Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen eines Siliziumdioxidgranulats aus einem pyrogenen Siliziumdioxidpulver, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus dem Siliziumdioxidgranulat und iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze, wobei der Quarzglasköper einen OH-Gehalt von weniger als 10 ppm, einen Chlorgehalt von weniger als 60 ppm und einen Aluminiumgehalt von weniger als 200 ppb aufweist. Die Erfindung betrifft weiterhin einen Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist. Weiterhin betrifft die Erfindung einen Formkörper und ein Gebilde, die jeweils durch Weiterverarbeiten des Quarzglaskörpers erhältlich sind.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer Quarzglaskörnung beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen eines Siliziumdioxidgranulats aus einem pyrogen erzeugten Siliziumdioxidpulver, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus dem Siliziumdioxidgranulat, iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze und iv.) Zerkleinern des Quarzglaskörpers unter Erhalt einer Quarzglaskörnung. Die Erfindung betrifft weiterhin eine Quarzglaskörnung, die durch dieses Verfahren erhältlich ist. Weiterhin betrifft die Erfindung opake Quarzglaskörper, die durch Weiterverarbeiten der Quarzglaskörnung erhältlich sind.
Abstract:
Disclosed are high purity synthetic silica glass material having a high OH concentration homogeneity in a plane perpendicular to the optical axis, and process of making the same. The glass has high refractive index homogeneity. The glass can have high internal transmission of at least 99.65%/cm at 193 nm. The process does not require a post-sintering homogenization step. The controlling factors for high compositional homogeneity, thus high refractive index homogeneity, include high initial local soot density uniformity in the soot preform and slow sintering, notably isothermal treatment during consolidation.
Abstract:
A luminescent element of next-generation optical device that by photoluminescence (PL), exhibits a large half-value width of emission spectrum in the wavelength region of visible light so as to realize broad light emitting characteristics and enables white light emission. Silica glass is produced through a firing operation for firing a product of pressure molding of silica microparticles such as fumed silica, wherein the firing temperature is regulated within a range not exceeding 1000°C so as to satisfactorily carry out dehydration condensation reaction with respect to OH groups of silica microparticles to thereby attain clearing and wherein amorphous defects having occurred during the reaction are retained without being reduced. This silica glass is used as a phosphor.
Abstract:
In a prior art method for producing a quartz glass body, SiO2 particles are deposited on the cylindrical outer surface of a cylindrical mandrel (4), which rotates around the longitudinal axis thereof, while forming an essentially cylindrical porous blank (1), whereby a holding element (12) made of quartz glass is provided in the area of one of the ends of said blank (1). The aim of the invention is to improve, based on existing methods, the reproducibility of the properties of the products made of the quartz glass body. To this end, the invention provides that a holding element (2) is used which has a metastable OH content of less than 30 ppm by weight, and that the holding element (2) is subjected to a thermal pretreatment. A suitable holding element (2) for holding a blank made of quartz glass is characterized in that it is comprised of quartz glass that has a metastable OH content of less than 30 ppm by weight.