公开(公告)号：CN102057332B

公开(公告)日：2014-04-09

申请号：CN200980121967.2

申请日：2009-05-20

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： R·施密特兹 ,  T·范埃姆派尔 ,  M·姆伊特詹斯 ,  程伦 ,  F·詹森 ,  W·范海尔登 ,  R·沃思鲁伊斯 ,  P·斯加里曼 ,  A·莱克斯蒙德 ,  E·尼埃乌库普 ,  B·伯特斯 ,  M·莱蒙 ,  R·范德格拉夫 ,  M·德克鲁恩 ,  H·维尔苏伊斯

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/00

CPC classification number: G03F7/70891 ,  G02B7/008 ,  G03F7/70875 ,  G03F7/709 ,  G03F7/70983 ,  G21K2201/067

Abstract: 提供一种用于热调节光学元件的方法，所述方法包括：用辐射照射光学元件的步骤；不用辐射照射所述光学元件的步骤；在所述光学元件和保持在调节流体储存器内的调节流体之间实现热流动；和提供所述调节流体的流体流动，以提供热调节后的流体至所述储存器。所述流体在所述光学元件的照射期间的流量低于所述光学元件不被照射时所述流体的流量。

公开(公告)号：CN103443863A

公开(公告)日：2013-12-11

申请号：CN201280015247.X

申请日：2012-03-21

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： U.丁格 ,  F.比杰科克 ,  M.拜拉克塔 ,  O.迪尔

IPC: G21K1/06

CPC classification number: G21K1/062 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/0891 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/702 ,  G21K2201/067

Abstract: 一种EUV反射镜布置(100)，具有彼此并排布置并且共同形成所述反射镜布置的反射镜表面的多个反射镜元件(110、111、112)。每个反射镜元件具有基板(120)和多层布置(130)，所述多层布置被施加到所述基板上，并关于来自极紫外范围(EUV)的辐射具有反射效果，所述多层布置包括多个层对(135)，该层对具有由高折射率层材料和低折射率层材料组成的交替层。所述多层布置具有活性层(140)，该活性层布置在辐射进入表面和基板之间，并由压电活性层材料组成，可通过电场的作用来改变所述活性层的层厚度(z)；对于每个活性层，提供电极布置，用于产生作用于所述活性层的电场。

公开(公告)号：CN103400627A

公开(公告)日：2013-11-20

申请号：CN201310386155.9

申请日：2009-10-20

Applicant: 应用材料公司

Inventor： Y-H·杨 ,  T·A·恩古耶 ,  S·巴录佳 ,  A·卡祖巴 ,  J·C·罗查 ,  T·诺瓦克 ,  D·W·何

IPC: G21K1/06 ,  B82Y10/00

CPC classification number: G21K1/062 ,  B82Y10/00 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/065 ,  G21K2201/067

Abstract: 一种用于紫外线灯的反射器，该紫外线灯可在基材处理设备中使用。该反射器包含在该紫外线灯长度上延伸的纵向带。该纵向带具有一弯曲反射表面并且包含数个通孔以将冷却剂气体导向该紫外线灯。在此亦描述使用具有反射器的紫外线灯模块的腔室以及紫外线处理的方法。

公开(公告)号：CN103052876A

公开(公告)日：2013-04-17

申请号：CN201180037916.9

申请日：2011-08-01

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 向出大平

IPC: G01N23/04 ,  G21K1/00

CPC classification number: G01N23/20 ,  G01N23/04 ,  G01N23/083 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/06 ,  G21K2201/067 ,  G21K2207/005

Abstract: 一种用于导出X射线吸收和相位信息的装置包括：用于在空间上分割X射线的分割元件；用于检测透过被检体的X射线的强度的检测器，X射线的强度根据X射线相位以及位置变化而改变；以及用于计算X射线透射率图像和作为相位信息的X射线微分相位衬度或相移衬度图像的计算单元。X射线通过具有不等的狭缝宽度的光栅而被分成具有不同宽度的两个或更多个X射线，并且，被发射到检测器单元上。而且，计算单元基于该两个或更多个X射线之间的在检测器单元中的X射线强度变化和X射线相位变化之间的相关关系方面的差异计算X射线吸收和相位信息。

公开(公告)号：CN102971801A

公开(公告)日：2013-03-13

申请号：CN201180021391.X

申请日：2011-04-26

Applicant: 原子能与替代能源委员会

Inventor： 奥利维耶·塔谢 ,  奥利维耶·斯帕拉

IPC: G21K1/02 ,  G21K1/06

CPC classification number: G21K1/02 ,  G21K1/025 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/06 ,  G21K2201/062 ,  G21K2201/067

Abstract: 本发明涉及一种用于X射线束的准直设备、用于通过X射线束的散射来分析样品(105)的光学设备以及用于X射线束的准直仪。该准直设备包括意图在真空或受控气氛下的外壳(110)，该外壳(110)具有用于射束的入口(120)和出口(121)及由具有衍射周期性结构的材料制成的至少一个板(104)，所述板(104)具有两个主面(104a，104b)和在所述面之间的至少一个加宽的孔(104c)。

