Abstract:
본 발명은 경화반응시 OH기가 생성되지 않으며, 낮은 열팽창계수를 나타내는 특정한 구조로 인하여 개선된 내열성, 개선된 열팽창성, 저흡습성 및 저유전율을 나타내는 새로운 시아네이트 수지 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 하기 화학식 1 내지 3의 시아네이트 수지 및 이의 제조방법에 제공된다. (1) (2) (3) (상기 화학식 1, 2 및 3에서, A 및 B의 코어 구조는 각각 비스페놀-A계 구조, 비페닐계 구조, 나프탈렌계 구조, 카도계 구조, 안트라센계 구조, 폴리아로메틱 구조 및 액정계 화합물 구조로 구성되는 그룹으로부터 독립적으로 선택되는 것으로, 같거나 다를 수 있으며, 상기 화학식 1에서 반복단위의 수 n은 1 내지 10의 정수이며, 상기 화학식 3에서 반복단위의 수 m은 1 내지 10의 정수이다.)
Abstract:
본 발명은 유기섬유의 굴절률 제어방법, 그로부터 제조된 유기섬유 및 그를 함유한 고 투광성 고분자-유기섬유 복합체에 관한 것이다. 본 발명의 유기섬유의 굴절률 제어방법은 유기 고분자 수지를 용융방사하되, 방사시 500 m/min 이상의 방사속도 또는 방사시 방사속도 및 연신공정 조건에 따라 유기섬유의 굴절률을 정밀 제어할 수 있으며, 상기 방법에 의해 굴절률이 제어된 유기섬유를 고분자 매트릭스에 복합화시킨 고분자-유기섬유 복합체를 제공할 수 있다. 본 발명의 고분자-유기섬유 복합체는 종래 고가의 고분자 매트릭스의 굴절률을 일치시키는 방법이 아닌, 고분자 매트릭스에 복합화될 유기섬유의 굴절률(n ㅗ )을 제어하므로, 보다 용이하고 경제적인 방법에 의해 제공가능하며, 특히 본 발명의 고분자-유기섬유 복합체는 고분자 매트릭스에 복합화될 유기섬유의 길이에 대한 수직 방향의 굴절률(n ㅗ )이 정밀히 제어되어 복합화됨으로써, 고품질의 편광특성과 고 투광성이 구현되므로 반사형 편광필름을 비롯한 전자재료 및 산업용 복합소재로 유용하다.
Abstract:
PURPOSE: A photocurable isosorbide derivative and a method for preparing the same are provided to replace bisphenol A photocurable materials and to reduce irreversible carbon dioxide generation. CONSTITUTION: A photocurable isosorbide derivative is denoted by chemical formula 1. A method for preparing the compound of chemical formula 1 comprises: a step of reaction of a compound of chemical formula 1 and epibromohydrine under the presence of hydroxide salt using a aprotic polar solvent to prepare a compound of chemical formula 3; and a step of reacting methacrylic acid with the compound of chemical formula 3 to prepare a compound of chemical formula 1. The compound of chemical formula 2 is derived from carbohydrate polymers. The aprotic polar solvent is DMSO, DMF, DMA, or NMP. A photocurable composition contains the compound of chemical formula 1 and free radical photo initiator.
Abstract:
본 발명은 고분자 수지 바인더 및 유기 나노섬유를 포함하는 열팽창특성 및 투광성이 우수한 고분자-유기 나노섬유 복합체 및 이를 이용한 투광성 복합체 필름에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 경화성 고분자 수지 및 섬유직경이 20㎚ 내지 20㎛인 유기 나노섬유를 포함하는 고분자-유기 나노섬유 복합체 및 이로 형성된 투광성 복합체 필름이 제공된다. 본 발명에 의한 고분자-유기 나노섬유 복합체 및 이로 형성된 투광성 복합체 필름은 우수한 열팽창특성, 구체적으로는 15~20ppm/℃보다 작은 우수한 열팽창계수 및 투광성을 갖는 것으로, 본 발명에 의한 복합체로 형성된 복합체 필름은 우수한 열팽창특성 및 투광성을 갖는 것으로 전기, 전자, 반도체, 광학 및 디스플레이 소재, 구체적으로는 차세대 반도체 기판, PCB, 패키징, OTFT, 가요성 디스플레이 기판, 투명판, 광학렌즈, 액정 표시소자용 플라스틱 기판, 컬러필터용 기판, 유기 EL 표시 소자용 플라스틱 기판, 태양전지기판, 터치패널, 도광판, 광학소자, 도광로, LED 봉지제등으로 사용하기에 적합하다.
