公开(公告)号：TW201514469A

公开(公告)日：2015-04-16

申请号：TW103127678

申请日：2014-08-12

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： 莫沙維特 詩為德 伊曼 ,  MOSSAVAT, SEYED IMAN ,  克瑞馬 雨果 奧格斯提納斯 約瑟夫 ,  CRAMER, HUGO AUGUSTINUS JOSEPH ,  谷真 威稜 珍 ,  GROOTJANS, WILLEM JAN ,  凡 力司特 雅得安 喬漢 ,  VAN LEEST, ADRIAAN JOHAN

IPC: G01N21/84 ,  G01B11/24

CPC classification number: G03F7/705 ,  G01N21/956 ,  G01N21/95607 ,  G03F7/70625 ,  G03F9/7092

Abstract: 本發明提供用於評估一結構之一注意參數之一值之一重建品質的方法及檢測裝置及電腦程式產品，其可應用於(例如)顯微結構之度量衡中。重要的是，該重建提供該結構之一注意參數(例如，一臨界尺寸(CD))之一值，該值在該經重建值用以監視及/或控制一微影程序時係準確的。此為一種無需使用一掃描電子顯微鏡的藉由如下操作來評估一結構之一注意參數之一值之一重建品質的方式：使用結構之參數之經重建值來預測結構之該注意參數之值，且比較該注意參數之該等經預測值與該注意參數之該等經重建值。

Abstract in simplified Chinese: 本发明提供用于评估一结构之一注意参数之一值之一重建品质的方法及检测设备及电脑进程产品，其可应用于(例如)显微结构之度量衡中。重要的是，该重建提供该结构之一注意参数(例如，一临界尺寸(CD))之一值，该值在该经重建值用以监视及/或控制一微影进程时系准确的。此为一种无需使用一扫描电子显微镜的借由如下操作来评估一结构之一注意参数之一值之一重建品质的方式：使用结构之参数之经重建值来预测结构之该注意参数之值，且比较该注意参数之该等经预测值与该注意参数之该等经重建值。

公开(公告)号：TWI460546B

公开(公告)日：2014-11-11

申请号：TW098118100

申请日：2009-06-01

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： 葉軍 ,  YE, JUN ,  曹育 ,  CAO, YU ,  古森 羅納德 約翰尼斯 吉斯伯特斯 ,  GOOSSENS, RONALDUS JOHANNES GIJSBERTUS ,  簫雯靜 ,  SHAO, WENJIN ,  庫曼 詹姆士 派崔克 ,  KOONMEN, JAMES PATRICK

IPC: G03F7/20

CPC classification number: B29C67/0088 ,  B29C64/386 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70458 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70525 ,  G06F17/50 ,  G06F17/5009 ,  G06F17/5081

公开(公告)号：TWI295070B

公开(公告)日：2008-03-21

申请号：TW091136516

申请日：2002-12-18

Applicant: ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： 伊姆 邦 派屈克 關 YIM BUN PATRICK KWAN

IPC: H01L

CPC classification number: G03F7/70466 ,  B41C1/1083 ,  Y10T428/24802

Abstract: 在此提供一種用以執行場域接場域(field-by-field)多次曝照之裝置製造方法。在此方法中，可照射一基板之每一標的部位(或場域)，同時保持高重疊精確度。或者，當每一標的部位以相同方式曝照時，可以確保在基板上之特徵尺寸具有相當高的重製率。再者，亦提供一光罩平台，以固定複數個光罩，在該光罩平台上，光罩係沿著一大致垂直於一掃描方向之方向而並排配置。此一設計可以進行場域接場域多次曝照，而不會造成產能損失。

Abstract in simplified Chinese: 在此提供一种用以运行场域接场域(field-by-field)多次曝照之设备制造方法。在此方法中，可照射一基板之每一标的部位(或场域)，同时保持高重叠精确度。或者，当每一标的部位以相同方式曝照时，可以确保在基板上之特征尺寸具有相当高的重制率。再者，亦提供一光罩平台，以固定复数个光罩，在该光罩平台上，光罩系沿着一大致垂直于一扫描方向之方向而并排配置。此一设计可以进行场域接场域多次曝照，而不会造成产能损失。