公开(公告)号：CN102903412A

公开(公告)日：2013-01-30

申请号：CN201210262390.0

申请日：2012-07-27

Applicant: 通用电气公司

Inventor： S.M.李

IPC: G21K1/06 ,  B32B3/30 ,  B32B5/00

CPC classification number: G21K1/062 ,  B82Y10/00 ,  G21K2201/067

Abstract: 本发明多层全内反射光学装置及其制造和使用方法，提供一种具有输入面和输出面的多层光学装置。该光学装置包括：具有第一实折射率1-δ1和第一吸收系数的高折射率材料层，其中，芯体包括第一表面和第二表面；具有第二实折射率1-δ2和第二吸收系数的低折射率材料层；以及设置在高折射率材料层和低折射率材料层之间的分级区，该分级区包括具有第三实折射率1-δ3和第三吸收系数的分级层，使得1-δ1>1-δ3>1-δ2，其中，高折射率材料层、分级区和低折射率层中的一个或多个的至少一部分包括沿着第一方向的一个或多个波纹。

公开(公告)号：CN101960338B

公开(公告)日：2013-01-09

申请号：CN200980106463.3

申请日：2009-02-24

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： W·A·索尔 ,  V·Y·班尼恩 ,  J·H·J·莫尔斯 ,  M·M·J·W·范赫彭 ,  A·M·亚库林

IPC: G02B5/20 ,  G02B5/22 ,  G02B5/26 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G02B5/08

CPC classification number: G02B5/208 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/0891 ,  G02B5/22 ,  G02B5/26 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/067 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/065 ,  G21K2201/067

Abstract: 一种光学元件包括第一层(4)，所述第一层包括第一材料，并配置成对第一波长的辐射是基本上反射的并且对第二波长的辐射是基本上透明的。光学元件包括第二层(2)，所述第二层包括第二材料，并配置成对所述第二波长的辐射是基本上吸收的或透明的。光学元件包括第三层(3)，位于所述第一层和所述第二层之间的所述第三层包括第三材料，并对所述第二波长的辐射是基本上透明的并且配置成减小所述第二波长的辐射从所述第二层的面朝所述第一层的顶部表面的反射。第一层位于入射辐射的光学路径中相对于所述第二层的上游，以便提高所述第一波长的辐射的光谱纯度。

公开(公告)号：CN102612668A

公开(公告)日：2012-07-25

申请号：CN201080051848.7

申请日：2010-10-11

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： V·克里夫特苏恩 ,  A·亚库宁 ,  V·梅德韦杰夫

IPC: G03F7/20 ,  G02B5/08

CPC classification number: G03F7/70958 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/0891 ,  G03F7/70575 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/067

Abstract: 一种多层反射镜(100)配置用于反射极紫外(EUV)辐射、同时吸收第二辐射，所述第二辐射的波长基本上长于EUV辐射的波长。所述反射镜包括：叠置在基底(104)上的多个层对(110、112)。每个层对包括第一层(112)和第二层(110)，所述第一层包括第一材料，所述第二层包括第二材料。第一层(112)被改变，使得相比于具有相同厚度的相同金属的单层，减少了所述第一层对反射所述第二辐射的贡献。所述改变可以包括在金属层中或者金属层周围掺杂第三材料，以通过化学键合或者电子俘获来减小其导电性，和/或以绝缘层将金属层分成多个子层。在叠层中的层的数量大于已知的多层反射镜，并且可以被调整以获得最小的IR反射。

公开(公告)号：CN102472976A

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN201080030955.1

申请日：2010-06-01

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： H-J.保罗 ,  G.布朗 ,  S.米古拉 ,  A.多多克 ,  C.扎克泽克

IPC: G03F7/20 ,  G02B5/08

CPC classification number: G03F7/70958 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/0891 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70941 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067

Abstract: 本发明涉及一种用于EUV波长范围的反射镜(1a；1b；1c)，所述反射镜包括基底(S)和层布置，其中所述层布置包括多个层子系统(P”、P”’)，每个层子系统由单独层的至少两个周期(P2、P3)的周期序列构成，其中所述周期(P2、P3)包括作为高折射率层(H”、H”’)和低折射率层(L”、L”’)的两个单独层，高折射率层(H”、H”’)和低折射率层(L”、L”’)由不同材料构成，并且在每个层子系统(P”、P”’)内具有恒定厚度(d2、d3)，所述恒定厚度(d2、d3)与相邻层子系统的周期的厚度偏离。所述反射镜的特征在于第二远离所述基底(S)的层子系统(P”)具有周期(P2)的序列，使得最远离基底(S)的层子系统(P”’)的第一个高折射率层(H”’)直接接续第二远离所述基底的层子系统(P”)的最后一个高折射率层(H”)，并且/或者，最远离所述基底(S)的层子系统(P”’)的周期(P3)的数目(N3)大于第二远离所述基底(S)的层子系统(P”)的周期(P2)的数目(N2)。本发明还涉及包括这种反射镜(1a；1b；1c)的用于微光刻的投射物镜，并且还涉及包括这种投射物镜的投射曝光设备。

公开(公告)号：CN102385257A

公开(公告)日：2012-03-21

申请号：CN201110254363.4

申请日：2011-08-31

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： 迈克尔.莱 ,  乌多.丁格

IPC: G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G03F7/00

CPC classification number: G21K1/06 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70891 ,  G21K2201/065 ,  G21K2201/067

Abstract: 一种收集且传输来自EUV辐射源的辐射的EUV集光器(15)包括：至少一个反射EUV辐射源的发射的集光器反射镜(23)，其被关于中轴(24)旋转对称配置；以及冷却该至少一个集光器反射镜(23)的冷却装置(26)，其中该冷却装置(26)包括至少一个冷却元件(27)，所述冷却元件各自具有关于集光器反射镜(23)的巷道，以使得所述巷道在垂直于中轴(24)的平面内的投影具有主方向，所述主方向和预先确定的优选方向(29)一起包围至多为20°的角度。由集光器(15)传输以用来照明物场的辐射的质量由所述类型的集光器(15)改善。