웨이퍼 레벨 진공 패키징이 가능한 MEMS의 구조물의제작방법
    91.
    发明授权
    웨이퍼 레벨 진공 패키징이 가능한 MEMS의 구조물의제작방법 失效
    微机电系统结构的复制方法可以在晶圆级封装

    公开(公告)号:KR100343211B1

    公开(公告)日:2002-07-10

    申请号:KR1019990048592

    申请日:1999-11-04

    CPC classification number: B81C1/00293 G01C19/5769 G01P1/02 G01P15/0802

    Abstract: 웨이퍼레벨진공패키징이가능한 MEMS(Micro Electromechanical System)의구조물의제작방법에관해기술된다. 제작방법은: 제1웨이퍼에시그널라인을포함하는다층구조의적층을형성하는제1단계; 상기다층구조의적층에제2웨이퍼를부착하는단계; 상기제1웨이퍼를소정두께로연마하는제2단계; 상기제1웨이퍼에상기시그널라인과연계된것으로진공화영역내에위치하는 MEMS 구조물과진공화영역외부에위치하는패드를형성하는제3단계; 제3웨이퍼에상기 MEMS 구조의진공화영역에대응하는공간을가지는구조를형성하는제4단계; 상기제1웨이퍼의연마면과제3웨이퍼를진공환경에서결합하는제5단계;를포함한다. 이에따르면, 제작되어진구조물을웨이퍼레벨진공패키징하여구조를보호하고작동에필요한진공도를형성하고유지시킴으로써, 이후공정의수율을향상시키고, 별도의진공패키징공정을필요로하지않아공정을단순화시킬수 있다.

    교환시스템의 과부하 제어 장치
    92.
    发明公开
    교환시스템의 과부하 제어 장치 无效
    交换系统的过载控制装置

    公开(公告)号:KR1019990054376A

    公开(公告)日:1999-07-15

    申请号:KR1019970074187

    申请日:1997-12-26

    Abstract: 본 발명은 교환시스템의 과부하 제어 장치에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 시스템 과부하시 OS로부터 TRC블럭이 과부하 발생통보를 받아 과부하 제어 루틴을 수행하는 자동 제어 장치와 과부하 발생이 예상되는 시점에 운용자가 과부하를 설정하여 강제적으로 과부하 제어를 수행하는 수동 제어 장치를 동시에 구비한다. 상기 수동 제어 장치로 인해 교환시스템이 처리할 수 있는 용량 이상의 호가 발생되어 관련 프로세서에 급격한 부하를 발생시켜 전체 호를 수용할 수 없는 상황에 이르거나 시스템의 수행능력이 급격히 저하되어 시스템의 다운이 우려되는 상황을 운용자가 미리 감지하여 강제적으로 부하를 설정함으로써 시스템의 제어 시점이 조정되어 과부하로 인한 시스템의 급격한 성능 저하나 시스템이 다운되는등의 문제를 미리 방지할 수 있게 된다.

    공간 광변조기의 성능 측정 시스템

    公开(公告)号:KR101890754B1

    公开(公告)日:2018-08-22

    申请号:KR1020120007122

    申请日:2012-01-25

    Abstract: 공간광변조기의성능측정시스템은, 제1 광을일부는반사시키고나머지는투과시켜진행경로가다른제2 및제3 광으로분배하는제1 광분배기, 상기제2 광의세기를검출하는제1 광검출기, 홀로그램정보가기록되어있으며, 상기제3 광을상기홀로그램정보에따라변조시켜제4 광을출력하는공간광변조기, 상기제4 광을일부는반사시키고나머지는투과시켜제5 및제6 광으로분배하는제2 광분배기, 상기제5 광의세기를검출하는제2 광검출기및 상기제2 광의세기와상기제5 광의세기를기초로상기공간광 변조기에서의광효율을산출하는분석장치를포함한다.

    공간 광변조기
    98.
    发明授权

    公开(公告)号:KR101849973B1

    公开(公告)日:2018-04-18

    申请号:KR1020120031821

    申请日:2012-03-28

    Abstract: 광학적으로어드레싱되는공간광변조기가개시된다. 개시된광학적으로어드레싱되는공간광변조기는, 광전류형성층과전광광변조층을포함하며, 광전류형성층은, 광학적인어드레싱을위한광과상호작용하는플라즈모닉나노구조를포함한다.

    3차원 디스플레이장치
    100.
    发明授权
    3차원 디스플레이장치 有权
    三维显示设备

    公开(公告)号:KR101807691B1

    公开(公告)日:2017-12-12

    申请号:KR1020110002868

    申请日:2011-01-11

    CPC classification number: G02B27/2242

    Abstract: 3차원디스플레이장치가개시된다. 개시된 3차원디스플레이장치는, 광원과, 광원으로부터출사된광을스캐닝하는빔 스캐너와, 빔스캐너에의해스캐닝되어입사되는광선의방향을여러방향으로바꾸어주어라이트필드를재생시키도록, 복수의빔 디플렉터가어레이로배열된빔 디플렉터어레이를포함한다. 빔디플렉터어레이의각 빔디플렉터는, 광선이입사하는위치에따라복수의방향으로광의진행방향을바꾸어주도록마련된다.

    Abstract translation: 公开了一种三维显示装置。 三维显示装置中阐述,光束扫描仪,束由扫描仪扫描入射,多个光束偏转器的重现给定变化的在各个方向上的光线被扫描从光源射出的光的方向的光场,光源 包括排列成阵列的光束偏转器阵列。 光束偏转器阵列光束偏转器中的每一个中,提供根据光的位置,以找零的光的行进方向在多个方向的入射。

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