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公开(公告)号：CN100541149C
公开(公告)日：2009-09-16
申请号：CN02820533.2
申请日：2002-10-16
Applicant: 海因兹仪器公司
Inventor： 王宝良
IPC: G01J4/00
Abstract: 提供采用Soleil-Babinet补偿器(101)作为校准双折射测量系统的标准的系统和方法。通过这里描述的方法可以实现高精度和可重复的校准，因为除了其它优点外，该具有创造性的方法可以计算Soleil-Babinet补偿器(101)整个表面的不同双折射。这里描述的校准技术可以用于具有测量双折射水平范围的各种光学装置和各种频率的光源的双折射测量系统中。
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公开(公告)号：CN101479563A
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200780024435.8
申请日：2007-04-27
Applicant: 麦克罗尼克激光系统公司
Inventor： 托布乔恩·桑德斯特罗姆
IPC: G01B9/02
CPC classification number: G01N21/9501 , G01B9/02011 , G01B9/0209 , G01B2290/45 , G01B2290/70 , G01J4/04 , G01J9/02 , G01N21/21 , G01N2021/95676
Abstract: 本申请公开了一种记录图像的新方法。其涉及许多科学和技术领域中的显微镜方法和表面分析。具体地，其涉及在微电子学中使用的表面的成像和检测：无图案的和有图案的晶片和光掩膜。在其记录电幅度的意义上讲，其涉及全息术。应用包括显微镜方法、缺陷检测、散射测量、以及光学测量。
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公开(公告)号：CN100338446C
公开(公告)日：2007-09-19
申请号：CN01125718.0
申请日：2001-08-23
Applicant: 朗迅科技公司
Inventor： 罗沙·贝内迪科特·尔哈德·约瑟夫·摩勒 , 保罗·斯帝芬·伟斯特布鲁克
CPC classification number: H04B10/2569 , G01J3/447 , G01J4/04
Abstract: 用于偏测量的一种方法和设备。使用一个检偏振镜能确定光学信号的偏振状态，该检偏振镜包括一个偏振控制器、一个偏振镜、一个波长分散元件及一个光电探测器。该方法和设备能应用于在波长分隔多路复用通信系统中的偏振和偏振模式分散测量。
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公开(公告)号：CN1272608C
公开(公告)日：2006-08-30
申请号：CN03110572.6
申请日：2003-04-10
Applicant: 索尔实验室公司
CPC classification number: G01M11/337 , G01J4/04 , G01M11/336
Abstract: 具有至少四个检波器的类型的偏振仪的高精度校准涉及使用输入光信号(校准偏振)的四个已知偏振态和至少一个其它偏振态。到偏振仪的所有输入偏振态具有统一的光信号归一化功率和统一的偏振度。用至少一个可变的校正参数产生四个校准偏振的斯托克斯矩阵，并且校正矩阵用斯托克斯矩阵和由偏振计测定的相应检波器电流矩阵确定。产生作为由偏振计测定的偏振态的偏振度的函数的优化判据。迭代变化校正参数，以便使优化判据最小化，使得偏振仪被校准以便对任何输入偏振态产生统一的功率和偏振度。
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公开(公告)号：CN1813174A
公开(公告)日：2006-08-02
申请号：CN200480017939.3
申请日：2004-05-13
Applicant: 阿克伦大学
Inventor： G·C·杰亚库斯
IPC: G01J4/00
CPC classification number: G01J4/04 , G01J3/02 , G01J3/021 , G01J3/0224 , G01J3/2823 , G01J3/36 , G01J3/433 , G01J3/447 , G01N21/21
Abstract: 提供一种系统和方法，用于产生目标的多能量图像。该系统包括一光源，以具有第一波长的第一数量的光和具有第二波长的第二数量的光照射一个目标，其中第二波长不同于第一波长。一个极化状态发生器为第一和第二数量的光的每一个产生一个极化状态，并包括第一偏光器，通过第一偏光器，第一和第二数量的光在进入第一波片之前被传输。一个极化状态接收器评价目标被照射后发生的第一和第二数量的光的极化状态，该极化状态接收器包括第二波片，通过第二波片，第一和第二数量的光在进入第二偏光器之前被传输。一个光学图像捕捉装置捕捉由第一数量的光所照射的目标的第一图像，以及由第二数量的光所照射的目标的第二图像。一个处理单元分配一个加权因子给第一和第二图像的至少其中之一，评价第一和第二图像之间的一个加权差值，以产生目标的一个多能量图像。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1811357A
公开(公告)日：2006-08-02
申请号：CN200610005149.4
申请日：2006-01-13
Applicant: 北海道TLO株式会社 , 欧姆龙株式会社
IPC: G01J3/447
CPC classification number: G01J4/04