公开(公告)号：TWI294993B

公开(公告)日：2008-03-21

申请号：TW090111734

申请日：2001-05-16

Applicant: ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： 馬帝諾斯 安尼斯 威廉 古伊波斯 MARTINUS AGNES WILLEM CUIJPERS ,  富蘭克 奧爾 FRANK AUER ,  羅柏特斯 尼可迪莫斯 傑可柏 芬 巴勒高伊 ROBERTUS NICODEMUS JACOBUS VAN BALLEGOIJ

IPC: G03F

Abstract: 一種適用於微影投影裝置之支撐總成包括一活動構件，該構件係以軸頸接合於一外殼中，致使該活動構件與該外殼間幾乎全無振動力之傳遞。該總成包括一裝有氣體之壓力室，其中該壓力室內之氣體可作用於該活動構件，至少部份抵消該活動構件及其所載其他任一物件之重力。該壓力室將獲得氣體之供應，整個總成之構造及配置則可在該活動構件大體上固定不動時，使氣體幾乎完全無法通過該壓力室。該支撐總成可應用於微影投影裝置、載物台、或測量框架。

Abstract in simplified Chinese: 一种适用于微影投影设备之支撑总成包括一活动构件，该构件系以轴颈接合于一外壳中，致使该活动构件与该外壳间几乎全无振动力之传递。该总成包括一装有气体之压力室，其中该压力室内之气体可作用于该活动构件，至少部份抵消该活动构件及其所载其他任一对象之重力。该压力室将获得气体之供应，整个总成之构造及配置则可在该活动构件大体上固定不动时，使气体几乎完全无法通过该压力室。该支撑总成可应用于微影投影设备、载物台、或测量框架。

公开(公告)号：TWI294637B

公开(公告)日：2008-03-11

申请号：TW092110006

申请日：2003-04-29

Applicant: ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： 珍 凡 艾普 JAN VAN ELP ,  彼德 吉森 PETER GIESEN ,  賈克伯 珍 凡 德 維迪 JACOB JAN VAN DER VELDE

IPC: H01L

CPC classification number: G03F7/70708 ,  G03F7/707 ,  G03F7/7095 ,  H01L21/6831

Abstract: 一種具有夾頭的微影投射裝置，其中靜電夾頭之介電元件具有至少1016歐姆厘米(Ωcm)之電阻係數，使得：一旦移除在夾頭的兩個電極之間的電位差，施加在打算被夾緊之物品上的力就會快速地減少低於一預定最小位準。該介電元件也具有小於0.02 x 10-6K-1的熱膨脹係數。也揭露一種用來製造夾頭的方法，該方法包括將一玻璃陶瓷元件和一玻璃元件接合起來的步驟，其中將一電極包夾在其間且有電流流經第二玻璃元件。

Abstract in simplified Chinese: 一种具有夹头的微影投射设备，其中静电夹头之介电组件具有至少1016欧姆厘米(Ωcm)之电阻系数，使得：一旦移除在夹头的两个电极之间的电位差，施加在打算被夹紧之物品上的力就会快速地减少低于一预定最小位准。该介电组件也具有小于0.02 x 10-6K-1的热膨胀系数。也揭露一种用来制造夹头的方法，该方法包括将一玻璃陶瓷组件和一玻璃组件接合起来的步骤，其中将一电极包夹在其间且有电流流经第二玻璃组件。

公开(公告)号：TWI290664B

公开(公告)日：2007-12-01

申请号：TW091136665

申请日：2002-12-19

Applicant: ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： 翰利克斯 荷曼 馬利 考克斯 HENDRIKUS HERMAN MARIE COX ,  富蘭克 奧爾 FRANK AUER ,  馬克 威荷莫斯 馬利亞 凡 德 威斯特 MARC WILHELMUS MARIA VAN DER WIJST ,  巴帝安 史帝芬奈斯 翰利克斯 傑森 BASTIAAN STEPHANUS HENDRIKUS JANSEN ,  多明尼克斯 傑可柏 佩特拉斯 艾利那斯 富蘭肯 DOMINICUS JACOBUS PETRUS ADRIANUS FRANKEN

