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公开(公告)号：CN102327119B
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：CN201110145877.6
申请日：2011-06-01
Applicant: 西门子公司
Inventor： 菲利普.伯恩哈特
IPC: A61B6/00
CPC classification number: G21K1/06 , A61B6/4035 , A61B6/4441 , A61B6/544 , B82Y10/00 , G21K2201/061 , G21K2201/062 , G21K2201/067
Abstract: 对于具有高的射线强度的准单色X射线，设置用于产生用于照射对象的准单色X射线的X射线装置，该X射线装置具有用于发送多色X射线的点状的射线源和用于衍射多色X射线的衍射装置，该衍射装置具有由具有平的表面的结晶材料构成的超镜，在该超镜中，结晶材料具有晶格的晶格层面距离的至少一个、特别是连续的变化，其中这样布置射线源和衍射装置，使得从多色X射线通过在超镜上的部分反射产生准单色X射线。
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公开(公告)号：CN101968609B
公开(公告)日：2014-09-10
申请号：CN201010265577.7
申请日：2007-09-18
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司 , ASML荷兰有限公司
Inventor： D·H·埃姆 , S·米勒伦德 , T·施泰因 , J·H·J·莫尔斯 , B·T·沃尔斯施里金 , D·克劳斯 , R·维尔斯路易斯 , M·G·H·迈耶因克
CPC classification number: G03B27/16 , B82Y10/00 , G03F7/70841 , G03F7/70883 , G03F7/70916 , G21K2201/061
Abstract: 本发明涉及一种光学装置，特别是一种用于EUV光刻的投影曝光设备(1)，包括：围住内部空间(15)的外壳(2)；至少一个布置在所述外壳(2)中的光学元件(4至10，12，14.1至14.6)，特别是反射光学元件；至少一个用于在所述外壳(2)的所述内部空间(15)中产生真空的真空产生单元(3)；以及至少一个真空外壳(18，18.1至18.10)，布置在所述外壳(2)的所述内部空间(15)中，并且至少围住所述光学元件(4至10，12，14.1至14.5)的光学表面(17，17.1，17.2)，其中，污染降低单元与所述真空外壳(18.1至18.10)关联，相对于所述内部空间(15)中的所述污染物质的分压，所述污染降低单元降低至少在所述光学表面(17，17.1，17.2)附近处污染物质的分压，特别是水和/或碳氢化合物的分压。
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公开(公告)号：CN101356589B
公开(公告)日：2013-02-27
申请号：CN200680036327.8
申请日：2006-07-31
Applicant: 纽约州立大学研究基金会 , X射线光学系统公司
CPC classification number: B82Y10/00 , G21K1/06 , G21K7/00 , G21K2201/061 , G21K2201/062 , G21K2201/064
Abstract: 一种X射线成像系统，包括具有至少一个将从X射线源300发出的X射线引向焦点360的点聚焦、弯曲单色光学器件320的光学设备。该至少一个点聚焦、弯曲单色光学器件提供指向焦点的聚焦单色X射线束，并且探测器350与该聚焦单色X射线对准。当对象340置于聚焦单色X射线束范围内的光学设备和探测器之间时，该光学设备有助于进行对象的X射线成像。在各种实施例中：每个点聚焦、弯曲单色光学器件具有双弯曲的光学表面；该光学设备有助于根据对象和探测器相对于焦点的放置进行被动式的图像缩小或者放大；并且可采用至少一个第二点聚焦、弯曲单色光学器件以有助于进行对象的折射率或者偏振束成像。
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公开(公告)号：CN101356589A
公开(公告)日：2009-01-28
申请号：CN200680036327.8
申请日：2006-07-31
Applicant: 纽约州立大学研究基金会 , X射线光学系统公司
CPC classification number: B82Y10/00 , G21K1/06 , G21K7/00 , G21K2201/061 , G21K2201/062 , G21K2201/064
Abstract: 一种X射线成像系统，包括具有至少一个将从X射线源300发出的X射线引向焦点360的点聚焦、弯曲单色光学器件320的光学设备。该至少一个点聚焦、弯曲单色光学器件提供指向焦点的聚焦单色X射线束，并且探测器350与该聚焦单色X射线对准。当对象340置于聚焦单色X射线束范围内的光学设备和探测器之间时，该光学设备有助于进行对象的X射线成像。在各种实施例中：每个点聚焦、弯曲单色光学器件具有双弯曲的光学表面；该光学设备有助于根据对象和探测器相对于焦点的放置进行被动式的图像缩小或者放大；并且可采用至少一个第二点聚焦、弯曲单色光学器件以有助于进行对象的折射率或者偏振束成像。
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公开(公告)号：CN107408417B
公开(公告)日：2019-06-21
申请号：CN201680018150.2
申请日：2016-03-23
Applicant: 株式会社理学
Inventor： 河原直树
IPC: G21K1/06 , G01N23/223
CPC classification number: G01N23/223 , G01N23/207 , G01N23/22 , G01N2223/315 , G21K1/06 , G21K1/062 , G21K1/067 , G21K2201/06 , G21K2201/061 , G21K2201/062 , G21K2201/064 , G21K2201/067
Abstract: 本发明的双重弯曲X射线分光元件(1)夹持于凸模成形夹具(21)所具有的双重弯曲凸面(21a)、与凹模成形夹具(22)所具有的与双重弯曲凸面(21a)吻合的双重弯曲凹面(22a)之间，在加热到400℃～600℃、按照具有双重弯曲面的形状而变形的玻璃板(3)的凹面(3a)上，形成反射X射线的反射膜(5)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106128540A
