    申请号：KR1020047015559

    申请日：2003-03-28

    Applicant: 삼성전자주식회사 ,  고쿠리츠겐큐가이하츠호진 산교기쥬츠소고겐큐쇼

    Inventor： 김주호 ,  토미나가준지

    IPC: G11B11/105 ,  G11B7/0045 ,  G11B7/243

    CPC classification number: G11B7/00454 ,  B82Y10/00 ,  G11B7/24065 ,  G11B7/243 ,  G11B7/257 ,  G11B11/10504 ,  G11B11/10515 ,  G11B11/10528 ,  G11B11/10584 ,  G11B11/10593 ,  G11B11/10597

    Abstract: PURPOSE: A recording method using a reaction diffusion, a recording medium using a recording method thereof and a recording/reproducing device using the recording medium thereof is provided to change an absorption coefficient of an optical constant by a reaction diffusion of a recording layer and a dielectric layer, and to record information on a recording medium by a phase change method, thereby reproducing information from the recording medium within a diffraction limit. CONSTITUTION: An Al layer(221) functioning as a reflective layer, a dielectric layer(222) of a dielectric such as ZnS-SiO2, a recording layer(223) having a big affinity and a reaction to oxygen and sulphate, a dielectric layer(224) of a dielectric such as ZnS-SiO2, and a transparent polycarbonate layer(225) are sequentially accumulated. A material of the recording layer(223) can form a sulfide or an oxide through a reaction diffusion with the dielectric layers(222,224).

    Abstract translation: 目的：提供使用反应扩散的记录方法，使用其记录方法的记录介质和使用其记录介质的记录/再现装置，以通过记录层和记录层的反应扩散来改变光学常数的吸收系数 电介质层，并通过相变方法将信息记录在记录介质上，从而在衍射极限内从记录介质再现信息。 构成：用作反射层的Al层（221），诸如ZnS-SiO 2的电介质的介电层（222），具有大的亲和力和对氧和硫酸盐的反应的记录层（223），介电层 介电体（例如ZnS-SiO 2）和透明聚碳酸酯层（225）的电极（224）。 记录层（223）的材料可以通过与电介质层（222,224）的反应扩散形成硫化物或氧化物。

    플라즈마처리장치
    93.
    发明公开
    플라즈마처리장치 失效

    公开(公告)号：KR1019980076734A

    公开(公告)日：1998-11-16

    申请号：KR1019970013580

    申请日：1997-04-14

    Applicant: 삼성전자주식회사

    Inventor： 임태형 ,  최병묵 ,  서영호 ,  김주호

    IPC: H01L21/306

    Abstract: 본 발명은 플라즈마 처리 장치에 관한 것으로, 절연체화하기 위해서 황산과 케미컬을 소정 비율로 혼합한 후 이를 전기분해하여 코팅 처리한 알루미늄 금속 재질인 가스 분배 플레이트의 표면은 약 0.5㎛로 코팅처리 되는데, 상기 가스 분배 플레이트의 가스 분배 홀의 모서리 부분에는 약 0.3㎛로 보다 얇게 코팅처리된다.
    이로 인해, 고주파 전원 및 에칭재료가스에 의해 가스 분배 홀의 모서리 부분에서 식각이 다른 부분 보다 빨리 발생하여 알루미늄 금속이 노출되고, 이렇게 노출된 알루미늄 금속에는 고주파 전원이 축적되다가 일정 순간에 방전하게 되며, 이로 인해 파티클이 발생하여 웨이퍼 표면으로 떨어짐에 따라 웨이퍼 가공에 치명적인 불량을 초래하는 문제점을 제거하는 것을 목적으로 한다.
    이를 위해 본 발명에서는 가스 분배 플레이트의 절연 코팅된 부분의 식각으로 아킹이 발생하여 생기는 파티클에 의한 웨이퍼의 불량을 방지할 수 있도록 한다.

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