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公开(公告)号：TW202030761A
公开(公告)日：2020-08-16
申请号：TW108145372
申请日：2018-07-25
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 任偉明 , REN, WEIMING , 劉學東 , LIU, XUEDONG , 胡學讓 , HU, XUERANG , 羅希楠 , LUO, XINAN , 陳 仲瑋 , CHEN, ZHONGWEI
IPC: H01J37/153 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J37/147 , H01J37/14 , H01L21/66
Abstract: 本發明提供用於補償一單光束或多光束裝置中之一光束分離器之分散的系統及方法。本發明之實施例提供一種分散器件，其包含經組態以誘發一光束分散之一靜電偏轉器及一磁偏轉器，該光束分散經設定以消除由該光束分離器產生之該分散。該靜電偏轉器及該磁偏轉器之組合可用以在該誘發光束分散改變以補償由該光束分離器產生之該分散之一改變時使歸因於該分散器件之偏轉角保持不變。在一些實施例中，歸因於該分散器件之該偏轉角可被控制為零，且不存在歸因於該分散器件之初級束軸改變。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供用于补偿一单光束或多光束设备中之一光束分离器之分散的系统及方法。本发明之实施例提供一种分散器件，其包含经组态以诱发一光束分散之一静电偏转器及一磁偏转器，该光束分散经设置以消除由该光束分离器产生之该分散。该静电偏转器及该磁偏转器之组合可用以在该诱发光束分散改变以补偿由该光束分离器产生之该分散之一改变时使归因于该分散器件之偏转角保持不变。在一些实施例中，归因于该分散器件之该偏转角可被控制为零，且不存在归因于该分散器件之初级束轴改变。
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公开(公告)号：TW202030559A
公开(公告)日：2020-08-16
申请号：TW109106987
申请日：2017-12-15
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 海依根 羅夫 提摩休斯 , HUIJGEN, RALPH TIMOTHEUS , 基亞 馬克 朱立安 , KEA, MARC JURIAN , 凡 凱塞爾 馬歇爾 希爾多斯 瑪利亞 , VAN KESSEL, MARCEL THEODORUS MARIA
Abstract: 本發明提供一種用於判定參照一基板之一特徵之一位置的方法、系統及程式。該方法包含：量測該特徵之一位置；接收該特徵之一預期置放；及基於參照一基板上之一第一層之一第一參考特徵相對於參照一基板上之一第二層之一第二參考特徵的一相對位置的知識而判定一置放誤差之一估計。可使用經更新位置以定位包含該特徵的該基板之該層，或該基板之另一層，或另一基板之另一層。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种用于判定参照一基板之一特征之一位置的方法、系统及进程。该方法包含：量测该特征之一位置；接收该特征之一预期置放；及基于参照一基板上之一第一层之一第一参考特征相对于参照一基板上之一第二层之一第二参考特征的一相对位置的知识而判定一置放误差之一估计。可使用经更新位置以定位包含该特征的该基板之该层，或该基板之另一层，或另一基板之另一层。
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公开(公告)号：TWI701696B
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：TW107134290
申请日：2018-09-28
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 劉學東 , LIU, XUEDONG
IPC: H01J3/18
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公开(公告)号：TWI700562B
公开(公告)日：2020-08-01
申请号：TW108105946
申请日：2019-02-22
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
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公开(公告)号：TWI699615B
公开(公告)日：2020-07-21
申请号：TW107109407
申请日：2018-03-20
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 庫博曼 安卓尼斯 康納力司 馬修士 , KOOPMAN, ADRIANUS CORNELIS MATHEUS , 米德克魯克斯 史考特 安德森 , MIDDLEBROOKS, SCOTT ANDERSON , 蔻妮 威樂 馬力 朱立亞 麻索 , COENE, WILLEM MARIE JULIA MARCEL
IPC: G03F1/84 , G03F7/20 , G01N21/956
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：TWI698719B
公开(公告)日：2020-07-11
申请号：TW107146306
申请日：2018-12-21
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
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公开(公告)号：TWI698717B
公开(公告)日：2020-07-11
申请号：TW106140677
申请日：2017-11-23
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 維倫奇 維努夠頗 , VELLANKI, VENUGOPAL , 陳炳德 , CHEN, BEEN-DER
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公开(公告)号：TWI698704B
公开(公告)日：2020-07-11
申请号：TW108103547
申请日：2019-01-30
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V. , 荷蘭商ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V.
Inventor： 史古登 伯特 德克 , SCHOLTEN, BERT DIRK , 艾堅達 薩帝許 , ACHANTA, SATISH , 阿克丘林 艾雅達爾 , AKCHURIN, AYDAR , 安東諾夫 比瓦多 , ANTONOV, PAVLO , 柏提斯 寇音 修伯特 邁修斯 , BALTIS, COEN HUBERTUS MATHEUS , 鮑克奈格特 傑羅伊恩 , BOUWKNEGT, JEROEN , 法爾 安 蘇菲 M , FARLE, ANN-SOPHIE M. , 梅森 克里斯多福 約翰 , MASON, CHRISTOPHER JOHN , 巴勒摩 羅夫 尼可拉斯 , PALERMO, RALPH NICHOLAS , 波伊茲 湯瑪士 , POIESZ, THOMAS , 凡 迪 威弗 尤里 喬哈奈 賈瑞爾 , VAN DE VIJVER, YURI JOHANNES GABRIEL , 凡 迪 溫可 吉米 馬特斯 威哈幕斯 , VAN DE WINKEL, JIMMY MATHEUS WILHELMUS
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公开(公告)号：TW202022485A
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：TW108130681
申请日：2019-08-27
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V. , 美商ASML美國公司 , ASML US, LLC
Abstract: 一種用於最佳化一二元光罩圖案之方法包括藉由一處理器基於一設計圖案與一基板圖案之間的一比較而判定一評估值，該基板圖案係基於該二元光罩圖案而模擬。該方法亦包括基於該評估值，藉由該處理器使用一基於梯度之最佳化方法以產生一第一經調整二元光罩圖案。該方法亦包括藉由該處理器基於該設計圖案與一第一經更新基板圖案之間的一比較而判定一第一經更新評估值，該第一經更新基板圖案係基於該第一經調整二元光罩圖案而模擬。該方法亦包括基於該第一經更新評估值，藉由該處理器使用一黑塞矩陣與一任意向量之一乘積以產生一第二經調整二元光罩圖案。該方法亦包括藉由該處理器基於該第二經調整二元光罩圖案而模擬一第二經更新基板圖案。
Abstract in simplified Chinese: 一种用于最优化一二元光罩图案之方法包括借由一处理器基于一设计图案与一基板图案之间的一比较而判定一评估值，该基板图案系基于该二元光罩图案而仿真。该方法亦包括基于该评估值，借由该处理器使用一基于梯度之最优化方法以产生一第一经调整二元光罩图案。该方法亦包括借由该处理器基于该设计图案与一第一经更新基板图案之间的一比较而判定一第一经更新评估值，该第一经更新基板图案系基于该第一经调整二元光罩图案而仿真。该方法亦包括基于该第一经更新评估值，借由该处理器使用一黑塞矩阵与一任意矢量之一乘积以产生一第二经调整二元光罩图案。该方法亦包括借由该处理器基于该第二经调整二元光罩图案而仿真一第二经更新基板图案。
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公开(公告)号：TWI694487B
公开(公告)日：2020-05-21
申请号：TW107106250
申请日：2015-01-26
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 亨奇史蒂芬 , HUNSCHE,STEFAN , 維倫奇維努 , VELLANKI,VENU
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
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