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：CN201610490788.8
申请日：2011-10-21
Applicant: 浜松光子学株式会社
CPC classification number: G21K4/00 , B82Y10/00 , G01N23/04 , G01T1/2008 , G01T3/06 , G21K2201/061
Abstract: 本发明的闪烁器面板(1)是响应于透过了对象物(A)的放射线的入射而使闪烁光放射的平板状的构件，在对闪烁光进行聚光并摄像的图像取得装置所使用的闪烁器面板中，具备：使放射线透过的平面状的隔板(2)、配置在隔板(2)的一个面(2a)上且将放射线变换成闪烁光的平板状的闪烁器(3)、以及配置在隔板(2)的另一面(2b)上，将放射线变换成闪烁光的平板状的闪烁器(4)。
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公开(公告)号：CN103229248B
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201180056893.6
申请日：2011-09-13
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
IPC: G21K1/06
CPC classification number: G02B5/0891 , B82Y10/00 , G03F7/70316 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/061
Abstract: 本发明涉及一种包含基底(S)和层布置的反射镜(la;la’;lb;lb’;lc;lc’)，其中将所述层布置设计为使得以至少在0°和30°之间的入射角入射于反射镜(la;la’;lb;lb’;lc;lc’)上的、波长小于250nm的光(32)的强度被反射超过20%，以及所述层布置包含至少一个表面层系(P’’’)，其由单独层的至少两个周期(P3)的周期序列构成，其中所述周期(P3)包含由不同材料构成的两个单独层，该不同材料用于高折射率层(H’’’)和低折射率层(L’’’)，其中所述层布置包含至少一个由石墨烯构成的层(G、SPL、B)。此外，本发明涉及在光学元件上使用石墨烯(G、SPL、B)，用于将表面粗糙度降低至少于0.1nm rms HSFR，和/或用于保护EUV波长范围内的光学元件不遭受辐射导致的不可逆的体积变化大于1%，及/或作为阻挡层，用于在EUV波长范围中防止所谓的多层反射镜的层之间的相互扩散。
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公开(公告)号：CN105280263A
公开(公告)日：2016-01-27
申请号：CN201510442291.4
申请日：2015-07-24
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: A61B6/484 , A61B6/032 , A61B6/4035 , C25D5/02 , G21K1/062 , G21K1/067 , G21K1/10 , G21K2201/061 , G21K2201/067 , G21K2207/005
Abstract: 结构体，其包括：具有多个凹部的硅基板，每个凹部具有底部和侧壁；硅化物层，每个硅化物层与凹部的底部接触；和包括金属部的金属结构体，每个金属部设置在凹部中并且与硅化物层接触。通过硅基板将硅化物层彼此电连接。
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公开(公告)号：CN101495921B
公开(公告)日：2013-08-07
申请号：CN200780027669.8
申请日：2007-09-18
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司 , ASML荷兰有限公司
Inventor： D·H·埃姆 , S·米勒伦德 , T·施泰因 , J·H·J·莫尔斯 , B·T·沃尔斯施里金 , D·克劳斯 , R·维尔斯路易斯 , M·G·H·迈耶因克
CPC classification number: G03B27/16 , B82Y10/00 , G03F7/70841 , G03F7/70883 , G03F7/70916 , G21K2201/061
Abstract: 本发明涉及一种光学装置，特别是一种用于EUV光刻的投影曝光设备(1)，包括：围住内部空间(15)的外壳(2)；至少一个布置在所述外壳(2)中的光学元件(4至10，12，14.1至14.6)，特别是反射光学元件；至少一个用于在所述外壳(2)的所述内部空间(15)中产生真空的真空产生单元(3)；以及至少一个真空外壳(18，18.1至18.10)，布置在所述外壳(2)的所述内部空间(15)中，并且至少围住所述光学元件(4至10，12，14.1至14.5)的光学表面(17，17.1，17.2)，其中，污染降低单元与所述真空外壳(18.1至18.10)关联，相对于所述内部空间(15)中的所述污染物质的分压，所述污染降低单元降低至少在所述光学表面(17，17.1，17.2)附近处污染物质的分压，特别是水和/或碳氢化合物的分压。
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公开(公告)号：CN103137233A
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201210504371.4
申请日：2012-11-30
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G21K1/06
CPC classification number: G21K1/062 , G21K1/06 , G21K2201/061
Abstract: 本发明涉及X射线波导和X射线波导系统。X射线波导包括具有弯曲部分的芯部和包层。芯部具有与引导方向垂直地周期性地排列分别具有不同的折射率实部的物质的周期性结构。芯部-包层界面处的全反射临界角比归因于周期性结构的X射线的布拉格角大，周期性结构中的物质界面处的全反射临界角比布拉格角小。满足下式： 这里，s是与引导方向垂直并与弯曲部分的曲率半径平行的方向的芯部宽度，nlow是具有最小的折射率实部的物质的折射率实部，nhigh是具有最大的折射率实部的物质的折射率实部，并且R是曲率半径。
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