IPC: G03F

CPC classification number: G03F7/70141 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/709

Abstract: 本發明揭示一反應體14、54、64及一驅動器15、55、65，其係用於在一微影投影裝置的一投影系統內，以減少一光學元件10、50、60不必要的振動。該反應體14、54、64可機械性地僅與該光學元件50、60相連，或柔性地安裝於該投影系統框架11上。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一反应体14、54、64及一驱动器15、55、65，其系用于在一微影投影设备的一投影系统内，以减少一光学组件10、50、60不必要的振动。该反应体14、54、64可机械性地仅与该光学组件50、60相连，或柔性地安装于该投影系统框架11上。

公开(公告)号：TWI285299B

公开(公告)日：2007-08-11

申请号：TW091106167

申请日：2002-03-28

Applicant: ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： 喬瑟夫 馬利亞 范德斯 JOZEF MARIA FINDERS

IPC: G03F

CPC classification number: G03F7/70558 ,  G03F7/70458 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70991

Abstract: 本發明揭示一種微影製造方法，其中會取得第一微影投射裝置之第一微影轉換函數中的第一資訊。該資訊係與第二微影投射裝置之第二微影轉換函數中的第二資訊作比較作為參考。會計算該第一及第二資訊之間的差異。接著會計算為將該差異減到最小程度該第一微影投射裝置之機器設定所需要作的改變並且應用在該第一微影投射裝置中，因此任何與間距有關的特徵誤差之第一及第二微影裝置之間的匹配便可獲得改善。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种微影制造方法，其中会取得第一微影投射设备之第一微影转换函数中的第一信息。该信息系与第二微影投射设备之第二微影转换函数中的第二信息作比较作为参考。会计算该第一及第二信息之间的差异。接着会计算为将该差异减到最小程度该第一微影投射设备之机器设置所需要作的改变并且应用在该第一微影投射设备中，因此任何与间距有关的特征误差之第一及第二微影设备之间的匹配便可获得改善。

公开(公告)号：TWI267694B

公开(公告)日：2006-12-01

申请号：TW091116460

申请日：2002-07-23

Applicant: ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： 艾諾 珍 布力克 ARNO JAN BLEEKER ,  皮特 威廉 荷曼 迪 札哲 PIETER WILLEM HERMAN DE JAGER ,  傑森 道格拉斯 希特斯坦那 JANSON DOUGLAS HINTERSTEINER ,  柏格特 克魯辛卡 BORGERT KRUIZINGA ,  巴特 史尼迪斯 BARTSNIJDERS ,  馬克 歐可史基 MARK OSKOTSKY ,  里夫 萊希克夫 LEV RYZHIKOV ,  里夫 沙金 LEV SAKIN ,  史塔尼拉夫 史莫諾夫 STANISLAV SMIRNOV ,  卡瑞爾 迪德力克 凡 迪 馬斯特 KAREL DIEDERICK VAN DER MAST ,  修柏特 菲瑟 HUIBERT VISSER ,  馬休 尤金 麥卡西 MATTHEW EUGENE MCCARTHY

IPC: G03F ,  G03B

CPC classification number: G03F7/70283 ,  G03F7/70291

Abstract: 一種成像裝置，包含：
- 一輻射系統，用以提供一輻射之投影光束；
- 一支撐結構，用以支撐圖樣化裝置，該圖樣化裝置
根據一要求圖樣以將該投影光束圖樣化；
- 一基材平台，用以夾持一基材；
- 一投影系統，用以投影該圖樣化光束於該基材之目
標部分，其中：
- 該圖樣化裝置包含多數個獨立圖樣化次元件，其每
個係用以產生一圖樣化次光束；及
- 該裝置包含結合裝置，用以結合該複數個圖樣化次
光束變成單一圖樣影像。

Abstract in simplified Chinese: 一种成像设备，包含： - 一辐射系统，用以提供一辐射之投影光束； - 一支撑结构，用以支撑图样化设备，该图样化设备 根据一要求图样以将该投影光束图样化； - 一基材平台，用以夹持一基材； - 一投影系统，用以投影该图样化光束于该基材之目 标部分，其中： - 该图样化设备包含多数个独立图样化次组件，其每 个系用以产生一图样化次光束；及 - 该设备包含结合设备，用以结合该复数个图样化次 光束变成单一图样影像。

