公开(公告)号：WO2012039078A1

公开(公告)日：2012-03-29

申请号：PCT/JP2011/002241

申请日：2011-04-15

Applicant: パナソニック株式会社 ,  野並勇治 ,  三坂章夫

Inventor： 野並勇治 ,  三坂章夫

IPC: G03F1/08 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F1/00 ,  G03F1/50 ,  G03F1/54 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/201 ,  H01L21/0274

Abstract: 　フォトマスク（４０）は、透明基板（１１）と、透明基板（１１）上に、スペース（１６、１７）を挟んで対向する部分を有する第１マスクパターン（１４ｂ）及び第２マスクパターン（１４ａ、１５）を備える。第１マスクパターン（１４ｂ）は、光を部分的に透過させる半遮光部（１３ｂ）と、遮光部（１２ｂ）とを含む。第１マスクパターン（１４ｂ）において、半遮光部（１３ｂ）は、遮光部（１２ｂ）を挟んでスペース（１６、１７）と対向する部分を有する配置である。第１マスクパターン（１４ｂ）の寸法は（０．７×λ／ＮＡ）×Ｍよりも大きく、スペース（１６、１７）の寸法は（０．５×λ／ＮＡ）×Ｍ以下である（λは露光光の波長、ＮＡは露光機の縮小投影光学系の開口数、Ｍは前記縮小投影光学系の倍率）。

Abstract translation: 光掩模（40）包括透明基板（11）和布置在透明基板（11）上的第一掩模图案（14b）和第二掩模图案（14a，15），并且分别具有通过 空间（16,17）。 第一掩模图案（14b）包括光半屏蔽部分（13b），光可以透过该半透明部分和光屏蔽部分（12b）。 在第一掩模图案（14b）中，光半屏蔽部分（13b）适于具有通过遮光部分（12b）面向空间（16,17）的部分。 第一掩模图案（14b）的尺寸大于（0.7×λ/ NA）×M，空间（16,17）的尺寸为（0.5×λ/ NA）×M以下（其中， 曝光光的波长; NA表示曝光机的缩小投影光学系统中的开口数; M表示缩小投影光学系统的放大率）。

公开(公告)号：WO2007052978A1

公开(公告)日：2007-05-10

申请号：PCT/KR2006/004591

申请日：2006-11-06

Applicant: KOREA ADVANCED INSTITUTE OF SCIENCE & TECHNOLOGY ,  JEON, Jin-Wan ,  YOON, Jun-Bo ,  LIM, Koeng Su

Inventor： JEON, Jin-Wan ,  YOON, Jun-Bo ,  LIM, Koeng Su

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/201 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/7035 ,  G03F7/70383 ,  Y10T428/24802

Abstract: A method of fabricating a polymer or resist pattern over a substrate includes coating a photosensitive polymer or resist over the substrate to form a polymer or resist layer, determining a portion of the polymer or resist layer to be exposed to light, placing a light adjusting layer in an optical path of light shone on the polymer or resist layer, and adjusting the light adjusting layer to adjust a direction or intensity of the light shone on the polymer or resist layer. Based on the method, it is easy to fabricate a polymer or resist pattern, a metal film pattern, metal pattern structure, and a polymer mold, each having three-dimensional structures with various slopes or shapes by adjusting a direction or intensity of incident light when performing a lithography process.

Abstract translation: 在衬底上制造聚合物或抗蚀剂图案的方法包括在衬底上涂覆感光聚合物或抗蚀剂以形成聚合物或抗蚀剂层，确定要暴露于光的聚合物或抗蚀剂层的一部分，将光调节层 在光聚合物或抗蚀剂层上照射的光路中，并且调整光调节层以调节聚合物或抗蚀剂层上的光照的方向或强度。 基于该方法，通过调节入射光的方向或强度，可以容易地制造具有各种斜率或形状的三维结构的聚合物或抗蚀图案，金属膜图案，金属图案结构和聚合物模具 当进行光刻工艺时。