Abstract:
본 발명은 코어에 나프탈렌계 유니트를 3 이상 포함하며, 상기 나프탈렌계 유니트는 2 이상의 다른 종류인, 열팽창 특성 및 공정성이 개선된 새로운 나프탈렌계 에폭시 수지 및 이를 포함하는 개선된 열팽창특성(즉, 낮은 CTE(Coefficient of Thermal Expansion)) 및 이에 따른 개선된 내열특성, 특히, 개선된 고온 치수안정성 및 고온 가공성을 갖는 새로운 열경화성 수지 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 일 견지에 의하면, 코어에 3 이상의 나프탈렌계 유니트(unit)를 포함하며, 상기 나프탈렌계 유니트는 2종 이상의 다른 종류의 나프탈렌계 유니트인 나프탈렌계 에폭시 수지; 및 상기 나프탈렌계 에폭시 수지 및 경화제를 포함하는 수지 조성물이 제공된다. 본 발명에 의한 나프탈렌계 에폭시 수지 및 이를 포함하는 에폭시 수지 조성물은 개선된 열팽창특성 및 공정성을 나타낸다.
Abstract:
본 발명은 두 개의 대칭적인 나프탈렌 구조가 알칸디일 구조로 연결된 내흡습성 및 결정성이 우수하며 용융점도가 낮은 새로운 에폭시 수지 및 이를 포함하는 반도체 봉지용 에폭시 수지 복합체에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 하기 화학식 3의 에폭시 수지; 및 상기 화학식 3의 에폭시 수지, 무기 필러, 및 경화제를 포함하는 반도체 봉지용 에폭시 수지 복합체가 제공된다. [화학식 3]
(상기 식에서 A는 [화학식 4-1] 혹은 [화학식 4-2]
(단, 상기 화학식 4-2에서 R은 단일결합 또는 C1 내지 C5 알칸디일 그룹이다.)이며, n은 1 내지 10의 정수이다.) 상기 반도체 봉지용 에폭시 수지 복합체는 우수한 내흡습성, 낮은 용융점도 및 상온 결정성을 갖는 것으로, 반도체 장치 봉지시 공정성 및 제품의 신뢰성이 개선된다.
Abstract:
본 발명은 나프탈렌계 유방성 크로모닉 액정 조성물을 이용한 편광필름의 제조방법에 관한 것으로서, 본 발명에 의한 나프탈렌계 유방성 크로모닉 액정 조성물을 이용한 편광필름의 제조방법은, 하기 화학식 1로 표현되는 나프탈렌계 화합물과 염기성 작용기를 가진 염기성 크로모닉 액정 화합물, 산성 작용기를 가진 산성 모노머 및 광개시제를 포함하여 이루어진 나프탈렌계 유방성 크로모닉 액정 조성물을 전단력을 이용하여 기재필름 또는 장파장흡수층 위에 단파장흡수층을 형성하는 단파장코팅단계;
상기 단파장흡수층을 광 중합에 의하여 경화시키는 단파장경화단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 분자내에 친수성기를 갖고 400 내지 450nm 영역을 흡수하는 새로운 구조의 나프탈렌계 유방성 크로모닉 액정조성물을 이용함으로써, 장파장 구간에서 우수한 편광특성을 유지하면서도 단파장(400 내지 450nm) 구간에서의 광누락이 현저히 개선되는 장점이 있다. 다층구조, 나프탈렌계, 크로모닉 액정, 편광필름