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    TREATMENT OF SOLS, GELS, MIXTURES OR COMPOSITES OF SOLS AND GELS, AND/OR SOL-GEL DERIVED MATERIALS
    111.
    发明申请
    TREATMENT OF SOLS, GELS, MIXTURES OR COMPOSITES OF SOLS AND GELS, AND/OR SOL-GEL DERIVED MATERIALS 审中-公开
    处理溶胶，凝胶，溶胶和凝胶的混合物或复合物，和/或溶胶 - 凝胶衍生材料

    公开(公告)号：WO2002074354A1

    公开(公告)日：2002-09-26

    申请号：PCT/FI2002/000209

    申请日：2002-03-15

    Applicant: BIOXID OY ,  MORITZ, Niko ,  KANGASNIEMI, Ilkka ,  YLI-URPO, Antti ,  PELTOLA, Timo ,  JOKINEN, Mika

    Inventor： MORITZ, Niko ,  KANGASNIEMI, Ilkka ,  YLI-URPO, Antti ,  PELTOLA, Timo ,  JOKINEN, Mika

    IPC: A61L27/28

    CPC classification number: C03B19/12 ,  A61L27/10 ,  C03B23/20 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/42 ,  C03C1/006 ,  C23C26/00 ,  C23C26/02 ,  C23D5/04 ,  C23D15/00

    Abstract: An object of the invention is a method for at least partially treating biologically active sols, gels, mixtures or composites of sols and gels, and/or sol-gel derived materials, said sols, gels, mixtures or composites of sols and gels, and/or sol-gel derived materials comprising OH-groups and being at least partially amorphous, the said treatment being performed with a localised electromagnetic and/or acoustic energy. Other objects of the invention are a method for coating a device with biologically active sols, gels, mixtures or composites of sols and gels, and/or sol-gel derived materials and a method for modifying the biological activity of biologically active sols, gels, mixtures or composites of sols and gels, and/or sol-gel derived materials. All these methods use treatment with localised electromagnetic and/or acoustic energy. The invention also relates to the use of said method for the fabrication of different devices and to the attachment of at least two devices.

    Abstract translation: 本发明的一个目的是用于至少部分处理溶胶和凝胶和/或溶胶 - 凝胶衍生材料的生​​物活性溶胶，凝胶，混合物或复合物的方法，所述溶胶，凝胶，混合物 或溶胶和凝胶的复合物，和/或包含OH-基团并且至少部分为无定形的溶胶 - 凝胶衍生材料，所述处理以局部电磁和/或声能进行。 本发明的其它目的是用生物活性溶胶，凝胶，溶胶和凝胶的混合物或复合物和/或溶胶 - 凝胶衍生的材料涂覆装置的方法和改变生物活性溶胶，凝胶， 溶胶和凝胶的混合物或复合物，和/或溶胶 - 凝胶衍生材料。 所有这些方法都使用局部电磁和/或声能的治疗。 本发明还涉及所述方法用于制造不同装置和附接至少两个装置的用途。

    FUSED SiO2-TiO2 GLASS METHOD
    113.
    发明申请
    FUSED SiO2-TiO2 GLASS METHOD 审中-公开
    熔融SiO2-TiO2玻璃法

    公开(公告)号：WO99015468A1

    公开(公告)日：1999-04-01

    申请号：PCT/US1998/018067

    申请日：1998-08-31

    IPC: C03B8/04 ,  C03B19/06 ,  C03B19/09 ,  C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C03B19/00 ,  C03B37/018

    CPC classification number: C03B19/09 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1476 ,  C03B2201/42 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/52 ,  C03C3/06

    Abstract: A method of producing, by flame hydrolysis, a fused silica glass containing titania which comprises delivering a mixture of a silica precursor and a titania precursor in vapor form to a flame, passing the vapor mixture through the flame to form SiO2-TiO2 particles, and depositing the particles within a furnace (40) where they melt to form a solid glass body (44).

    Abstract translation: 通过火焰水解生产含有二氧化钛的熔融石英玻璃的方法，其包括将二氧化硅前体和二氧化钛前体的混合物以蒸汽形式输送到火焰中，使蒸气混合物通过火焰形成SiO 2 -TiO 2颗粒，以及 将所述颗粒沉积在炉子（40）中，在炉子内熔化以形成固体玻璃体（44）。

    VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES ROHLINGS AUS TITAN- UND FLUOR-DOTIERTEM, HOCHKIESELSÄUREHALTIGEM GLAS
    116.
    发明申请
    VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES ROHLINGS AUS TITAN- UND FLUOR-DOTIERTEM, HOCHKIESELSÄUREHALTIGEM GLAS 审中-公开
    用于生产钛和含氟掺杂，高纯石英玻璃空白

    公开(公告)号：WO2015071167A1

    公开(公告)日：2015-05-21

    申请号：PCT/EP2014/073921

    申请日：2014-11-06

    Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

    Inventor： OCHS, Stefan ,  BECKER, Klaus

    IPC: C03B19/06 ,  C03B19/10 ,  C03B20/00

    CPC classification number: C03B19/1461 ,  C03B19/066 ,  C03B19/106 ,  C03B19/1095 ,  C03B19/14 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/54 ,  C03C2204/00 ,  G03F1/24

    Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Rohlings aus Titandotiertem, hochkieselsäurehaltigem Glas mit einem vorgegebenen Fluorgehalt für den Einsatz in der EUV-Lithographie, wobei der thermische Ausdehnungskoeffizient über die Einsatztemperatur möglichst stabil bei Null liegt. Der Verlauf des thermischen Ausdehnungskoeffizienten von Ti-dotiertem Kieselglas hängt von mehreren Einflussfaktoren ab. Neben dem absoluten Titan-Gehalt ist die Verteilung des Titans von großer Bedeutung, wie auch der Anteil und die Verteilung von weiteren Dotierelementen, wie etwa Fluor. Erfindungsgemäß wird ein Verfahren vorgeschlagen, das einen Syntheseprozess umfasst, bei dem fluordotierte TiO 2 -SiO 2 -Sootpartikel erzeugt und durch Konsolidieren und Verglasen zu dem Rohling weiterverarbeitet werden, dadurch gekennzeichnet, dass der Syntheseprozess einen Verfahrensschritt umfasst, bei dem mittels Flammenhydrolyse von Silizium und Titan enthaltenden Ausgangssubstanzen TiO 2 -SiO 2 -Sootpartikel gebildet werden und einen nachfolgenden Verfahrensschritt, in dem die TiO 2 -SiO 2 -Sootpartikel in einem bewegten Pulverbett einem Fluor enthaltenden Reagenz ausgesetzt und zu den fluordotierten TiO 2 -SiO 2 -Sootpartikeln umgesetzt werden.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于制备由钛掺杂，高二氧化硅玻璃坯料与预定氟含量在EUV光刻，其中，在所述工作温度的热膨胀系数尽可能为零作为稳定的用途。 的Ti掺杂的石英玻璃的热膨胀系数的过程取决于几个因素。 除了绝对钛含量，钛的分布是非常重要的，以及其它的掺杂元素，如氟的比例和分布。 根据提出了一种方法的本发明，其包括合成过程中氟掺杂TiO2-SiO2的烟尘颗粒产生并进一步通过整合和坯料的玻璃化处理，其特征在于，所述合成方法包括的处理步骤，其中含有硅和钛的火焰水解装置 开始形成TiO2-SiO2的烟灰颗粒材料和随后的方法步骤中，在包含在氟试剂暴露于并与氟掺杂的TiO 2的SiO 2系Sootpartikeln反应的粉末的移动床的TiO2-SiO2的烟灰颗粒。

    チタニア－シリカガラス製ＥＵＶリソグラフィ用フォトマスク基板
    117.
    发明申请
    チタニア－シリカガラス製ＥＵＶリソグラフィ用フォトマスク基板 审中-公开
    TITANIA-SILICA GLASS EUV LITHOGRAPHY的光电子基板

    公开(公告)号：WO2013084978A1

    公开(公告)日：2013-06-13

    申请号：PCT/JP2012/081611

    申请日：2012-12-06

    Applicant: 信越石英株式会社 ,  信越化学工業株式会社

    Inventor： 江崎　正信 ,  上田　哲司 ,  毎田　繁 ,  大塚　久利

    IPC: H01L21/027 ,  C03B8/04 ,  C03B20/00 ,  C03C3/06 ,  G03F1/22

    CPC classification number: C03B19/1423 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1469 ,  C03B23/0006 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/20 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52 ,  G03F1/24

    Abstract: 　ＥＵＶリソグラフィ用フォトマスク基板に要求される高平坦度を有し、プラズマエッチング、イオンビームエッチング等の表面処理に要するコスト、処理時間等を軽減することができる、チタニア－シリカガラス製ＥＵＶリソグラフィ用フォトマスク基板を提供する。　１５２．４×１５２．４×６．３５ｍｍのフォトマスク基板形状で、該基板の中央部１４２．４×１４２．４ｍｍ内の屈折率均質性 Δｎが、３×１０ －４ 以下であり、１５２．４×１５２．４ｍｍ面内の中心部２０×２０ｍｍ内の範囲に屈折率の極大値もしくは極小値を１点のみ持ち、１５２．４×１５２．４ｍｍ面内の中央部１４２．４×１４２．４ｍｍ内の範囲で、最も高い位置と最も低い位置との差が５０ｎｍ以下であるようにした。

    Abstract translation: 提供一种二氧化钛 - 二氧化硅玻璃EUV光刻用光掩模基板，其具有EUV光刻光掩模基板所需的高度的平坦度，并且能够降低诸如等离子体蚀刻和离子束等表面处理所需的成本，处理时间等 蚀刻。 光掩模基板尺寸为152.4×152.4×6.35 mm; 折射率均匀度Deltan在衬底中间部分的142.4×142.4 mm范围内不超过3×10-4; 折射率的一个最大值或最小值在152.4×152.4mm平面内的中心部分的20×20mm的范围内; 在152.4×152.4mm平面内的中间部分的142.4×142.4mm的范围内的最高位置和最低位置之间的差别不大于50nm。