公开(公告)号：WO2005078523A1

公开(公告)日：2005-08-25

申请号：PCT/KR2005/000346

申请日：2005-02-04

Applicant: KOREA ADVANCED INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY ,  YOON, Jun-Bo ,  CHANG, Sung-Il ,  KIM, Dae-Hyun ,  LEE, Hyung-Suk ,  CHOI, Joo-Nyong ,  JANG, Weon-Wi ,  LEE, Kyungho

Inventor： YOON, Jun-Bo ,  CHANG, Sung-Il ,  KIM, Dae-Hyun ,  LEE, Hyung-Suk ,  CHOI, Joo-Nyong ,  JANG, Weon-Wi ,  LEE, Kyungho

IPC: G03F7/00

CPC classification number: G03F7/2008 ,  B81B3/001 ,  B81B2201/047 ,  B81B2203/0118 ,  B81B2203/0338 ,  B81B2203/0376 ,  B81C99/009 ,  B81C2201/0159 ,  B81C2201/034 ,  G03F7/0005 ,  G03F7/201 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/7035 ,  H05K3/0023 ,  H05K3/0079 ,  H05K3/0082 ,  H05K3/107 ,  H05K3/4092 ,  H05K2201/09981 ,  H05K2203/0594

Abstract: The present invention relates to polymer patterns of various shapes formed using modifications of means and methods used in the prior lithography process, and the metal film patterns, metal patterns and plastic molds using the polymer patterns, as well as methods of forming these patterns and molds. The method of forming the polymer patterns comprises the steps of: (a) depositing a photosensitive polymer on the substrate to form a polymer film; (b) placing a photomask on the polymer film; and (c) irradiating the polymer film with a light moving in random direction through the photomask, so as to form at least one pattern which is concave from the surface of the polymer film in a direction perpendicular to the substrate and extends in a direction parallel to the substrate. The inventive polymer patterns have at least one pattern which is concave from the surface of the polymer film in a direction perpendicular to the substrate and extends in a direction parallel to the substrate. The vertical cross-section of the concave patterns has at least one curved surface.

Abstract translation: 本发明涉及使用在现有光刻工艺中使用的方法和方法的改进形成的各种形状的聚合物图案，以及使用聚合物图案的金属膜图案，金属图案和塑料模具以及形成这些图案和模具的方法 。 形成聚合物图案的方法包括以下步骤：（a）将光敏聚合物沉积在基底上以形成聚合物膜; （b）将光掩模放在聚合物膜上; 和（c）以沿随机方向移动的光照射聚合物膜通过光掩模，从而形成至少一个图案，该图案在垂直于基底的方向上从聚合物膜的表面凹入并在平行方向上延伸 到基底。 本发明的聚合物图案具有至少一种图案，其在垂直于基底的方向上从聚合物膜的表面凹入，并且在平行于基底的方向上延伸。 凹形图案的垂直横截面具有至少一个曲面。

公开(公告)号：WO1995003564A1

公开(公告)日：1995-02-02

申请号：PCT/US1994008369

申请日：1994-07-25

Applicant: E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY ,  OHLIG, Albert, Hans ,  NELSON, Steven, William

Inventor： E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY ,  VERBIAR, Robert, John ,  CUSHNER, Stephen

IPC: G03F07/20

CPC classification number: G03F7/201

Abstract: An exposure unit and method for imaging a photosensitive material includes a source of radiation for exposing the photosensitive material to actinic radiation such that the radiation strikes the photosensitive material at a plurality of angles of incidence, and apparatus for moving the radiation source relative to and in a plane parallel to the photosensitive material. The exposure unit also has a reflector for controlling (1) the proportion of (a) radiation having perpendicular angles of incidence to (b) radiation having non-perpendicular angles of incidence, such that the radiation having non-perpendicular angles is increased, and (2) the distribution of non-perpendicular angles of incidence.