Abstract: 本发明涉及一种分光偏振测定法和分光偏振器；温度改变或其他的因素会导致延迟器的延迟发生变化，并且这种变化致使表示光偏振态的参数产生测量误差，本发明是为了有效地减小这种测量误差，同时保持沟槽分光偏振器的多种特性。通过求解方程，由沟槽光谱P(σ)中包含的每个振动分量，得到参考相位函数φ1(σ)和φ2(σ)，在测量光谱测定的斯托克斯参数S0(σ)、S1(σ)、S2(σ)和S3(σ)的同时，校准参考相位函数φ1(σ)和φ2(σ)。
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公开(公告)号：CN1735798A
公开(公告)日：2006-02-15
申请号：CN03825859.5
申请日：2003-02-06
Applicant: 埃科斯弗电光工程公司
Inventor： N·西尔
IPC: G01M11/00
CPC classification number: G01J4/04 , G01M11/331 , G01M11/336
Abstract: 一种用于测量例如波导管的器件的偏振模色散(PMD)的设备，包括：宽带光源装置，用于使偏振宽带光穿过器件(14)；干涉仪(20)，用于分离和复合穿过所述器件的光以形成干涉图；偏振分离器(30)，用于接收来自所述干涉仪的所述光，并将该接收的光沿第一和第二正交偏振态分离；检测器(32X，32Y)，用于将所述第一和第二正交偏振态分别转换为相应的第一和第二电信号(PX(τ)，PY(τ))；以及处理器(36)，用于分别计算所述第一和第二电信号的差与和的模量，以产生互相关包络(EC(τ))和自相关包络(EA(τ))，并根据表达式（见上图）确定偏振模色散，其中τ是干涉仪的两光路间的延迟差。
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公开(公告)号：CN1168971C
公开(公告)日：2004-09-29
申请号：CN99105149.1
申请日：1999-04-21
Applicant: 株式会社理光
Inventor： 森田展弘
IPC: G01N21/43
CPC classification number: G01N21/23 , G01J4/04 , G01M11/025 , G01M11/0271 , G01M11/0285
Abstract: 本发明涉及双折射测定方法及其装置，该装置包括照射光学系、照射侧移位机构、偏振光元件、回转装置、回转角检测装置、受光元件、成像光学系及运算装置。调整照射光学系位置，以发散光照射被检透镜，使偏振光元件回转，透过偏振光元件的光成像在受光元件上，根据偏振光元件回转角度及受光元件的受光输出，计算被检透镜的双折射。能得到光学畸变影响小的光弹性干涉条纹像，也能很容易地对应被检透镜种类的变更。
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公开(公告)号：CN1305586A
公开(公告)日：2001-07-25
申请号：CN99807278.8
申请日：1999-06-11
Applicant: 格鲁克麦狄泰克股份公司
CPC classification number: G01J4/04
Abstract: 本发明涉及用于非常精确地确定偏振光的偏振面的一种方法和一种装置,按此方法,光源(1)的光线被偏振,这借助于一个偏振滤光器(2)实现,它相对于第一个参考面—在反射表面(4)上的入射面—有一个确定的调整角θo。穿过测量室(3)中测试体的偏振射线(12)改变旋转角一个小的角度θMG。θo和θMG的和给出旋转角θe,由测量室走出的射线(13)以此角度在一个光学密集介质的表面(4)上部分地被反射。接着被反射的部分射线在一个偏振棱镜(5)中分裂成两个部分射线(15a:非正常射线;15b:正常射线),它们的偏振面严格地相互垂直。棱镜的参考面—正常射线的偏振面—相对于第一个参考面有一个确定的调整角(θ*)。两个部分射线的强度Ⅰo和Ⅰa被检测器(6a,6b)以光电方法确定,并且构成测得强度的比值(Q)(比值构成器:8)。
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公开(公告)号：TW201727203A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW105129701
申请日：2016-09-13
Applicant: 標竿科技公司 , BENCHMARK TECHNOLOGIES, INC.
Inventor： 屠 宇強 , TU, YUQIANG , 萊諾德 派翠克 , REYNOLDS, PATRICK
CPC classification number: G01J4/04 , G03F1/44 , G03F7/70566 , G03F7/70641
Abstract: 本發明提供一種用於特徵化和一光源之電磁光束相關聯的光束參數的方法及設備。該光源會經由以一基板之聚焦平面為基準的一組焦距來曝光一相位移標靶。於該組焦距的每一個焦距處量測定位值，並且利用定位值來決定以焦距為函數的一或更多個定位斜率。比較該些定位斜率及基線定位斜率，以便特徵化討論中的光束參數的目前相對狀態。可以依此方式貝特徵化的光束參數包含偏振度以及以一初始偏振方向為基準的偏振旋轉。本發明還說明有利於光束特徵化的相位移測試圖樣。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种用于特征化和一光源之电磁光束相关联的光束参数的方法及设备。该光源会经由以一基板之聚焦平面为基准的一组焦距来曝光一相位移标靶。于该组焦距的每一个焦距处量测定位值，并且利用定位值来决定以焦距为函数的一或更多个定位斜率。比较该些定位斜率及基线定位斜率，以便特征化讨论中的光束参数的目前相对状态。可以依此方式贝特征化的光束参数包含偏振度以及以一初始偏振方向为基准的偏振旋转。本发明还说明有利于光束特征化的相位移测试图样。
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