    超低膨張ガラスの製造方法
    119.
    发明申请
    超低膨張ガラスの製造方法 审中-公开
    生产超低膨胀玻璃的方法

    公开(公告)号：WO2011105517A1

    公开(公告)日：2011-09-01

    申请号：PCT/JP2011/054192

    申请日：2011-02-24

    Applicant: 国立大学法人東北大学 ,  櫛引 淳一 ,  荒川 元孝

    Inventor： 櫛引　淳一 ,  荒川　元孝

    IPC: C03B20/00 ,  C03C3/06

    CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/14 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03C2201/23 ,  G01N29/07 ,  G01N29/221 ,  G01N2291/0423

    Abstract: 　所望のTiO 2 濃度のTiO 2 -SiO 2 ガラスインゴットを作製し、そのTiO 2 -SiO 2 ガラスインゴットからサンプルを切り出し、OH濃度C(OH)と、TiO 2 濃度C(TiO 2 )と、仮想温度T F とを測定し、測定したC(OH)、C(TiO 2 )、T F からゼロCTE温度T(zero-CTE)を計算し、そのゼロCTE温度T(zero-CTE)と目標値との差分ΔTが所定の範囲内であるか判定し、所定範囲内であればTiO 2 -SiO 2 ガラスインゴットとは所望のゼロCTE温度を有すると判定し、範囲内でない場合はその差分ΔTに基づいてTiO 2 -SiO 2 ガラスインゴットの製造条件を修正する。

    Abstract translation: 一种超低膨胀玻璃的制造方法，其特征在于，包括：制备具有所需TiO 2浓度的TiO 2 -SiO 2玻璃锭; 从TiO2-SiO2玻璃锭切出样品; 测量OH浓度C（OH），TiO2浓度C（TiO2）和假想温度（TF）; 基于以上测量的C（OH），C（TiO 2）和（TF）计算零CTE温度（T）; 检查零CTE温度（T）和目标值之间的差（ΔT）是否落在预设范围内; 在（ΔT）在该范围内的情况下，将具有所需零CTE温度的TiO 2 -SiO 2玻璃锭参考，或者（ΔT）不在该范围内的情况下， 基于差异（ΔT）制备TiO 2 -SiO 2玻璃锭的条件。

    MIRROR ELEMENTS FOR EUV LITHOGRAPHY AND PRODUCTION METHODS THEREFOR
    120.
    发明申请
    MIRROR ELEMENTS FOR EUV LITHOGRAPHY AND PRODUCTION METHODS THEREFOR 审中-公开
    镜像的镜像元素及其生产方法

    公开(公告)号：WO2011076527A1

    公开(公告)日：2011-06-30

    申请号：PCT/EP2010/068476

    申请日：2010-11-30

    Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  CLAUSS, Wilfried

    Inventor： CLAUSS, Wilfried

    IPC: G02B1/12 ,  G02B7/18 ,  G02B5/08 ,  C03B19/06 ,  C04B35/645 ,  C03B32/00

    CPC classification number: C03C23/0005 ,  C03B32/005 ,  C03B2201/42 ,  C03C17/00 ,  C03C17/40 ,  C03C2218/31 ,  G02B1/12 ,  G02B5/0891 ,  G02B7/181 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/7095 ,  G21K1/062

    Abstract: The invention relates to a method for the production of a mirror element (10) that has a reflective coating (10a) for the EUV wavelength range and a substrate (10b), the method comprising: pre-compacting the substrate (10b) by hot isostatic pressing, and applying the reflective coating (10a) to the pre-compacted substrate (10b). In the method, either the pre-compacting of the substrate (10b) is performed until a saturation value of the compaction of the substrate (10b) by long-term EUV irradiation is reached, or, for further compaction, the pre-compacted substrate (10b) is irradiated, especially homogeneously, with ions (16) and/or with electrons in a surface region (15) in which the coating (10a) has been or will be applied. The invention also relates to a mirror element (10) for the EUV wavelength range having a substrate (10b) pre-compacted by hot isostatic pressing, and to an EUV projection exposure system having at least one such mirror element (10).

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于生产具有用于EUV波长范围的反射涂层（10a）的反射镜元件（10）和基底（10b）的方法，所述方法包括：通过热预加压基底（10b） 等离子体压制，并将反射涂层（10a）施加到预压实的基板（10b）上。 在该方法中，进行基板（10b）的预压实，直到达到通过长期EUV照射的基板（10b）的压实的饱和值，或者为了进一步压缩，预压实基板 （10b）在涂覆（10a）已经或将被施加的表面区域（15）中与离子（16）和/或电子特别均匀地照射。 本发明还涉及一种用于EUV波长范围的反射镜元件（10），其具有通过热等静压压制而预压实的基底（10b），以及具有至少一个这样的镜元件（10）的EUV投影曝光系统。

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