Abstract translation: 用于对感光材料进行成像的曝光单元和方法包括用于将感光材料暴露于光化辐射的辐射源，使得辐射以多个入射角射向感光材料，以及用于相对于和在其中移动辐射源的装置 平行于感光材料的平面。 曝光单元还具有用于控制（1）与（b）具有非垂直入射角的辐射具有垂直入射角的辐射的比例的反射器，使得具有非垂直角的辐射增加， （2）非垂直入射角的分布。

公开(公告)号：WO1992003842A1

公开(公告)日：1992-03-05

申请号：PCT/JP1991001103

申请日：1991-08-19

Applicant: NIKON CORPORATION ,  SHIRAISHI, Naomasa

Inventor： NIKON CORPORATION

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F9/7088 ,  G03F7/201 ,  G03F7/701 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/7025 ,  G03F7/70308

Abstract: A method and a device for transferring minute patterns (12) on the mask (11) to the substratum (17) by means of illuminating optical system (1-10) projecting beams of illuminating light onto the mask (11) and a projection aligner having a projection optical system (13) for projecting images of minute patterns (12) on the substratum (17). Beams of said illuminating light are thrown, as at least a pair of luminous fluxes slantwise facing the mask (11), through a pair of light transmitting windows (6a, 6b) of a spatial filter (6) onto the minute patterns (12), and, as a result, one of diffracted beams of the light of +/- first orders caused by minute patterns (12) of the illuminated mask (11) and diffracted beams of zero order pass portions, equidistantly spaced apart from the optical axis of the projection optical system, of or near the Fourier transform surface (14) in the projection optical system (13) for minute patterns (12) on the mask (11) so that projected images may be formed to be sharp in contrast and high in resolution on the substratum (17) at a large focal depth.

公开(公告)号：WO2016159176A1

公开(公告)日：2016-10-06

申请号：PCT/JP2016/060551

申请日：2016-03-30

Applicant: 株式会社ニコン

Inventor： 青木　保夫

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/683

CPC classification number: G03F7/2037 ,  G03F7/201 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70775 ,  H01L21/6838

Abstract: 　投影光学系を介して照明光を基板（Ｐ）に照射して、照明光に対して基板（Ｐ）を相対駆動してガラス基板（Ｐ）の複数の領域をそれぞれ走査露光する露光装置は、基板（Ｐ）の第１領域を浮上支持する基板ホルダ（６８）と、基板ホルダ（６８）によって浮上支持されたガラス基板（Ｐ）を保持する基板キャリア（７０）と、基板ホルダ（６８）を駆動するＸ粗動ステージ（４０）と、基板キャリア（７０）を駆動するＸボイスコイルモータ（８４ｘ）、Ｙボイスコイルモータ（８４ｙ）と、走査露光において、基板ホルダ（６８）と基板キャリア（７０）とがそれぞれ駆動されるようにＸ粗動ステージ（４０）、Ｘボイスコイルモータ（８４ｘ）等を制御する制御装置と、を備える。これにより、物体の位置制御性が向上した露光装置を提供することができる。

Abstract translation: 该曝光装置通过投影光学系统照射具有照明光的基板（P），并相对于照明光驱动基板（P），分别对玻璃基板（P）的多个区域进行扫描曝光 ）设置有：衬底保持器（68），其垂直并支撑所述衬底（P）的第一区域; 保持由衬底保持器（68）悬浮并支撑的玻璃衬底（P）的衬底载体（70）; 用于驱动衬底保持器（68）的X粗移动台（40）; 驱动基板载体（70）的X音圈马达（84x）和Y音圈马达（84y）; 以及控制X粗移动台（40），X音圈马达（84x）等的控制装置，使得在扫描和曝光期间分别驱动基板支架（68）和基板支架（70）。 因此，可以提供具有改善的对象位置可控性的曝光装置。

公开(公告)号：WO2016096365A1

公开(公告)日：2016-06-23

申请号：PCT/EP2015/077769

申请日：2015-11-26

Applicant: ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： FINDERS, Jozef, Maria

IPC: G03F7/20 ,  G03F1/00

CPC classification number: G03F7/201 ,  G02B17/0652 ,  G02B17/0657 ,  G03F1/72 ,  G03F7/70125 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/705

Abstract: A method includes measuring properties of a three-dimensional topography of a lithographic patterning device, the patterning device including a pattern and being constructed and arranged to produce a pattern in a cross section of a projection beam of radiation in a lithographic projection system, calculating wavefront phase effects resulting from the measured properties, incorporating the calculated wavefront phase effects into a lithographic model of the lithographic projection system, and determining, based on the lithographic model incorporating the calculated wavefront phase effects, parameters for use in an imaging operation using the lithographic projection system.