公开(公告)号：TWI266148B

公开(公告)日：2006-11-11

申请号：TW091102103

申请日：2002-02-06

Applicant: ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： 馬可斯 艾米爾 喬恩尼斯 邦曼 MARCUS EMILE JOANNES BOONMAN ,  喬哈納斯 卡沙利那斯 胡柏特斯 莫肯斯 JOHANNES CATHARIINUS HUBERTUS MULKENS ,  漢斯 布勒 HANS BUTLER

IPC: G03F

CPC classification number: G03F7/703 ,  G03F7/70258

Abstract: 在微影裝置中焦點平面的形狀係使用投射透鏡系統中可用的操縱器進行調整使得其與曝光區域中的晶圓表面的形狀非常的一致。焦點平面形狀的控制可以與決定該晶圓表面高度及傾斜度之水平控制(leveling control)整合。

Abstract in simplified Chinese: 在微影设备中焦点平面的形状系使用投射透镜系统中可用的操纵器进行调整使得其与曝光区域中的晶圆表面的形状非常的一致。焦点平面形状的控制可以与决定该晶圆表面高度及倾斜度之水平控制(leveling control)集成。

公开(公告)号：TWI264614B

公开(公告)日：2006-10-21

申请号：TW091102449

申请日：2002-02-08

Applicant: ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B.V. ,  卡爾塞斯(SMT)半導體製造科技公司 CARL ZEISS SMT AG

Inventor： 喬哈奈斯 傑可柏 馬修 巴瑟曼斯 JOHANNES JACOBUS MATHEUS BASELMANS ,  馬可 修格 佩魯斯 摩爾斯 MARCO HUGO PETRUS MOERS ,  漢斯 凡 德 蘭 HANS VAN DER LAAN ,  羅柏特 威翰 威萊克斯 ROBERT WILHELM WILLEKERS ,  威萊莫斯 佩魯斯 迪 柏伊 WILHELMUS PETRUS DE BOEIJ ,  馬可斯 艾利納斯 凡 迪 克哈夫 MARCUS ADRIANUS VAN DE KERKHOF

IPC: G03F ,  G01M

CPC classification number: G01M11/0264 ,  G01M11/0285 ,  G03F7/706

Abstract: 一微影投射裝置包括一發光系統、一固定光罩的支撐結構、一固定基板的基板台、一用於將圖案投射到基板的目標部份上之投射系統及一用於測量投射系統波前像差的干涉測量系統，其中該干涉測量系統包括：一光柵，其在光柵平面上具有一光柵圖案，該光柵可移動進入及退出投射光束，致使光柵平面幾乎與該物面一致、一針孔，其在針孔平面上具有一針孔圖案並配置在一針孔板內，該針孔可移動進入及退出投射光束，致使針孔平面幾乎與投射系統下游平面一致並且與該物體平面以光相接合，以及一偵測器，其具有一幾乎與偵測平面一致的偵測器表面，該偵測平面位於針孔下游的一位置上，其投射光束的電場幅度空間分佈幾乎為針孔平面內投射光束電場幅度的空間分佈之傅立葉轉換。

Abstract in simplified Chinese: 一微影投射设备包括一发光系统、一固定光罩的支撑结构、一固定基板的基板台、一用于将图案投射到基板的目标部份上之投射系统及一用于测量投射系统波前像差的干涉测量系统，其中该干涉测量系统包括：一光栅，其在光栅平面上具有一光栅图案，该光栅可移动进入及退出投射光束，致使光栅平面几乎与该物面一致、一针孔，其在针孔平面上具有一针孔图案并配置在一针孔板内，该针孔可移动进入及退出投射光束，致使针孔平面几乎与投射系统下游平面一致并且与该物体平面以光相接合，以及一侦测器，其具有一几乎与侦测平面一致的侦测器表面，该侦测平面位于针孔下游的一位置上，其投射光束的电场幅度空间分布几乎为针孔平面内投射光束电场幅度的空间分布之傅里叶转换。