Abstract translation: 一种方法包括测量平版印刷图案形成装置的三维形貌的属性，所述图案形成装置包括图案并被构造和布置成在光刻投影系统中的投影射束的横截面中产生图案，计算波前 由所测量的特性产生的相位效应，将计算出的波前相位效应结合到光刻投影系统的光刻模型中，以及基于包含所计算的波前相位效应的光刻模型确定在使用光刻投影的成像操作中使用的参数 系统。

公开(公告)号：WO2015113408A1

公开(公告)日：2015-08-06

申请号：PCT/CN2014/088725

申请日：2014-10-16

Applicant: 上海普利生机电科技有限公司

Inventor： 侯锋

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/702 ,  B29C64/129 ,  B29C64/20 ,  B33Y30/00 ,  G03F7/0037 ,  G03F7/201 ,  G03F7/70416

Abstract: 一种3D打印设备的图像曝光系统，包括：空间光调制器（206），具有多个微镜（311），用于根据控制信号调节照射到其上的光的反射方向，其中每一微镜（311）为凹面镜，将照射到其上的光会聚成尺寸小于微镜（311）所对应的像素尺寸的微光斑；光源（201），产生一照射到空间光调制器（206）上的光束；投影镜头（208），对准空间光调制器（206）的第一方向，使光源（201）通过各微镜（311）所成的微光斑阵列投射到光敏材料表面；微位移驱动机构，连接空间光调制器（206），能够驱动空间光调制器在相互垂直的第三方向和第四方向移动，以微调微光斑阵列投影到光敏材料表面的位置；以及控制器，命令光源进行多次曝光，在每次曝光时命令微位移驱动机构进行移动，以将各次曝光的微光斑阵列投影到光敏材料表面的不同位置。

公开(公告)号：WO2015044437A1

公开(公告)日：2015-04-02

申请号：PCT/EP2014/070865

申请日：2014-09-30

Applicant: FLINT GROUP GERMANY GMBH

Inventor： STEBANI, Uwe ,  DIETZ, Gernot

IPC: G03F7/20

CPC classification number: B41C1/055 ,  G03F7/201 ,  G03F7/202 ,  G03F7/2022 ,  G03F7/36

Abstract: Vorrichtung zur automatisierten Durchführung von Rückseitenvorbelichtung, Hauptbelichtung sowie Entwickeln digital bebilderbarer Flexodruckelemente sowie Verfahren zur Herstellung von Flexodruckplatten ausgehend von digital bebilderten Flexodruckelementen unter Verwendung der besagten Apparatur.

Abstract translation: 一种用于Rückseitenvorbelichtung，主曝光的自动性能和显影可成像数字柔版印刷和用于从使用所述设备数字成像柔性版印刷元件的柔性版印刷版的方法。

公开(公告)号：WO2013180534A1

公开(公告)日：2013-12-05

申请号：PCT/KR2013/004844

申请日：2013-05-31

Applicant: 주식회사 엘지화학

Inventor： 성지현 ,  이승헌 ,  손용구 ,  황지영

IPC: H01L21/027

CPC classification number: B41C1/06 ,  B41C1/00 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/201

Abstract: 본 발명은 지지롤 및 상기지지 롤의 적어도 일면을 감싸도록 구비되고, 요철부를 갖는 플롁서블 (flexible) 기재를 포함하며, 상기지지 롤과 상기 플롁서블 기재 사이에 다공성 시트가 구비된 것인 클리쉐, 클리쉐의 제조방법 및 클리쉐를 이용한 인쇄방법을 제공한다.

Abstract translation: 本发明提供了一种陈设文本，一种用于制造陈腔纸的方法，以及一种使用该陈列架的印刷装置，包括支撑辊的底板和覆盖支撑辊的至少一个表面的柔性基底，并且具有方形波形 其中在所述支撑辊和所述柔性基底之间设置多孔片。